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Hcvac Magnetron por pulverização catódica revestimento PVD a máquina/o Magnetron por pulverização catódica coater de Vácuo

After-sales Service: Free Installing and Training, Technical Support
Warranty: One Year Limited Warranty
Tipo: PVD Vacuum Coating Machine
Revestimento: Revestimento de Vácuo
Substrato: Aço
Certificação: CE, ISO

Contatar Fornecedor

Membro Diamante Desde 2009

Fornecedores com licênças comerciais verificadas

Fabricante / Fábrica

Informação Básica.

N ° de Modelo.
Magnetron sputter
Condição
Nova
tipo 1
salpicador de magnetrões
modelo
Jt-1214, Jt-1418, Jt-1619, Jt-1820
validação
CE, SGS, TUV
tamanho da câmara
1250 * 1500 mm, 1600 * 1800 mm
tecnologia de revestimento
revestimento de iões multi-arco e pulverização de magnetrões
película de revestimento
estanho, tic, ticn, tialn, crn, cu, au, etc.
cor do revestimento
prata , dourado , preto , rosa dourado , bronze , café
material de revestimento
aço inoxidável, liga metálica, cerâmica, vidro, etc.
aplicação
jóias, relógio, capa do telemóvel, etc..
modo de controlo
controlo automático do ecrã táctil plc
Pacote de Transporte
Wooden Package
Especificação
customized
Marca Registrada
HCVAC
Origem
China Guangdong
Código HS
8543300090

Descrição de Produto

O magnetron por pulverização catódica revestimento PVD a máquina/o Magnetron por pulverização catódica coater de vácuo

O magnetron pulverização catódica

O que é o magnetron pulverização catódica tecnologia?
O magnetron pulverização catódica é outra forma de revestimento PVD tecnologia.

Revestimento de plasma
O magnetron pulverização catódica é um revestimento de plasma processo pelo qual o material de pulverização catódica é ejectado devido ao bombardeamento de íons para superfície do alvo. A câmara de vácuo do revestimento PVD máquina está cheia com um gás inerte, tais como o árgon. Aplicando uma tensão elevada, uma descarga da vela aquecedora é criado, resultando em aceleração dos iões à superfície do alvo e um revestimento de plasma. O árgon íons de ejetará materiais pulverizaça ̃ o da superfície do alvo (pulverização catódica), resultando em um pós metálicos esferulados camada de revestimento sobre os produtos em frente da coroa.

Reactive pulverização catódica
Muitas vezes um gás adicionais tais como o azoto ou acetileno é usado, que reage com o material ejetado (reativo pulverização catódica). Uma vasta gama de pós metálicos esferulados coatings é exequível com este revestimento PVD técnica. O magnetron pulverização catódica tecnologia é muito vantajoso para o revestimento decretive e. G. A Ti, Cr, Zr e nitretos de Carbono), devido à sua natureza suave. A mesma vantagem torna o magnetron pulverização catódica amplamente usado para revestimento tribological nos mercados automotivo e. G., CrN Cr2N e várias combinações com revestimento DLC - Diamond Like Carbon revestimento).

Hcvac Magnetron Sputter PVD Coating Machine/Magnetron Sputter Vacuum Coater

Os campos magnéticos
O magnetron pulverização catódica é um pouco diferente de pulverizaça ̃ o geral de tecnologia. A diferença é que o magnetron pulverização catódica tecnologia utiliza os campos magnéticos para manter o plasma na frente do alvo, intensificando o bombardeamento de íons. Um plasma denso é o resultado deste revestimento PVD tecnologia.

O magnetron pulverização catódica tecnologia é caracterizada por:
Um arrefecido a água alvo, tão pouco calor de radiação é gerado
Quase qualquer alvo metálico material pode ser de pós metálicos esferulados sem a decomposição
Materiais não condutores podem ser pós metálicos esferulados utilizando a frequência de rádio (RF)
Ou de média freqüência (MF)
Os revestimentos de óxido podem ser pós metálicos esferulados (reativo pulverização catódica)
Excelente uniformidade da camada
Muito bom de pós metálicos esferulados revestimentos (gotículas não)
Cátodos (de até 2 metros de comprimento) pode ser colocado em qualquer posição, portanto alta
Flexibilidade de pulverização catódica design do equipamento

Hcvac Magnetron Sputter PVD Coating Machine/Magnetron Sputter Vacuum Coater

Huicheng fabrica e fornece todos os tipos de PVD revestimento de vácuo máquinas. Agora é um líder de mercado no alto vácuo campo de tratamento com os clientes de todo o mundo. Huicheng produz uma gama completa de máquinas, oferecendo diferentes tipos de processos: Alta evaporação a vácuo, multi-arc, DC pulverização catódica, MF magnetron pulverização catódica, contínuo magnetron linha pulverizaça ̃ o...


