300D-orgânicos compostos inorgânicos do sistema de revestimento de evaporação combinado para a preparação da escala nanométrica novos materiais de filme
descrição do Produto de 300D orgânico-sistema de revestimento de evaporação combinado inorgânicos:
Ela consiste essencialmente em sistema de câmara de vácuo câmara de evaporação, sistema de fonte de evaporação, fase de amostra, sistema de bombeamento de vácuo e sistema de medição, sistema de gás e sistema de controle da espessura do filme, o sistema de teste hidráulico da tampa superior do mecanismo de abertura e o sistema de controle eletrônico.
Aplicação de 300D orgânico-sistema de revestimento de evaporação combinado inorgânicos:
Ela é usada para a preparação de novos materiais de película fina como escala nanométrica camada única e filmes funcionais multi-camadas, películas duras, filmes de metal, filmes de semicondutores e filmes dielétrico. É amplamente utilizado na investigação e preparação de lotes pequenos de materiais de película fina nas universidades e institutos de investigação.
Especificações técnicas do 300D orgânico-sistema de revestimento de evaporação combinado inorgânicos:
| Limite de vácuo |
6.7*10-5Pa |
| Tempo de vácuo de recuperação |
6, 6×10 Pa em 40 minutos (curto tempo de exposição à atmosfera e abastecer com nitrogênio seco para iniciar o bombeamento) |
| A taxa de vazamento do sistema |
1*10-7PaL/S |
| A câmara de vácuo |
Câmara de vácuo circular, tamanho 300 * 350mm |
| Fase de amostra |
Uma amostra de plano medindo 3 polegadas por 3 polegadas e com uma espessura de 3, 2 mm; |
| O eléctrodo |
Quantidade: 4 peças, tipo padrão brasagem indirecto estrutura arrefecidos a água; Diâmetro φ20mm de água de resfriamento interno. A evaporação em filme; Substrato da amostra: Bias negativo -200V |
| Forno de fonte de feixe orgânicos |
Quantidade: 3, tipo padrão de 600 graus, a evaporação de controle de temperatura para o cinema; |
| Mesa giratória de amostra |
Coloque o porta-amostras no substrato placa giratória com uma posição de substrato (porta-amostras podem ser colocados 2 polegadas separadamente) para instalar o forno. |
| Substrato |
A fim de aumentar a uniformidade da espessura do filme sobre um substrato de 2 polegadas, o substrato é girado na posição de revestimento. A temperatura do substrato é da temperatura ambiente até 600 ° C a temperatura da superfície superior da bolacha de silício, só precisa ser calibrado uma vez) |
| 4 conjuntos de sistema do defletor |
Defletor do substrato e defletor de origem; 3 conjuntos de defletor alvo, junta dinâmica da transmissão da engrenagem frouxa, controle manual; Amostra defletor (1), o garfo magnético, |
| Controlo manual do sistema de gás |
Controlador de fluxo de massa via 1 |
| Controlador de fluxo de massa via 1 |
Faixa de medição de espessura de filme 0-999999Å |
| A bomba |
Conjunto de bomba molecular opcional ou cryopump vórtice combinado o sistema de bombeamento de bomba seca |
As imagens relacionadas de 300D orgânico-sistema de revestimento de evaporação combinado inorgânicos:
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