After-sales Service: | 2 Years |
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Warranty: | 1 Years |
Application: | School, Lab |
Customized: | Customized |
Structure: | Desktop |
Material: | Stainless Steel |
Fornecedores com licênças comerciais verificadas
Sistema PECVD
O sistema PECVD utiliza microondas ou radiofrequência para ionizar o gás que contém os átomos constituintes da película para formar um plasma localmente. O plasma tem uma forte actividade química e é fácil de reagir para depositar a película pretendida no substrato. O sistema é amplamente utilizado para depositar película SiO2 de alta qualidade, película Si3N4, película de diamante, película dura, película óptica, Nanotubo de carbono (CNT), material compósito C/C, revestimento de SiC, revestimento de grafite, etc.
Modelo | DM-12NT-PECVD | DM-14ST-PECVD | DM-17MT-PECVD |
Temperatura máxima | 1200ºC | 1400ºC | 1700ºC |
Temperatura de trabalho | 1100ºC | 1300ºC | 1600ºC |
Elemento de aquecimento | Resistência do fio | SIC | MoSi2 |
Termopar | Tipo K. | Tipo S. | Tipo B. |
Zona de temperatura | Número/diâmetro/comprimento (pode ser personalizado) | ||
Precisão da temperatura | ± 1ºC | ||
Tensão nominal | AC220V50Hz/60Hz (pode ser personalizado) | ||
Controlo de gás | Medidor de fluxo de flutuação/medidor de fluxo de massa | ||
Sistema de vácuo | Bomba rotativa/bomba de difusão/bomba Molecular Turbo (Opcional) | ||
Potência RF | 100-1000W (opcional) | ||
Função opcional | Ecrã de toque/controlo remoto/monitorização do computador | ||
Pode ser personalizado |
P1. Como sobre o serviço pós-venda?
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