Aplicação: | Lab |
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personalizado: | Não personalizado |
Certificação: | CE |
Estrutura: | Área de Trabalho |
Material: | Alumínio |
Digitar: | manta de aquecimento |
Fornecedores com licênças comerciais verificadas
Estrutura compacta | |
Potência de entrada | 220VAC, 50/60 Hz, monofase 2000W (incluindo a bomba) |
A fonte de alimentação | Duas fontes de alimentação de pulverizaça ̃ são integrados numa caixa de controle ( clique na imagem abaixo para ver as especificações detalhadas ) Fonte DC: 500W para o revestimento de materiais metálicos ( abaixo à esquerda) Fonte de radiofreqüência: 600W com automatching para o revestimento de materiais não metálicos () Fonte de RF 300 compacto está disponível por um custo extra ( Abaixo à direita) |
O magnetron cabeça de pulverizaça ̃ o | Dois 2" Magnetron Cabeças de pulverização catódica com camisas de resfriamento de água estão incluídos ( clique na imagem para a esquerda para ver as especificações detalhadas ) Um deles é conectado à fonte de alimentação de RF para materiais condutivos Outra é conectado à fonte de alimentação de pulverizaça ̃ O DC para o revestimento de materiais metálicos Requisito de tamanho de destino: diâmetro de 2" Espessura máxima de 1/16" para alvos metálicos 1/4" de espessura máxima para metas condutiva Um aço inoxidável e um Al2O3 Objectivos de cerâmica são incluídos para testes de demonstração Refrigeração a água de cabeça: 10ml/min de fluxo de água necessária, e um 16ml/min refrigerador de recirculação de água controlado digitalmente está incluído para refrigeração tanto magnetron cabeças de pulverizaça ̃ o Revestidor personalizadas: duas cabeças de RF sem sputering DC, 3 cabeça de RF estão disponíveis mediante solicitação |
A câmara de vácuo | A câmara de vácuo: 300 mm diâm. x 300 mm de altura, feita de aço inoxidável Janela de observação: 100 mm de diâmetro Na parte superior da tampa do tipo articulada com a mola a ar sport torna fácil troca de destino |
Porta-amostras | Porta-amostras tamanho: 140 mm diâm.. 4 wafer" max Porta-amostras velocidade de rotação é ajustável: 1 - 20 rpm para revestimento uniforme A temperatura do suporte é ajustável de RT para 500°C Max com precisão de +/- 1,0 °C |
Controle de Fluxo de gás | Dois MFC digital de precisão (controlador de fluxo de massa) são instalados para permitir que dois tipos de gases para ser preenchido Taxa de Fluxo: 200 ml/min máx. A taxa de fluxo é ajustável de 6" do painel de controle da tela sensível ao toque |
A estação da bomba de vácuo | Turbo de alta velocidade do sistema de bomba de vácuo (fabricado na Alemanha) é instalado diretamente sobre a câmara de vácuo para o máximo nível de vácuo Serviço pesado bomba mecânica de duplo estágio é conectada à bomba turbo para acelerar a velocidade da bomba Estação de bombagem móveis está incluído e o revestidor pulverizaça ̃ o compacto pode ser colocado na parte superior da estação de comboios Nível de vácuo máx.: 10^-6 Torr com tabuleiro da câmara |
Monitor de espessura | Uma espessura de quartzo de precisão sensor está integrado na câmara para monitorar a espessura do revestimento com uma exactidão de 0,10 Å A Unidade do Mostrador do LED fora da câmara podem: Material de entrada para ser revestido de acordo com a base de dados incluído A espessura total do mostrador revestidos e velocidade de revestimento 5 pcs sensores de quartzo (bens consumíveis) estão incluídos A refrigeração a água é necessária |
Dimensões gerais | L1300mm × W660mm× H1200mm |
peso líquido | 160 kg |
Garantia | Um ano de garantia limitada com o suporte vitalício |
Instruções de Operação | |
Nota de aplicação | Para extrair o oxigénio da câmara, sugerimos que você use 5% Hytrogen + 95 % de azoto para a câmara de clã 2 a 3 vezes, o que pode reduzir o oxigênio abaixo de 10 ppm Use > 5N pureza gás argônio para o plasma pulverização catódica. Apesar de 5N Ra de pureza geralmente contêm 10- 100 ppm de oxigénio e de H2O fornecedor dependedon. Sugerem fortemente que você use o dispositivo de purificação de gases listados abaixo para purificar o gás antes de preencher: ( Clique pic a fim ) MTI fornecer substrato cristal único de A a Z ( clique na imagem abaixo para a direita a fim ) |
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