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O Plasma de titânio PVD Máquina de sementeira de Vácuo/plasma de iões de nitreto de Titânio Metallizing equipamento/sistema de revestimento

Tipo: Linha de Produção de Revestimento
Revestimento: Revestimento de Vácuo
Substrato: Stainless Steel ,Glass, Metal, Ceramic, Crystal
Certificação: CE, ISO
Condição: Nova
tipo de máquina: máquina de revestimento pvd de iões de arco múltiplo em aço inoxidável

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Membro de Ouro Desde 2017

Fornecedores com licênças comerciais verificadas

Fabricante / Fábrica, Empresa Comercial

Informação Básica.

N ° de Modelo.
CCZK-ION
tamanho da câmara
pode ser personalizado de acordo com os requisitos de detalhes
aplicação
artigos sanitários, placa de aço inoxidável, material de fixação, etc.
cor do revestimento
dourado, rosa dourado, preto, azul, cor do arco-íris, etc.
película de revestimento
estanho, tic, ticn, tialn, crn, cu, etc
alvo de sputtering
titânio, crómio, zircónio, alumínio de titânio, etc.
gás
azoto, árgon, oxigénio, acetileno
tensão
380 v ou a pedido
pacote
pacote de madeira ou a pedido
pós-venda
formação e oversease grátis após vendas disponíveis
Pacote de Transporte
as Request
Especificação
CCZK-ION
Marca Registrada
CICEL
Origem
Wenzhou China
Código HS
8543300090
Capacidade de Produção
100set/Month

Descrição de Produto

O Plasma de titânio PVD Máquina de sementeira de Vácuo/plasma de iões de nitreto de Titânio Metallizing equipamento/sistema de revestimento
Titanium Plasma PVD Vacuum Plating Machine/Titanium Nitride Ion Plasma Metallizing Coating System/Equipment

descrição do Produto
Titanium Plasma PVD Vacuum Plating Machine/Titanium Nitride Ion Plasma Metallizing Coating System/Equipment

Configuration

Modelo

 

CCZK-700 de iões

 

CCZK-1000 de iões

 

CCZK-1300 de iões

 

CCZK-1600 de iões

 

CCZK-1800 de iões

 

CCZK-2000-ION

 

CCZK-2200 de iões

 

O tamanho da câmara(mm)

 

D700*H700

 

D1000*H1200

 

D1300*H1500

 

D1600*H1800

 

D1800*H2000

 

D2000*H2400

 

D2200*H4000

Sistema de Vácuo

 

Bomba de difusão / Molecular raízes + bomba de estágio duplo + bomba bomba rotativa de driver direto + bomba de exploração + bomba criogénicos(opcional)

Arc

Fonte de alimentação

7ª  Geração

4define

7ª  Geração

8 Define

7ª  Geração

12define

7ª  Geração

16define

7ª  Geração

20define

7ª  Geração

24define

7ª  Geração

40define

Fonte de arco

7ª  Geração

4define

7ª  Geração

8 Define

7ª  Geração

12define

7ª  Geração

16define

7ª  Geração

20define

7ª  Geração

24define

7ª  Geração

40define

Bias

Fonte de alimentação

 

12KW

 

20KW

 

30KW

 

40KW

 

60KW

 

60KW

 

80KW

Gases com efeito de

Sistema de MFC

Sistema de admissão de 4 vias

Sistema de admissão de 4 vias

Sistema de admissão de 4 vias

Sistema de admissão de 4 vias

Sistema de admissão de 4 vias

Sistema de admissão de 4 vias

Sistema de admissão de 4 vias

Sistema de cozedura

 

Até 350C

 

Até 350C

 

Até 350C

 

Até 350C

 

Até 350C

 

Até 350C

 

Até 350C

 

Sistema de Controle

 

A IPC + PLC+IHM + totalmente automático do sistema de controle remoto ( opcional)

 

Limite de vácuo

 

5.0*10-4pa

 

5.0*10-4pa

 

5.0*10-4pa

 

5.0*10-4pa

 

5.0*10-4pa

 

5.0*10-4pa

 

5.0*10-4pa

 

Potência total

 

50KW

 

75KW

 

145KW

 

190KW

 

250KW

 

305KW

 

455KW

 

Coating

Tempo de Ciclo

 

Cerca de 15 a 50 minutos, um ciclo ( consoante a película de revestimento de camada de revestimento de diferentes produtos)

 

O tamanho do contêiner de entrega

 

1Defina 20GP

 

1Defina 20GP

 

1Defina 20GP

 

1Defina 40HQ

 

1Defina 40HQ

 

1Defina 20FR

1Defina 40GP

 

1Defina 20FR

2define 40HQ

 

O tempo de instalação da máquina

 

7 dias

(1engenheiro)

 

7 dias

(1engenheiro)

 

7 dias

(1engenheiro)

 

10dias

(2 Engenheiros)

 

10dias

(2 Engenheiros)

 

15dias

(2 Engenheiros)

 

20dias

(2 Engenheiros)

Customized

Size

Está disponível

         

Customized

Titanium Plasma PVD Vacuum Plating Machine/Titanium Nitride Ion Plasma Metallizing Coating System/Equipment
Aplicação
Titanium Plasma PVD Vacuum Plating Machine/Titanium Nitride Ion Plasma Metallizing Coating System/Equipment
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Capital Registrada
10000000 RMB
Área da Planta
>2000 Metros Quadrados