Aparelho de revestimento a vácuo PVD com retentia de magros com monitorização de banda larga IPG
[PVD] (PVD)
Deposição de vapor físico: Métodos de deposição a vácuo que podem ser utilizados para depositar películas finas e revestimentos.
Descrição Revestimento de superfície de iões multi-arco a máquina é de alto desempenho e fácil de utilizar, equipada com sistema de entortamento de arco. Material de substrato: Vidro, metal, vidro de cerâmica, metal (aço carbono, aço inoxidável, Latão), cerâmica, plástico, jóias. Máquina recomendada: Multi Arc Magnetron Sputtering Maçoamento Tipo de estrutura: Estrutura vertical, # 304 Aço inoxidável A. película de revestimento: Película metálica multifuncional, película composta, película condutora transparente, película de reflectância crescente, película de protecção electromagnética, película decorativa B. Cor do filme: Ouro, ouro rosa, prata, colorido, azul safira, preto, castanho, preto escuro, etc. C. tipo de película: Estanho, CRN, ZrN, TiCN, TiCrN, TiNC, TIALN e DLC D. Consumíveis em produção: Titânio, crómio, zircónio
Processo Aplicação A. Ver a indústria, como correia de relógio, caixa de vigilância, mostrador, etc. B. ferragens, como artigos sanitários, maçaneta de porta, fechaduras de porta C. indústria da construção, como placa de aço inoxidável, corrimão de escada, colunas D. Shell de telefone, peças E. Jóias, armação de óculos F. material de vidro, como copo de vidro, candeeiros de vidro, obras de arte de vidro G. as peças da mesa, como garfos metálicos e facas. H. Golfe espera, como cabeça de golfe, pólo de golfe e bolas de golfe. I. Produtos sanitários/artigos de casa de banho J. folha de grande dimensão, placa, tubo, tubo, etc. Como grandes placas de aço inoxidável e mobiliário.
Vantagens A. bombas: Bomba mecânica, bomba de raízes, bomba de difusão e bomba de retenção (ou opcional: Bomba criogénica, sistema de bomba criogénica) B. sistema de gás: 1-4 caminho C. vácuo limitado: 6 * 10-4 pa (salas limpas, sem carregamento) D. alvos: Arco 6-18sets, alvo de magnetron 1-2sets E. fontes de alimentação: Fonte de alimentação CC, fonte de alimentação de média frequência, fonte de alimentação de média frequência, fonte de alimentação do aquecedor, fonte de alimentação de energia de ativação, fonte de alimentação de tensão de polarização pulsada F. alvos: Alvo magnético CC, alvo duplo médio, alvo plano H. tempo de gás: 5 * 10-4 pa, no prazo de 30 min I. controlado por PLC manual, semi-automático, totalmente automático
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