| CAS Nº.: | 75-73-0 |
|---|---|
| Fórmula: | cf4 |
| EINECS: | 75-73-0 |
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O tetrafluorideé um refrigerante criogénico que é relativamente inerte em condições normais, um deslocador de oxigénio, e também é utilizado em vários processos de gravação de bolachas. O CF4 é actualmente o gás de gravação de plasma mais utilizado na indústria de microelectrónica. Pode ser amplamente utilizado na gravação de materiais de película fina, tais como silicone, dióxido de silício, nitreto de silício, vidro fosfosilicato e tungsténio, e na limpeza de superfície de dispositivos electrónicos e células solares. É também amplamente utilizado na produção de tecnologia laser, isolamento de fase gasosa, refrigeração a baixa temperatura, agentes de detecção de fugas, controlo da atitude dos foguetes espaciais e agentes de descontaminação na produção de circuitos impressos.
Devido à estabilidade química do tetrafluoreto de carbono, o tetrafluoreto de carbono pode ser usado em indústrias de fundição de metais e de plástico
Especificações:
| Especificações | Norma da empresa |
| CF4 | ≥ 99.999% |
| O2 E AR | ≤ 1 ppm |
| N2 | ≤ 2 ppm |
| H2 | ≤ 0.3 ppm |
| CO | ≤ 0.3 ppm |
| CO2 | ≤ 0.3 ppm |
| SF6 | ≤ 0.3 ppm |
| THC | ≤ 0.3 ppm |
| OFC | ≤ 1 ppm |
| Umidade | ≤ 1 ppm |
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Chengdu Taiyu Industrial gases Co., Ltd
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