| Costumização: | Disponível |
|---|---|
| Campo de Aplicação: | Aeroespacial, Automotivo, Eletrônicos, Marinha, Dispositivos Médicos, Petróleo e Gás, Geração de energia, Ferrovias |
| Material de revestimento: | Metal |
Fornecedores com licênças comerciais verificadas
Fornecedor Auditado Auditado por uma agência de inspeção terceirizada independente
O coater sputtering do magnetron do alvo único do desktop é um equipamento do coater sputtering do magnetron do desempenho elevado desenvolvido independently por nossa companhia, que tem as características do miniaturization e do estandardization. O alvo magnetron pode ser seleccionado a partir de 1 polegada e 2 polegadas, e os clientes podem escolher de acordo com o tamanho do substrato a ser chapeado; a fonte de alimentação é de 150 W de fonte de alimentação CC, que pode ser utilizada para revestimento de esvaguamento de metal. O instrumento de revestimento está equipado com uma interface de ventilação, que pode ser cheia com gás de proteção. Se o cliente precisar de misturar gás, pode contactar o pessoal para configurar um medidor de fluxo de massa de alta precisão para satisfazer as necessidades da experiência. O instrumento está equipado com um conjunto avançado de bombas moleculares turbo, o vácuo final pode atingir 1,0E-5PA e outros tipos de bombas moleculares também estão disponíveis para compra.
O equipamento pode ser utilizado para preparar filmes ferrelétricos de camada única, películas condutoras, películas de liga, etc. em comparação com equipamento semelhante, este instrumento de revestimento de impacto de magnetron de alvo único é compacto em design, altamente integrado, compacto e pode ser colocado numa mesa para utilização. É um equipamento ideal para a preparação de películas de material no laboratório.
|
nome do produto |
Computador de secretária com um único magnetron-alvo com mesa de amostras recíproca |
||
|
Número do produto |
RJ-MSZ180-50F-DC-Q |
||
|
Mesa de amostras de movimento alternativo |
tamanho |
50 * 100 mm |
|
|
Velocidade de movimento alternativo |
0 ~ 50 mm/s |
||
|
Pistola de mira magnetron |
Plano alvo |
Alvo plano circular |
|
|
Vácuo de entortamento |
10 Pa ~ 0,2 Pa |
||
|
Diâmetro alvo |
2 polegadas |
||
|
Espessura do alvo |
Recomendado 2 ~ 5 mm |
||
|
Temperatura alvo |
< 65ºC |
||
|
Câmara de vácuo |
Tamanho da cavidade |
Cerca de Φ180mm × H 215 mm |
|
|
Material da cavidade |
Quartzo de elevada pureza |
||
|
Janela de observação |
Transparência omnidirecional |
||
|
Método de abertura |
Tampa superior amovível |
||
|
fonte de alimentação |
Fonte de alimentação CC |
150 W máx |
|
|
Quantidade |
1 |
||
|
Sistema de bomba molecular |
Bomba da linha de alimentação
|
Bomba de palheta rotativa |
VRD-4 |
|
Velocidade de bombeamento |
1,1L/S |
||
|
Vácuo máximo |
5 * 10 - 1 Pa |
||
|
Bomba molecular |
Velocidade de bombeamento molecular |
600 L/S |
|
|
Velocidade nominal |
24000 rpm |
||
|
Vácuo máximo |
5 * 10-5PA |
||
|
Valor de vibração |
< 0,1 um |
||
|
Hora de início |
< 4.5min |
||
|
Tempo de inatividade |
< 7 min |
||
|
método de arrefecimento |
Refrigeração a água e a ar |
||
|
Refrigerador de água |
Temperatura da água de refrigeração |
< 37ºC |
|
|
Taxa de fluxo de água de refrigeração |
10 l/min |
||
|
Tensão de alimentação |
AC220 V 50 Hz |
||
Renúncia de responsabilidade: O conteúdo de introdução do produto (incluindo imagens de produtos, descrições de produtos, parâmetros técnicos, etc.) deste site é apenas de referência. Como a atualização pode não ser oportuna, haverá algumas diferenças entre o conteúdo e a situação real. Contacte o nosso pessoal de vendas para confirmar. As informações fornecidas neste site não constituem nenhuma oferta ou promessa, e a empresa irá periodicamente melhorar e modificar as informações do site, sem aviso prévio, por favor entenda.
