• Máquina de revestimento de revestidores com espião magnetrões de plasma de 2 polegadas para Película fina de óxido
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Máquina de revestimento de revestidores com espião magnetrões de plasma de 2 polegadas para Película fina de óxido

Serviço pós-venda: 1 ano
Garantia: 1 ano
Especificação: 610mm length*420mm wide*490mm high
Marca Registrada: minder-hightech
Origem: Guangzhou

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Membro Diamante Desde 2017

Fornecedores com licênças comerciais verificadas

Informação Básica.

N ° de Modelo.
SD900C
Código HS
8015809090
Capacidade de Produção
200PCS/Yearpcs/Year

Descrição de Produto

Gagueira de iões de magnetrões e Coater de carbono de evaporação térmica - SD900C

Nós abastecemos/oferecemos uma Unidade de Sputtering de iões de magnetrões e uma Unidade de carbono de evaporação térmica (modelo SD900C), ideal e concebida para a preparação de amostras sem laboratório. O modelo SD900C (Unidade de ionização de iões Magnetron) é amplamente utilizado para revestir amostras sem condutoras ou sensíveis ao calor com Au para obter melhores imagens. É também excelente para o tratamento da superfícies e evita danos na amostra de substrato.

O revestidor de carbono do modelo SD900C (Unidade de carbono de evaporação térmica) aplica uma fina película de carbono condutor numa superfície de amostra. A aplicação deste revestimento a uma amostra não condutora é uma técnica de preparação eficaz para diminuir os artefactos de eletrões de carregamento para análise num sem.

A pressão de vácuo de trabalho pode ser alcançada rapidamente quando se utiliza uma bomba de vácuo adequada no espaço de 5 minutos. É fácil de utilizar e de utilizar.

2 Inch RF Plasma Magnetron Sputtering Coater Coating Machine for Oxide Thin Film2 Inch RF Plasma Magnetron Sputtering Coater Coating Machine for Oxide Thin Film2 Inch RF Plasma Magnetron Sputtering Coater Coating Machine for Oxide Thin Film2 Inch RF Plasma Magnetron Sputtering Coater Coating Machine for Oxide Thin Film2 Inch RF Plasma Magnetron Sputtering Coater Coating Machine for Oxide Thin Film2 Inch RF Plasma Magnetron Sputtering Coater Coating Machine for Oxide Thin Film
A bomba de vácuo está incluída.

O refrigerador é opcional. (Para a unidade de cisaltagem de iões de magnetrões)

Especificações técnicas

bomba de vácuo definida

(Óleo necessário) bomba de vácuo rotativa

Velocidade de bombeamento rotativo

50 Hz: 8 m3/h (2.2 L/s)/60 Hz: 9,6 m3/h (2.6 L/s)

Limite de vácuo

2 Pa

Corrente máx. De rotação

100 mA

Corrente de evaporação máx

100 A.

Pressão de trabalho de entortamento

20 Pa - 8 Pa

Tempo de aspiração

6 Pa - 4 Pa

Medição de vácuo

< 5 min (2 Pa)

Controlo de gás

Gama de medição da atmosfera até 2 * 10 - 2mbar

Tamanho da câmara

Controlador de fluxo de gás

Fonte alvo de magnetron

Vidro de quartzo φ150 * 120 mm (altura) resistente a riscos

Origem alvo evaporação

Tamanho do alvo φ 50 * 0,1 mm (Au) / fonte alvo: Au, AG, PT

Método de operação

Material alvo: Corda de carbono/fonte alvo: Corda de carbono

 (2 unidades) peso / (1 unidade) tamanho

55 kg/360 mm de comprimento * 300 mm de largura * 380 mm de altura

Fonte de alimentação

CA 110 V 60 Hz ou CA 220 V 50 Hz

Consumo de energia

< 200 ow

Método de arrefecimento

Arrefecimento por ar (evaporação) e água (Sputtering)

Garantia

Garantia limitada de um ano com suporte ao produto vitalício

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1000000 RMB