China Rare Metal Material Co., Ltd.

Fabricante / fornecedor de Metal, Metal Raro, Metal de Terras Raras na China.

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Metas de pulverizaça ̃ o de cerâmica

Referência Preço FOB:
US $ 100,00  / Peça
Quantidade Mínima: 1 Peça
Condições de Pagamento: T/T
Marca Registrada: CRM

Descrição de Produto

Informação Básica
  • Tipo : Equipamento de Pulverização de Baixa Pressão e Alto Desempenho
  • Aplicação : Equipamento de Pulverização de Plástico
  • Certificação : ISO
  • Tipo Método : Automático
Informação Adicional.
  • Trademark: CRM
Descrição de Produto

1.1 (alvos cerâmicos Sputtering)
1.1. 1 (materiais de alvo elementares frágeis Sputtering):
B; Bi; Cr; Re; Ru; Sb; SE; Te;
1.1. 2 (alvos Sputtering do óxido):
Al2O3; Bi2O3; Cr2O3; CuO; Cu2O; Fe2O3; Magnetita; HfO2; In2O3; MGO; MoO3; Nb2O5; NbOx; NIO; PbO; Sb2O3; SiO; SiO2; ; Ta2O5, TaOx; TiO; TiOx; TiO2: ZrO2; V2O5; WO3; ZnO; ZrO2;
La2O3; CEO2; ND2O3; Sm2O3; EU2O3; Gd2O3; Tb4O7; Dy2O3; Ho2O3; Er2O3; TM2O3; Yb2O3; Lu2O3; Sc2O3; Y2O3;
1.1. 3 (alvos Sputtering do nitreto):
AlN; BN; HfN; NbN; Si3N4; TaN; TiCN; Lata; VN; ZRN
1.1. 4 (alvos Sputtering do carboneto):
B4C; Cr3C2; HfC; Mo2C; NBC; SIC; TaC; TiC; VC; W2C; WC; WC+Co; WC+Ni; ZrC
1.1. 5 (alvos Sputtering do fluoreto):
BaF2; CaF2; CeF3; DyF3; ErF3; HfF4; LaF3; LiF; MgF2; Na3AlF6; NAF; NdF3; PbF2; PrF3; SMF3; YbF3; YF3
1.1. 6 (alvos Sputtering do Silicide):
CoSi2; CrSi2; HfSi2; MoSi2; NbSi2; NiSi2; TaSi2; TiSi2; VSi2; WSi2; ZrSi2
1.1. 7 (alvos Sputtering do sulfureto):
As2S3; Bi2S3; CDS; CuS; Cu2S; FeS; FeS2; Ga2S3; GeS; In2S3; MOS2; NbS; PbS; Sb2S3; SnS2; TaS2; WS2; ZnS;
1.1. 8 (alvos Sputtering do Boride):
CrB2; Fevereiro; HfB2; LaB6; Mo2B; NdB2; TaB2; TiB2; VB2; WB2; ZrB2
1.1. 9 (alvos Sputtering do Selenide):
As2Se3; Bi2Se3; CdSe; CuSe; CuSe2; Ga2Se3; GeSe; InSe; In2Se3; MoSe2; NbSe2; PbSe; Sb2Se3; TaSe2; WSe2; ZnSe
1.1. 10 (alvos Sputtering do Telluride):
AG2Te; Al2Te3; Al2Te3; As2Te3; Bi2Te3; CdTe; Bonito; Cu2Te; Porta; Ga2Te3; GeTe; In2Te3; MoTe2; NbTe2; PbTe; Sb2Te3; SnTe; TaTe2; TmTe; ZnTe
1.1. 11 (alvos Sputtering da antimonite):
Bi2Sb3; GaSb; InSb; In2Sb3; PbSb
1.1. 12 (outros alvos Multi-Compostos Sputtering da pureza elevada):
AgInS2; AgInTe2; BixSb1-xTe; CdInTe4; CuZnSnS; CIGS (CuInxGa1-xSe2); CIGSS (CuInxGa1-X (SE. S) 2); CuInSe2; GaxAl1-xAs; GeSbTe; PbxSn1-xAs; ZnIn2Te4; ZnxCd1-xTe;
1.1. 13 (outros alvos Sputtering da mistura):
ATO (Sb2O3: SnO2); AZO (ZnO: Al2O3); GZO (ZnO: Ga2O3); IGZO (In2O3+Ga2O3+ZnO); ITO (In2O3: SnO2); IZO (ZnO: In2O3); YSZ (ZrO2: Y2O3); PZT (PbZrO3-PbTiO3)
BaTiO3; SrTiO3; PbTiO3; PbZrO3; SrZrO3; LaAl2O3; LaNbO3; LiNbO3; LSMO; Li3PO4;
Cr-SiO, ZrO2+SiO2; Al2O3+ZrO2; Al2O3+MGO; CaF2+CeF3; CuO+In2O3; Ta2O5+TiO2; Ta2O5+ ZrO2; TiO2+Nb2O5; TiO2+ ZrO2; YAG; YBCO;

China Rare Metal Material Co., Ltd.
Jiangxi , China
Conta Registrada em : 2004
Tipo de Negócio : Fabricante/fábrica

Categoria de Produto