• Pentasilicídio de pureza elevada titânio nanopti5 si3 - 100 nm
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Pentasilicídio de pureza elevada titânio nanopti5 si3 - 100 nm

CAS No.: 12067-57-1
Formula: Ti5si3
EINECS: 235-082-9
Certification: REACH
Function: Heat Resistance
Appearance: Powder

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Fabricante / Fábrica, Empresa Comercial

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Membro Diamante Desde 2020

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Anhui, China
Importadores e Exportadores
O fornecedor tem direitos de importação e exportação
Experiência de Exposição
O fornecedor participou de feiras off-line, você pode conferir o Audit Report para mais informações
Entrega Rápida
O fornecedor pode entregar a mercadoria em 15 dias
Certificat de gestion
O fornecedor possui certificação do sistema de gestão da qualidade, incluindo:
ISO9001:2015 certificate
para ver todos os rótulos de força verificados (16)

Informação Básica.

N ° de Modelo.
12067-57-1
Color
Black
ponto de fusão
2130ºc
mw
323.59100
ridadr
un3178
grupo de embalagem
iii
classe de perigo
4.1
Pacote de Transporte
1kg/Bag
Especificação
100nm, 99.9%
Marca Registrada
Fitech
Origem
China

Descrição de Produto

High Purity Pentasilicide Titanium Nanoparticles Ti5si3-100nmComodidades

O siliicídio de titânio é amplamente utilizado no fabrico de portões, fonte/drenagem, interligações e contactos óhmicos para semicondutores de óxido metálico (MOS), transístores de efeito de campo semicondutor de óxido metálico (MOSFET) e memórias dinâmicas aleatórias (DRAM): Pureza elevada, tamanho de partículas reduzido, distribuição uniforme, área de superfície específica elevada, actividade de superfície elevada e baixa densidade do volume.

N.o CAS:   12067-57-1
Fórmula molecular:   Ti5Si3
Padrão de qualidade:   99.9%
Ordem mínima Depende de sua exigência
Ponto de fusão: 2130ºC
Massa molecular: 323.59100
Solubilidade à água Solúvel em HF. Insolúvel em água.
RIDADR UN3178
Grupo Embalagem III
Classe de perigo 4.1
EINECS 235-082-9

Aplicação  

O siliicídio de titânio é amplamente utilizado no fabrico de portões, fonte/drenagem, interligações e contactos óhmicos para semicondutores de óxido metálico (MOS), transístores de efeito de campo semicondutor de óxido metálico (MOSFET) e memórias dinâmicas aleatórias (DRAM): Pureza elevada, tamanho de partículas reduzido, distribuição uniforme, área de superfície específica elevada, actividade de superfície elevada e baixa densidade do volume.
Não coloque grandes quantidades ou não diluídas do produto em contacto com águas subterrâneas, cursos de água ou sistemas de esgotos e não liberte o material para o ambiente circundante sem autorização do governo.


A Anhui Fotech material Co. , Ltd é  uma empresa de alta tecnologia e com certificação ISO 14001:2015 em matéria de gestão ambiental, ISO 9001:2015 em termos de sistema de gestão de qualidade, ISO 45001 em termos de certificação de segurança e saúde no trabalho , conhecida como "Fornecedor de materiais avançado com uma paragem única" na China, concentrou-se no fornecimento de metais de elevada pureza e matérias-primas químicas de alta qualidade para empresas de alta tecnologia e institutos de investigação. Cooperámos com vários institutos de investigação nacionais e estrangeiros para desenvolver conjuntamente novos produtos e melhorar o sistema de transformação de produtos.

High Purity Pentasilicide Titanium Nanoparticles Ti5si3-100nmHigh Purity Pentasilicide Titanium Nanoparticles Ti5si3-100nmHigh Purity Pentasilicide Titanium Nanoparticles Ti5si3-100nmHigh Purity Pentasilicide Titanium Nanoparticles Ti5si3-100nm

Perguntas frequentes

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