Indústrias aplicada:

Superfície de revestimento de vácuo para ver&relógio, jewelries, ferramentas, plástico e aço inoxidável sheet...

Hcvac Magnetron Sputter PVD Coating Machine/Magnetron Sputter Vacuum Coater
Hcvac Magnetron Sputter PVD Coating Machine/Magnetron Sputter Vacuum Coater
Hcvac Magnetron Sputter PVD Coating Machine/Magnetron Sputter Vacuum Coater

HCVAC pode ajudar você a inserir o revestimento PVD facilmente através de nossos aspiradores de máquina de revestimento e a gama completa de serviços. Forneceremos mais com a tecnologia adequada de acordo com as suas necessidades.

Faremos o revestimento especial solução para cada cliente; combinar o conjunto completo de técnicas de produção para satisfazer os seus requisitos, a fim de garantir a elevada eficiência de produção.

Hcvac Magnetron Sputter PVD Coating Machine/Magnetron Sputter Vacuum Coater


Contato: Lillian Yang

 


Por favor nos enviar seus requisitos pormenorizados. Vamos fornecer a melhor solução para você!



Os parâmetros técnicos:
Mode
A cota
JTL-900 JTL-1100 JTL-1300 JTL-1600
Φ9001000mm Φ11001000mm Φ13001200 mm Φ16001200 mm
 
Modo de revestimento e modo principal
3 electric-arc + 2 pares de avião cátodo retangular 6 electric-arc + 2 pares de cátodo cilíndrico+a pares de avião cátodo retangular 5 electric-arc+4 pares  de cátodo cilíndrico+a pares de avião cátodo retangular 6 electric-arc+8 pares de cátodo cilíndrico+a pares de avião cátodo retangular
Aplicação Metal revestimento decorativas
Tipos de filme    Filmes de metal,filmes dielétrico,filmes compostos,filmes reacção,Muti-função da camada de filmes
Fonte de alimentação Arco elétrico de alimentação de energia,DC magnetron fonte de alimentação,MF magnetron suprimento de energia.o viés de pulso de tensão de alimentação de energia.ion energia da fonte de alimentação.
Processo de controle de gás Debitómetro de qualidade + electromagnetismo válvula cerâmica
A câmara de vácuo estrutura Único vertical(lado), porta do sistema da bomba postposition, clique duas vezes a água de arrefecimento por ar
Sistema de Vácuo Bomba molécula(bomba de difusão)+Raízes + bomba bomba mecânica  (8.0*10 -4 Pa)
Velocidade de bombagem Tempo de bombeamento de menos de 15 minutos ,a partir de pressão atmosférica a 310 -3 Pa
Peça a temperatura de cozedura  
A temperatura normal para 350 centi-grau de controle PID, radiação aquecimento.
Peça o modo de movimento Rotação do público de controlo de frequência: 0-20 rotação por minuto
Modo de medição Número composto do visor do medidor a vácuo: da atmosfera para 1.0*10 -5 Pa
Modo de controlo Automação completa do sistema de controle PC+PLC/PC+IHM
Observação Podemos projetar a dimensão do equipamento de acordo com os clientes técnica especial exigência.


Por que razão um sistema HCVAC?
 
Mais de 1000 plantas instalados em todo o mundo
Ciclo rápido vezes
Alta capacidade de produção com baixo consumo de energia
Mais tempo devido à facilidade de carregamento/descarregamento e pouca manutenção
Alta produtividade com apenas um único operador
Processo de aço câmaras, construído para durar
Amigo do ambiente
Design compacto
PVD opção disponível em todas as plantas
1 ano de garantia do componente e 12 anos garantias mínimas de vida activa
Concluir a rede global de consultoria e engenharia conhecido após-venda

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