Placa de teste de cristal único Monocristalino de 6 polegadas Silicon waher

• Manufacturing Technology: Integrated Circuits Device
• Material: Compound Semiconductor
• Type: P-type Semiconductor
• Package: Semi Standard
• Signal Processing: Na
• Application: Equipment
• N ° de Modelo.: 6Inch
• Model: Custimize
• Batch Number: Na
• Brand: Fsm
• método de crescimento: CZ
• orientação cristalina: 100
• dopante: boro
• resistividade: 1-100Ω
• Frront Side: polido
• extremidade: polido
• Pacote de Transporte: Semi Standard
• Especificação: TBD
• Marca Registrada: FSM
• Origem: China
• Código HS: 3818001920
• Capacidade de Produção: 5000PCS/Month

Descrição de Produto

Descrição do produto

Parâmetros do produto

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Item	Especificação
Diâmetro	150 mm	200 mm	300 mm
Digite	N.O DE PEÇA	N.O DE PEÇA	N.O DE PEÇA
Entalhe	SEMI/JEIDA	Entalhe / DE	Entalhe
Espessura (μm)	675 ± 25/625 ± 25	725 ± 25	725 ± 25
Superfície	Polido	Polido	Polido
No interior	Gravado	Gravado	Gravado
Pacote	Rolo de revestimento	Rolo de revestimento	Rolo de revestimento

Placa de teste DE 150 MM/200 MM
 

150 MM
ESPECIFICAÇÕES	0,2um ≤ 30ea
Diâmetro (mm)	150 ± 0,2 mm
Digite	P
Comprimento de olyfra	57,5 mm ± 2,5 mm	47,5 mm ± 2,5 mm
Valor da resistência ( Ω·cm)	1-100
Espessura (μm)	SEMI	JEIDA
	675 ± 25 um	675 ± 25 um
TTV ( μm)	≤ 30 um
ARCO ( μm)	≤ 40 um
URDIDURA (μm)	≤ 40 um
Impureza da superfície	≤ 5.0E 10 átomo/cm²

 

200 MM
ESPECIFICAÇÕES	0,2um ≤ 30ea	-
Diâmetro (mm)	200 ± 0,2 mm
Digite	P
Orientação cristalina	< 110> ± 1
Direcção do entalhe
Valor da resistência ( Ω·cm)	1-100
Espessura (μm)	725 um ± 25 um
TTV ( μm)	≤ 25 um	≤ 2 um
ARCO ( μm)	≤ 40 um
URDIDURA (μm)
LM	NÃO
Impureza da superfície	≤ 5.0E 10 átomo/cm²

PLACA de teste DE 300 MM
 

300 MM
ESPECIFICAÇÕES	0,045 ≤ 50	0,065 ≤ 50	0,09um < 50ea	0,12 < 50 ea
Método de fabrico	CZ
Diâmetro (mm)	300 ± 0,2 mm
Tipo/dopante	P/Boron
Orientação cristalina	< 100> ± 1
Direcção do entalhe
Valor da resistência ( Ω·cm)	1-100
Espessura (μm)	775 ± 25
TTV ( μm)	≤ 10
ARCO ( μm)	≤ 40
URDIDURA (μm)
LM	T7 E OCR
Impureza da superfície	< 1 E10 átomos/cm²

Bolacha de óxido DE 200 MM/300 MM

 

	200 MM	300 MM
Espessura do óxido	500 ± 25 nm
Variação na espessura do óxido (para uma placa)	< 3%
Variação na espessura do óxido (para várias wafers)	< 3%
ESPECIFICAÇÕES	0.2μm ≤ 30ea
Diâmetro (mm)	200 ± 0,2 mm	300 ± 0,2 mm
Digite	P
Orientação cristalina	< 100> ± 1
Direcção do entalhe	< 100> ± 1
Valor da resistência ( Ω·cm)	1-100
Espessura (μm)	725 ± 25
TTV ( μm)	≤ 25	≤ 10
ARCO ( μm)	≤ 40
URDIDURA (μm)	≤ 40
Impureza da superfície	≤ 5.0 E10 Atom/cm²	< 1 E10 átomos/cm²

*  por favor contacte-nos para outros tipos de filme, espessura de filme, e composição de filme.


 

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P: Qual é a forma de envio?
R: Aceitamos DHL, FedEx, TNT, UPS, EMS, SF e etc.
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R: Para inventário: O tempo de entrega é de 5 dias úteis.
   Para produtos personalizados: O tempo de entrega é de 7 a 25 dias úteis. Consoante a quantidade.
P: Posso personalizar os produtos com base nas minhas necessidades?
R: Sim, podemos personalizar o material, as especificações e o revestimento óptico para os seus componentes ópticos com base nas suas necessidades.

Cada especificação do cliente é única e o EFM pode fornecer wafers que atendam às suas especificações exatas.

Se não vir a especificação de que necessita , CONTACTE o GSL  para falar com um membro do nosso pessoal de vendas experiente e experiente.