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Refrigerador amplamente usado para suportar equipamento de limpeza de wafers

After-sales Service: 1 Year
Warranty: 1 Year
Certification: CE, ISO
Application: Heater, Cooler
Principle: Mixing Heat Exchanger
Style: Steel Type

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Membro Diamante Desde 2021

Fornecedores com licênças comerciais verificadas

Fabricante / Fábrica, Empresa Comercial

Informação Básica.

N ° de Modelo.
L Series
Material
Steel
gama de temperaturas
- 40 ~ 120ºc
estabilidade térmica
± 0.5ºc
fluxo
2 ~ 20 l/min/4 ~ 40 l/min/6 ~ 60 l/min
estabilidade do fluxo
± 0.2ºc
capacidade de refrigeração
8~45 Kw
Pacote de Transporte
Wooden Pallet
Marca Registrada
WIIP
Origem
China
Código HS
8418692090
Capacidade de Produção
3000

Descrição de Produto

 O refrigerador da série K7 foi especialmente concebido para refrigeração de máquinas a laser, com bombas duplas e sistemas de controlo duplo da temperatura. Loop principal para arrefecimento eficiente a laser, o segundo loop pode ser definido a uma temperatura mais alta para resfriamento de cabeça óptica, de modo que não permaneça água condensada na cabeça óptica.

Funções e funcionalidades
Compressor da marca famosa e outros componentes-chave, desempenho fiável;

Bomba de aço inoxidável da marca;
Tubos e reservatórios de aço inoxidável, tubos de aço inoxidável, PPR ou outros materiais resistentes à corrosão, evitam a corrosão;
Filtro de água especial, manómetro de pressão da água e indicador do nível da água, observar facilmente  a qualidade, a pressão e o nível da água;
Várias funções de alarme: Tais como alarme de fluxo, alarme de nível de líquido, alarme de temperatura alta e baixa; protecção de sequência de fase, protecção de temperatura elevada do compressor, protecção de retardamento do compressor, protecção contra sobrecorrente do compressor.
Widely Used Chiller to Support Wafer Cleaning Equipment
Aplicação típica
utilizado principalmente na indústria de laser, como corte a laser, soldadura a laser, equipamento de revestimento a laser.

Modelo

Capacidade de refrigeração W @ 25ºC  

Intervalo de temperatura

Estabilidade térmica

Fluxo máximo

Pressão máxima

Reservatório

Tamanho da conexão

Dimensão geral

L * P * A

 ºC 50 / 60Hz

 ºC

 ºC

L/min

Bar

L

mm

K1

1200/1450

5-35ºC

± 0.2ºC

25

1.7

8

RP 1/2

360x475x655-60

SK2

1900/2300

5-35ºC

25

1.7

12

RP 1/2

430x540x720-60

SK3

2600/3200

5-35ºC

50

2.8

20

RP 1/2

500x605x812-72

SK4

3600

5-35ºC

50

3.6

30

RP 1/2

540x705x922-72

SK5

5600/6600

5-35ºC

80

3.6

50

RP 1

540x880x972-92

SK6

8000

5-35ºC

80

3.6

60

RP 1

620x980 × 1072-92

SK7.04

10 000 KM

5-35ºC

100

3.8

120

RP 1

620x980 × 1072-92

SK7.05

15 000

5-35ºC

100

3.8

120

RP 1

620x1260 × 1162-92

 

 

 

 

 

 

 

 

 

sK1β

900/1100

-20-35ºC

± 0.2ºC

15

1.7

8

RP 1/2

360x475x655-60

sK2β

1600/1900

-20-35ºC

15

1.7

12

RP 1/2

430x540x720-60

sK3β

2200/2600

-20-35ºC

30

2.8

20

RP 1/2

500x605x812-72

sK4β

3200

-20-35ºC

35

3.6

30

RP 1/2

540x705x922-72

sK5β

5200/5800

-20-35ºC

60

3.6

50

RP 1

540x880x972-92

sK6β

7.200 000

-20-35ºC

60

3.6

60

RP 1

620x980 × 1072-92

sK7β04

8 KM

-20-35ºC

60

3.8

120

RP 1

620x980 × 1072-92

sK7β05

12 K.

-20-35ºC

60

3.8

120

RP 1

620x1260 × 1162-92

 

 

 

 

 

 

 

 

 

sK5γ

3,5K

-40-35ºC

± 0.5ºC

20

3.5

50

RP 1

540x880x972-92

sK6γ

5.0/6.5K

-40-35ºC

25

3.5

60

RP 1

620x980 × 1072-92

sK7γ05

6/7.200 K.

-40-35ºC

50

4

120

RP 1

620x980 × 1072-92

sK7γ07

8K/10K

-40-35ºC

50

4

120

RP 1

620x1260 × 1162-92

 

 

 

 

 

 

 

 

 

RK1

1200/1450

5-35ºC

± 1ºC

25

1.7

8

RP 1/2

360x475x655-60

RK2

1900/2300

5-35ºC

25

1.7

12

RP 1/2

430x540x720-60

RK3

2600/3200

5-35ºC

50

2.8

20

RP 1/2

500x605x812-72

RK4

3600

5-35ºC

50

3.6

30

RP 1/2

540x705x922-72

RK5

5600/6600

5-35ºC

80

3.6

50

RP 1

540x880x972-92

RK6

8000

5-35ºC

80

3.6

60

RP 1

620x980 × 1072-92

RK7.04

10 000 KM

5-35ºC

100

3.8

120

RP 1

620x980 × 1072-92

RK7.05

15 000

5-35ºC

100

3.8

120

RP 1

620x1260 × 1162-92

 
Widely Used Chiller to Support Wafer Cleaning Equipment
 
Widely Used Chiller to Support Wafer Cleaning Equipment
 
Widely Used Chiller to Support Wafer Cleaning Equipment
 
Widely Used Chiller to Support Wafer Cleaning Equipment
 
Widely Used Chiller to Support Wafer Cleaning Equipment
 
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Capital Registrada
10048990 RMB
Área da Planta
>2000 Metros Quadrados