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Sistema de dupla câmara piriforme para película de metal e semicondutor

After-sales Service: Installation, Training
Warranty: 1 Year
Type: Coating Production Line
Coating: Vacuum Coating
Substrate: Steel
Certification: CE, ISO, RoHS, REACH

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Informação Básica.

N ° de Modelo.
MDJGP-560
Condition
New
Pacote de Transporte
Wooden Case
Especificação
2600× 900mm2
Marca Registrada
Minder-Hightech
Origem
China
Capacidade de Produção
100set/Month

Descrição de Produto

MJGP-560 sistema de entorreamento de dupla câmara piriforme
Pyriform Double Chamber Sputtering System for Metal Film&Semiconductor Film
Introdução ao produto
Utilizado para preparar nanofilmes funcionais de camada única/multicamada, incluindo vários filmes duros, metálicos, semicondutor e dielétricos para universidades e instituições científicas.

Estrutura
Câmara de vácuo de entortação, alvo de esmulação de magnetrões, placa giratória de aquecimento de substrato de arrefecimento a água, câmara de injeção de amostras, câmara de amostras, annealer, alvo de lavagem posterior, mecanismo de envio de amostras de magneto, circuito de gás, sistema de bombeamento, sistema de medição de vácuo, sistema de controlo eléctrico e base de montagem

Pyriform Double Chamber Sputtering System for Metal Film&Semiconductor FilmPyriform Double Chamber Sputtering System for Metal Film&Semiconductor FilmPyriform Double Chamber Sputtering System for Metal Film&Semiconductor Film

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Capital Registrada
1000000 RMB