Alto Vácuo Metas Dupla Magnetron Revestidor pulverizaça ̃ o com a transmissão e o processamento de amostras do corpo da câmara

• After-sales Service: Online Support
• Warranty: 1 Year
• Personalizado: Não personalizado
• Estrutura: Área de Trabalho
• Material: Aço inoxidável
• Certificação: CE
• N ° de Modelo.: CY-MSP-300
• Aplicação: Escola, Lab
• Tipo: Film Applicator
• Sputtering Vacuum Chamber: 400xh520mm
• método de vedação: Fluorine Rubber Seal
• suporte para amostras: diâm. 150 mm
• temperatura de aquecimento: Rt~ 500c
• Magnetron Sputtering Gun: 3 conjuntos
• Target Dimension: Diameter 2′′, Thickness Max.3m
• Molecular Pump Speed: 600 L/S
• Pacote de Transporte: Wooden Case
• Especificação: Film Applicator
• Marca Registrada: CYKY
• Origem: China
• Capacidade de Produção: 10 Sets Per Month

Descrição de Produto

Três fontes de iões magnetron revestimento de pulverizaça ̃ o instrumento com transição corpo da câmara

Introdução ao produto:  
Este equipamento é alvo de três magnetron revestidor pulverizaça ̃ o aparelho, que pode ser usado para a preparação de metal filmes finos. Tem aplicações nos domínios da electrónica, óptica e especiais de preparação de cerâmica. Ele também pode ser usado para exames laboratoriais sem preparação da amostra.
Os três magnetron revestidor pulverizaça ̃ está equipado com dois objectivos magnetron e dois conjuntos de fontes de alimentação DC e um conjunto de fonte de iões de sistema que pode ser usado para revestir de múltiplas camadas metálicas condutivas filmes.  Ao mesmo tempo, o equipamento tem duas partes: uma câmara principal e uma câmara de transição. A câmara de transição está equipado com um pé magnético haste de pressão e vácuo e válvula gaveta está instalado entre as duas câmaras;  o usuário pode carregar amostras na câmara de transição durante a realização de trabalhos de pulverizaça ̃ na câmara principal e execute o vácuo pré-bombeamento. Após a pulverização catódica na câmara principal esteja concluída, a amostra pode ser empurrado para a fase de amostra da câmara principal através do posicionador.  Esse design pode reduzir o número de bombeamento de vácuo vezes na câmara principal, que não só poupa tempo, mas também garante um melhor vácuo local e efetivamente melhora a qualidade do revestimento.
 

Três magnetron revestidor pulverizaça ̃ tarameters técnico:

Tensão de trabalho		AC 220 V, 60Hz
Pulverização catódica câmara de vácuo		Dimensão: ~ φ400xH520mm Material: 304 de aço inoxidável  Parede Interna da transformação: polimento electrolítico Método de vedação: Flúor a vedação de borracha  Vista (janela): ~4" (100 mm) com obturação por sorriso
Porta-amostras		Parte inferior central de fixação porta-amostras, com um sorriso  Porta-amostras: Diam. 150mm  Velocidade rotativa: 0~20rpm  ajustável  Temperatura de aquecimento: RT~ 500^oC
O magnetron pulverização catódica Gun		Quantidade: 3 conjuntos Ângulo ajustável -45°~45° Orientação de pulverizaça ̃ o para baixo  Dimensão alvo: diâmetro de 2'', espessura máx.3mm
Cristal de quartzo monitorar		Os números de canais: de um canal  Precisão: 0.1Ã Velocidade de medição: 100mS-1S ajustável Gama de medição: 500 000Ã (Alumínio como uma referência)  Sensor de padrão de cristal de quartzo: 6 MHz
Sistema de Vácuo	Bomba de backup	Faça duplo estágio bomba de palheta rotativa  Taxa de bombeamento: 1.1L/s
	Bomba molecular	Taxa de bombeamento: 600 l/s  Rotação nominal velocidade: 27000rpm Hora de início: <5min O método de refrigeração: arrefecimento a água Grau de depressão: 5*10-4Pa
	Composite Medidor de Vácuo	Medidor de resistência + indicador de ionização  Gama de medição: 10-5Pa ~ 105 Pa
Fonte de alimentação DC		Quantidade: 2 conjuntos   Potência de saída: 0~500W Tensão de saída: 0~600V Corrente máxima de saída: 1A Hora de início: 1~10s
A potência de RF de alimentação		Quantidade: 1 Potência de saída: 0~500W Freqüência de RF: 13,56 MHz Método de correspondência:  correspondência automática Potência Refletida: <=100W Estabilidade de potência: ±0,1%   Se precisam de limpeza, Adição extra de energia de polarização gerador de alimentação
Íons de componentes de origem e fonte de alimentação		Principais parâmetros técnicos de iões de fonte: 1. O diâmetro da fonte de iões: 60mm 2. Energia de Ionização: 200-1500eV 3. Fonte Ion beam current: 10-40mA/min 4.ZONA uniforme: φ10cm 5. Gás de trabalho: argon/oxigênio/nitrogénio 6. Recomendado a câmara de vácuo tamanho: ≤Φ500mm 7. Folga de cátodo Largura: 3mm 8. Tensão de descarga:>300V, tensão ajustável
Massa do Controlador de Fluxo		Um canal de MFC para gás de ar Gama de medição: 0~200sccm   pode adicionar vários canais debitómetro, ordem extra.
Refrigerador de água		Taxa de fluxo: 13L/min Potência: 0.5KW Potência de refrigeração: 50W/ºC Capacidade do depósito: 9L
Control		O PLC controle automático
Câmara de transição		O tamanho da câmara será para um máximo de 4 polegada wafers. Equipado com uma massa molecular compacto grupo da bomba Bomba de apoio: o VRD-4, velocidade de bombagem: 1.1L/s Modelo de bomba molecular: TG60F Velocidade de bombagem de bomba molecular: 60L/s