Crescimento de Filme bidimensional de Rolo para Rolo Sistema Pecvd

• Aplicação: Escola, Lab
• personalizado: personalizado
• Certificação: CE, tuv
• Estrutura: Área de Trabalho
• Material: Aço
• Digitar: tubular Furnace
• N ° de Modelo.: OTF-1200X-II-PE-RR
• frequência rf: 13,56 mhz
• correspondência: automático
• arrefecimento: ar
• ruído: < 50 db
• potência de saída: 5-300w ajustável
• porta de saída: tipo n.
• Pacote de Transporte: Wooden Box
• Especificação: Dia. 80mm
• Marca Registrada: CY
• Origem: Cyky
• Código HS: 85141090
• Capacidade de Produção: 210 Sets Per Month

Descrição de Produto

O rolo a rolo PE-Sistema de DCV Graphene contínua  Ou filme bidimensional de Crescimento - OTF-1200X-II-PE-RR
OTF-1200X-II-PE-RR é uma    Escala de laboratório de Rolo para Rolo  PE-DCV (Plasma maior deposição de vapores químicos) Sistema de forno de tubo, que consiste de 300W Fonte de plasma RF, 80mm O. D duas zonas de aquecimento de  Um forno de tubo dividido em 1200 oC máx., canal 3 da estação de fornecimento de gás de MFC, e de elevada qualidade da bomba de vácuo mecânico e duas câmaras de vácuo com substrato dobar dentro e fora, bem como o painel de controle da tela sensível ao toque. O R2R sistema é projetado para explorar a flexibilidade para crescer graphene ou outros dois filmes de dimensão continuamente para a indústria.
 

Duas Zonas de Aquecimento do forno de Tubo dividido	Duas zonas de aquecimento com  440 mm de comprimento da zona de aquecimento individual e 250 mm de comprimento zona temperada constante 1200^oC para a temperatura de trabalho máxima < 60 minutos 1100^oC Max para aquecimento contínuo 30 segmentos de precisão digital programável Controlador de temperatura O tubo de quartzo de elevada pureza:   80mm de diâmetro externo x 72mm ID x 1400 mm de comprimento 2, 83"ID x 55" de comprimento Potência de entrada: 208 - 240 V CA, entrada de fase única no máx. 3KW Três fornos de zona de aquecimento está disponível como opcional
Fonte de alimentação de RF de plasma	Potência de saída:           5 -300W ajustável com estabilidade de ± 1% Freqüência de RF:                   13, 56 MHz ±0, 005% de estabilidade dinâmica Matching:                             Automática Porta de Saída RF:             50 Ω, tipo N fêmea, Ruído:                                       < 50 dB.   Refrigeração:                                 Arrefecimento por ar. Potência:                     208-240VAC, 50/60 Hz
A Estação de fornecimento de gás de três canais	Temperatura de trabalho: 5~45 ºC Max. Pressão: 3x106 PA Precisão:   ±1, 5% FS A camisa:   ±(0, 5-1, 5)%F. S. Precisão duplicados:   ±0, 2%F. S. Gama de controlo: Controlador 1: 0~100  SCCM    ( Ra) do gás de calibração Controladora 2:   1~199  SCCM  ( H2 ) do gás de calibração Controller 3:       Calibração do metano 1~499 SCCM (  )
A bomba de vácuo e a válvula	Serviço pesado da bomba de vácuo de palheta rotativa (7, 8 CFM -240 L/m) com duas fases do sistema de exaustão instalado na parte inferior caso máx. Com depressão 10-2  Torr.   Driver KFD25 adaptador e o tubo de aço inoxidável são conectados entre a bomba e o flange do tubo com precisão a válvula de esfera Medidor de pressão de vácuo digital e display  São instalados com o forno Bomba Oiless está disponível e o sistema de vácuo controlada de pressão PID está disponível mediante pedido e a um custo extra.
Medidor de Pressão anti-corrosiva	3, 8X10-5  Para 1125 Torr intervalo de medição O anti-corrosivo, independente do tipo de gás   Elevada precisão e reprodutibilidade em atmosfera para detecção de pressão atmosférica confiável Detecção atmosférica rápido elimina o tempo de espera e encurta o ciclo de processo Fácil de trocar o elemento sensor plug & Play
Controlador de temperatura	30  Segmentos programáveis para controle preciso da velocidade de aquecimento, a taxa de resfriamento e tempo de paragem. Construído em função Auto-Tune PID com superaquecimento & Quebrado a proteção do termopar.   Protecção contra temperatura excessiva  E o  Alarme  Permite a operação sem atendedor(s). +/- 1 ° C a exactidão da temperatura. Porta de comunicação RS485.
Painel de controle	Ecrã táctil de 7" no painel de controle construído que irá controlar a temperatura, o caudal dos gases, fonte de plasma
Dimensões gerais	2400 L x 600 W x 1250 mm
R2R Câmaras de Vácuo	Duas câmaras seladas de vácuo estão localizados nas duas extremidades do forno e conectado com o tubo de quartzo A dobagem rolos para dentro e para fora do substrato estão localizados na lateral da câmara de vácuo   Velocidade bobináveis para o substrato é ajustável de  1-400mm/min Máx. Largura do substrato móvel  L 65 mm para tubo de diâmetro externo de 80 mm Um rolo de película de cobre com 65 mm de largura e 0, 025 mm de espessura  ( ~ 5 kg) está incluído para a prática do cliente. 100mm OD tubo está disponível mediante pedido, que  Pode alimentar o substrato com largura máx. 80 mm
Garantia	Um ano de garantia limitada com suporte em tempo de elevação