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Fornecedor Auditado CY-600-2HD é um compacto sistema de pulverizaça ̃ o magnetron com duas fontes de alvo de 2".A FONTE DC para a película de revestimento metálico, e a outra fonte de radiofreqüência para revestimento de materiais não metálicos . Este sistema de revestimento está concebido para revestir as duas únicas ou múltiplas camadas de filme, tais como a liga, ferroelectric, semicondutor, cerâmica etc 's film coating
Os parâmetros técnicos
| Potência de entrada | 1.220VAC 50/60 Hz, monofase 2.2000W (incluindo a bomba) |
| A fonte de alimentação | 1.Duas fontes de alimentação de pulverizaça ̃ são integrados numa caixa de controle |
| 2. Fonte DC: 500W para o revestimento de materiais metálicos | |
| 3. fonte de radiofreqüência: 600W com automatching para o revestimento de materiais não metálicos ( ) | |
| 4.Compact 300 fonte de radiofreqüência está disponível por um custo extra | |
| O magnetron cabeça de pulverizaça ̃ o | 1.Dois 2" Magnetron Cabeças de pulverização catódica com camisas de resfriamento de água estão incluídos Um deles é conectado à fonte de alimentação de RF para materiais condutivos Outra é conectado à fonte de alimentação de pulverizaça ̃ O DC para o revestimento de materiais metálicos |
| 2.o tamanho do alvo requisito: diâmetro de 2" | |
| 3. Variação de espessura: 0,1 - 5 mm para ambos metálicos e metas não condutivo | |
| 4.Um aço inoxidável e um Al2O3 Objectivos de cerâmica são incluídos para testes de demonstração | |
| 5.Chefe a refrigeração a água: 10ml/min de fluxo de água necessária, e um 16ml/min assinar digitalmente Refrigerador de recirculação de água controlado está incluído para refrigeração tanto o magnetron Cabeças de pulverizaça ̃ o |
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| 6. revestidor personalizadas: Dois DC sem cabeça, RF pulverização catódica, sem cabeça de RF Sputering DC,3 cabeça de RF estão disponíveis mediante solicitação |
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| A câmara de vácuo | 1.a câmara de vácuo: 300 mm diâm. x 300 mm de altura, feita de aço inoxidável |
| 2. Janela de observação: 100 mm de diâmetro | |
| Porta-amostras | 1. Titular da amostra de tamanho: 140 mm diâm. . 4 wafer" max |
| 2. Titular da amostra é ajustável para a velocidade de rotação: 1 - 20 rpm para revestimento uniforme | |
| 3.o titular a temperatura é ajustável de RT para 500°C Max com Precisão de +/- 1,0 °C |
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| Controle de Fluxo de gás | 1.A taxa de fluxo de 200 ml/min máx. |
| 2.A taxa de fluxo é ajustável de 6" do painel de controle da tela sensível ao toque | |
| A estação da bomba de vácuo | Turbo de alta velocidade do sistema de bomba de vácuo é instalado diretamente sobre a depressão Câmara para o nível de vácuo máx. |
| Serviço pesado bomba mecânica de duplo estágio é conectada à bomba turbo para maior rapidez A velocidade da bomba |
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| Estação de bombagem móveis está incluído e o revestidor pulverizaça ̃ o compacto pode ser colocada em Parte superior da estação de comboios |
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| Nível de vácuo máx.: 10^-6 Torr com tabuleiro da câmara | |
| Monitor de espessura | Uma espessura de quartzo de precisão sensor está integrado na câmara para revestimento do monitor A espessura com exactidão 0,10 Å |
| A Unidade do Mostrador do LED fora da câmara podem: | |
| Material de entrada para ser revestido de acordo com a base de dados incluído | |
| A espessura total do mostrador revestidos e velocidade de revestimento | |
| 5 pcs sensores de quartzo (bens consumíveis) estão incluídos | |
| A refrigeração a água é necessária | |
| Dimensões gerais | L6600mm × W660mm× H1200mm |
| Nota de aplicação | Para extrair o oxigénio da câmara, sugerimos que você use 5% Hytrogen + 95 % Câmara clã de azoto de 2 a 3 vezes, o que pode reduzir o oxigênio abaixo de 10 ppm |
| Use > 5N pureza gás argônio para o plasma pulverização catódica. Apesar de 5N Ra de pureza geralmente contêm 10- 100 ppm de oxigénio e de H2O | |
| peso líquido | 160 kg |
| Garantia | Um ano de garantia limitada com o suporte vitalício |
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