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Breve introdução do sistema de espiaçamento de magnetrões:
este equipamento é um aparelho de revestidor de dupla coroa de magnetrões, que pode ser utilizado para a preparação de películas finas metálicas. Tem aplicações nos campos da eletrônica, da ótica, e da preparação cerâmica especial. Também pode ser utilizado para a preparação de amostras sem de laboratório.
Especificação da Sputtering Plasma Magnetron de 2" de alta-cabeça Sistema de revestidores
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Nome do produto |
Coater de gagueira de magnetron de alvo duplo com câmara de transição |
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Modelo do produto |
CY-MSP325G-2T-DVC-2DC (câmara de vácuo dupla) |
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Condições de instalação |
1. Temperatura ambiente de funcionamento 25ºC ± 15ºC, humidade 55% HR ± 10% HR; 2. Fonte de alimentação do equipamento: AC220V, 50Hz, deve estar bem aterrada; 3. Potência nominal: 5000 W; 4. Gás do equipamento: A câmara do equipamento tem de ser cheia de árgon para limpeza e o cliente tem de preparar árgon com uma pureza de ≥ 99.99%; 5. O tamanho do local é de 1200 mm × 1200 mm × 2000 mm; 6. A posição de colocação requer uma boa ventilação e dissipação de calor. |
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Parâmetros técnicos |
1. Fonte de alimentação de rotação: Fonte de alimentação CC de 500 W x2; tensão de saída máxima de 600 V, corrente de saída limite de 1000 mA 2. Alvo magnetron: Alvo equilibrado de 2 polegadas com deflector de acoplamento magnético; 3. Material alvo aplicável para alvo magnetron: Material alvo condutor de metal com φ50mm x 3 mm de espessura 4. Tamanho da cavidade: Cavidade principal φ325mm x 410 mm; cavidade de transição 150x150x150 mm 5. Função de câmara: A câmara principal está equipada com uma porta lateral vedada por um anel vedante, uma janela de observação de quartzo com um deflector e uma haste de comando manual para a transferência de amostras. A câmara de transição está equipada com uma tampa superior com uma janela de quartzo vedada por um anel vedante, uma haste de acoplamento magnético para transportar amostras para a câmara principal e um sistema de vácuo independente. 6. Material da cavidade: Aço inoxidável 304 7. Tabela rotativa de amostras de aquecimento: A velocidade é continuamente ajustável de 1 a 20 rpm; a temperatura de aquecimento é de até 500 ° C e a taxa de aquecimento é recomendada para 10 ° C/min e a temperatura máxima é de 20 ° C/min 8. Método de arrefecimento: O alvo de magnetron e a bomba molecular necessitam de um arrefecedor de água circulante; 9. Arrefecedor de água: Volume do depósito de água 9L, taxa de fluxo de 10L/min 10. Sistema de alimentação de gás: Medidor de caudal mássico, gás do tipo ar, caudal 1 ~ 200sccm (personalizável); 11 . Precisão do medidor de caudal: 1.5 ±% de gama 12. A interface de bombagem da câmara de vácuo é CF160; 13. A interface de entrada de ar é uma junta de virola dupla de 1/4 polegadas; 14. O visor é de 14 computadores industriais "tudo-em-um"; 15. A corrente de esvoamento pode ser ajustada e o valor da corrente de segurança de entortamento e o valor de vácuo seguro podem ser definidos; 16 . Protecção de segurança: A corrente de rotação será automaticamente cortada quando a sobrecorrente e o vácuo forem demasiado baixos; 17. Sistema de vácuo: A câmara principal está equipada com um conjunto de bomba molecular de vácuo elevado CY-GZK103 com uma velocidade de bombeamento de 600 L/s; a câmara de transição está equipada com um conjunto de bomba molecular pequena com uma velocidade de bombeamento de 60 L/s. Os dois conjuntos de sistemas de vácuo podem funcionar e controlar de forma independente, e as válvulas pneumáticas entre as câmaras e no sistema de vácuo são todas controladas por programas, que podem realizar uma ação única, que é conveniente e rápida. 18. Vácuo máximo : 5E-4Pa (com bomba molecular); 19. A medição do vácuo é um manómetro de vácuo composto e a sua gama é de : 10-5PA ~ 105Pa |
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Precauções |
1. Para obter um ambiente isento de oxigénio mais elevado, a câmara de vácuo deve ser limpa com gás inerte de elevada pureza, pelo menos, 3 vezes. 2. A gagueira de magnetron é mais sensível ao volume de ar de admissão e é necessário utilizar um medidor de fluxo de massa para controlar o volume de ar de admissão. 3. Mantenha a cavidade em vácuo quando o equipamento não estiver em uso. 4. Se não tiver sido vacuumed durante um longo período de tempo, deve ser desgaseificado quando for utilizado novamente para melhorar o desempenho do vácuo. |
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Acessórios opcionais |
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Monitor de espessura da película |
1. Resolução da espessura da película: 0.0136Å (alumínio) 2. Precisão da espessura da película: ± 0.5 %, consoante as condições do processo, especialmente a posição do sensor, tensão do material, temperatura e densidade 3. Velocidade de medição: 100ms-1s/tempo, é possível definir o intervalo de medição: 500000Å (alumínio) 4. Cristal do sensor padrão: 6 MHz 5. Frequência de chip aplicável: 6MHz tamanho de chip aplicável: Φ14mm flange de montagem: CF35 |
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Outros acessórios |
1. Conjunto de bombas moleculares de alto desempenho da série CY-CZK103 (incluindo manómetro de vácuo composto, gama de medição 10-5PA ~ 105Pa); Conjunto de bomba molecular pequena da série CY-GZK60 (incluindo manómetro de vácuo composto, gama de medição 10-5PA ~ 102Pa) Bomba de vácuo bipolar VRD-4 de palheta rotativa; 2. Foles de vácuo KF25/40; o comprimento pode ser de 0,5 m, 1 m, 1,5 m; suporte de braçadeira KF25 3. Oscilador de cristais do medidor de espessura de película; |
Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd. - é uma empresa de alta tecnologia e nova registrada em Zhengzhou, província de Henan. Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd está principalmente engajada na pesquisa e desenvolvimento, desenho e fabricação de equipamentos utilizados em pesquisas científicas.
Os nossos produtos incluem principalmente fornos de alta temperatura e elementos de aquecimento, como fornos de muflas de laboratório, fornos de tubos, fornos dentários, fornos de vácuo, fornos de fusão de ouro, elementos de aquecimento de SiC, elementos de aquecimento MoSi2, tubos de alumina e cadinhos, etc.
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