Descrição do produto
Este sistema de revestimento é uma estrutura circular da câmara de vácuo, com escape na parte traseira e uma estrutura da porta dianteira, e é feito de aço inoxidável austenítico de alta qualidade. Um (dois) 2-polegada (ou 3-polegada) alvos sputtering do magnetron são instalados na placa superior da câmara de deposição sputtering. A direção do feixe de saída é em direção ao rack de substrato e uma película fina é obtida no substrato. O equipamento tem uma estrutura simples e pode ser utilizado para pesquisar e desenvolver filmes funcionais de camada única e multicamada de nanoescala, tais como filmes duros, filmes de metal, filmes semicondutores, filmes dieléctricos, filmes compostos, películas ferromagnéticas, películas magnéticas e outros novos materiais de película fina. .
Principais parâmetros do sistema
l grau máximo de vácuo: ≤ 6 × 10-5PA (obtido no espaço de 12 horas em condições de limpeza e de cozedura e desgaseificação);
l tempo de aspiração: No espaço de 30 minutos, ≤ 6 × 10 - 4 Pa;
l temperatura de aquecimento do substrato: ≤ 600ºC C;
l tamanho do substrato: ≤ Φ3inch bolacha;
l número de suportes de substrato: 1 conjunto;
l tamanho alvo: 50 mm de diâmetro (opcional 3 polegadas);
l número de alvos: 1 ou 2;
l dimensão da câmara de vácuo: DN250 * 340 (pode ser ajustado adequadamente de acordo com as condições reais);
l distância de deslocação do suporte de substrato: ≤ 50 mm (direcção axial);
l ângulo entre o eixo alvo e o eixo de rotação do substrato: Co-entortamento;
l sistema de gás: Entrada de ar de 2 vias, sendo 1 utilizado para o escape;
Item |
Especificações e Descrição |
Câmara de vácuo |
Câmara de vácuo de entortamento |
DN220 * 320, o tamanho pode ser ajustado de acordo com os requisitos de design, a tampa superior pode ser aberta e a porta pode ser aberta |
Válvula de borboleta de vácuo ultra-elevada
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DN100, controlo eléctrico, função de pressão constante automática opcional
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Bomba molecular
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Bomba molecular 110L/S ou 150L/S
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Bomba mecânica
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A bomba de palheta rotativa DVR16 também serve como bomba de pré-alimentação e bomba de avanço |
Válvula deflectora
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Válvula deflectora electromagnética DN25, tubagem de pré-bomba ligada/desligada
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Válvula de paragem
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válvula de paragem elétrica de interface de virola dupla de 6 mm
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Dispositivo de iluminação e cozedura
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Opcional
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Vários tipos de flanges e janelas de observação
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DN16, 35, 63, 100, 150
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Tubagens de aço inoxidável, juntas de tubos
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Várias especificações de tubos de precisão em aço inoxidável, foles, juntas de tubos
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Medição de vácuo e admissão de ar |
Manómetro de vácuo composto digital
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manómetro de vácuo composto 5227 ou manómetro de gama completa importado opcional
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Manómetro sem revestimento metálico
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Interface metálica ZJ52T, ZJ27 |
Controlador do fluxo de massa
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D07-7B controlador de fluxo de massa, gama de 100 cm
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Tubos e conectores
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Câmara de gás mista
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Válvula de paragem
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válvula de paragem elétrica de interface de virola dupla de 6 mm
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Interfaces de admissão e outras interfaces de controlo
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Controlo eléctrico da válvula reguladora da pressão, retorno disponível
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Suporte de amostras |
Suporte de substrato rotativo
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Rotação de substratos, elevação de suportes de substrato
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Dispositivo de elevação
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Ajuste manual de elevação
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Dispositivo de aquecimento de substrato de entortamento
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≤ 600ºC dispositivo de aquecimento opcional
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Fonte de alimentação do controlo da temperatura
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Controlo da temperatura da Shimaden no Japão, controlo da temperatura PID
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Sistema de entortamento |
Alvo de sputtering de controlo magnético
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Alvo de rotação integrado, opcional de 2 ou 3 polegadas, com deflector
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Fonte de alimentação de rotação
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500 W, CC ou RF opcional
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Rack de equipamento
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Disposição integrada
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Sistema de água e gás
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Incluindo máquina de água de refrigeração
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Sistema de controlo
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Controlo automático manual de série, com ecrã táctil opcional |
Principais parâmetros do sistema:
l grau máximo de vácuo: ≤ 5 × 10-5PA (obtido no espaço de 12 horas em condições de limpeza e de cozedura e desgaseificação);
l tempo de aspiração: No espaço de 40 minutos, ≤ 5 × 10-4Pa;
l temperatura de aquecimento do substrato: ≤ 600ºC C (aquecimento da lâmpada de tungsténio iodo);
l tamanho do substrato: ≤ Φ3inch bolacha redonda;
l tamanho alvo: 2 polegadas ou 3 polegadas;
l número de alvos: 3;
l tamanho da câmara de vácuo: 400 × 400 × H380 ~ 450 (pode ser ajustado adequadamente de acordo com as condições reais);
l distância de deslocação do suporte de substrato: ≤ 50 mm (direcção axial);
l ângulo entre o eixo alvo e o eixo de rotação do substrato: Co-entortamento;
l sistema de gás: Entrada de ar de 4 vias, 1 das quais para escape;
Esta pequena máquina de revestimento tem uma estrutura compacta e um aspeto simples e elegante. É fácil de utilizar e manter e tem baixos custos operacionais. A unidade principal e o sistema de controlo electrónico deste dispositivo adoptam um design integrado. A unidade principal é composta por um suporte de equipamento, um sistema de bombagem e uma câmara de vácuo. O processo de revestimento é realizado na câmara de vácuo de entortamento; a parte de controlo eletrónico adota um armário de controlo padrão, que contém várias caixas de encaixe modulares. O sistema é potente e tem um desempenho estável.
Os parâmetros básicos da máquina de revestimento de pó magnetrão de vácuo ultra-elevado são os seguintes:
l vácuo máximo da câmara de revestimento: ≤ 6 × 10-5PA;
l tempo de bombagem: Superior a 6 × 10-4Pa no espaço de 30 minutos;
l tamanho da câmara de vácuo: 300 × 300 × H350mm, a câmara de vácuo é feita de aço inoxidável;
l tamanho e quantidade alvo: 2 φ50mm alvos magnéticos permanentes;
l a distância alvo-substrato é ajustável (40 ~ 100 mm, ajustada pela posição alvo);
l rotação do substrato: 0~60 rpm ajustável; equipado com aquecimento, pode ser aquecido até 500 graus;
l tamanho principal da máquina: Cerca de 1100 mm de comprimento × 750 mm de largura × 1650 mm de altura;
l tipo gás: MFC de 2 vias, ar de gás de trabalho e gás de reacção;
l medição da espessura da película: Equipada com um conjunto de medidor de espessura da película de cristal de quartzo e sonda original (opcional);
l sistema de controlo: O ecrã de toque e o controlo PLC são adoptados para controlar o arranque e paragem de bombas, válvulas e vários alarmes de saída;
Principais parâmetros do sistema:
l grau máximo de vácuo: ≤ 5 × 10-5PA (obtido no espaço de 12 horas em condições de limpeza e de cozedura e desgaseificação);
l tempo de aspiração: No espaço de 40 minutos, ≤ 5 × 10-4Pa;
l temperatura de aquecimento do substrato: ≤ 600ºC C (aquecimento da lâmpada de tungsténio iodo);
l tamanho do substrato: ≤ Φ3inch bolacha redonda;
l tamanho alvo: 2 polegadas ou 3 polegadas;
l número de alvos: 4;
l dimensão da câmara de vácuo: 500 × 500 × H450 (pode ser ajustado adequadamente de acordo com as condições reais);
l distância de deslocação do suporte de substrato: ≤ 50 mm (direcção axial);
l ângulo entre o eixo alvo e o eixo de rotação do substrato: Co-entortamento;
l sistema de gás: 4 entradas de ar, 1 das quais para escape;
Os parâmetros básicos da máquina de revestimento de pó magnetrão de vácuo ultra-elevado são os seguintes:
l vácuo máximo da câmara de revestimento: ≤ 6 × 10-5PA;
l tempo de bombagem: Superior a 8 × 10-4Pa no espaço de 30 minutos;
l tamanho da câmara de vácuo: 300 mm × 300 mm × H400 mm, a câmara de vácuo é feita de aço inoxidável e está equipada com uma janela de observação de vidro;
l tamanho e quantidade alvo: 2 φ50mm alvos magnéticos permanentes (integrados);
fonte de alimentação de rotação: 2 fontes de alimentação de entortação CC digitais de 500 W;
l controlo da pressão, equipado com um manómetro de película e uma válvula de borboleta eléctrica para obter um controlo constante da pressão;
l distância de deslocação horizontal de 0 ~ 80 mm, equipada com placa de isolamento para evitar a queda de escória durante o movimento;
l sistema de pressão a quente: Temperatura de aquecimento do substrato inferior: 0 ~ 600ºC continuamente ajustável. A placa superior é controlada pneumaticamente para pressionar;
l tamanho da unidade principal: Comprimento 1060 mm × largura 600 mm × altura 1600 mm; (o tamanho será ajustado adequadamente de acordo com as necessidades)
l tipo gás: Controlador de fluxo de massa de 2 vias, admissão de ar de 2 vias;
Perfil da empresa
A nossa empresa pode fornecer aos clientes soluções de design de sistemas de revestimento a vácuo diversificadas, que podem obter de forma flexível uma deposição em conjunto, deposição de película multicamada, películas isolantes e preparação de películas compostas, satisfazendo os requisitos de preparação de películas em vários campos. A máquina multifuncional de revestimento de evaporação desenvolvida é amplamente utilizada na investigação e desenvolvimento de produtos OLED e OPV. Com base na configuração padrão, nossa empresa pode personalizar máquinas de revestimento para finalidades específicas, instrumentos de revestimento portáteis, instrumentos de teste e produtos de vácuo não-padrão de acordo com as necessidades do cliente.
Certificações

Embalagem e envio
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" Satisfação do cliente, nossa responsabilidade!", superando constantly expectativas do cliente e ganhar a confiança de muitas companhias respeitáveis.
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Cidade: Chegar em 2 horas ( com serviço de saída da cidade); dentro da província: Chegar em 24 horas;
Fora da província: Chegou em 48 horas;
Além disso, a ACME tem um serviço especial pós-venda, fornecendo serviços de resposta a emergências, capaz de chegar ao local no tempo mais rápido .
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24 horas de apoio técnico, com apoio da comissão;
serviço 24 horas no local para garantir a tranquilidade ;
3) equipe de serviço:
Equipa de apoio pré-venda: Consulta técnica profissional pré-venda fornecida por pessoal profissional e técnico ; equipa de apoio técnico: Assistência pós-venda ponderada fornecida por técnicos de assistência pós-venda profissionais;
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4) Plano de serviço humanizado
Orientação remota : Fornecer suporte técnico , como telefone e correio remoto; serviço no local: Manutenção do site de vídeo, suporte técnico e outros serviços;
Serviço de inspeção: Fornecer serviços regulares de inspeção de retorno;
Serviço de estagnação: Fornecer serviços de estagnação de longo prazo necessários para o projeto.