Pureza elevada Tetrafluoride carbono CF4 Gás para a indústria de semicondutores a gravação

• CAS No.: 75-73-0
• Formula: CF4
• EINECS: 200-896-5
• Constituent: Industrial Pure Air
• Grade Standard: Industrial Grade
• Chemical Property: Non-Flammable Gas
• N ° de Modelo.: 40L-50L
• número un: 1982
• nome de envio: tetrafluorometano
• classe de perigo: 2.2
• etiqueta: gás não inflamável
• descrição geral: gás incolor/não inflamável
• ficheiro mol: 75-73-0.Mol
• Pacote de Transporte: Cylinder
• Especificação: 1.603g/cm3(-128º C) 27.330(cm· mol)
• Marca Registrada: RM/OEM
• Origem: Qingdao, China
• Código HS: 2826199090
• Capacidade de Produção: 1000 PCS Per Month

Descrição de Produto

Aplicação do SF4:
Tetrafluoride de carbono é a maior quantidade de gás do ataque de plasma na indústria microelectrónica actualmente. É uma mistura de gases de alta pureza e oxigénio de elevada pureza de carbono tetrafluoride. Ele pode ser amplamente utilizado na gravação de silício, dióxido de silício, nitreto de silício, vidro de silício de fósforo e materiais de filme de tungsténio.
De silício e sistemas de dióxido de silício, a selectividade das 45: 1 pode ser obtido ajustando a relação entre os dois gases quando usando o ataque de iões reactivos do cf4-H2, o que é muito útil para gravar o filme de dióxido de silício na porta de silício policristalino.

É também largamente utilizado na limpeza da superfície de dispositivos eletrônicos, produção de células solares, a tecnologia laser, fase gasosa isolamento, refrigeração criogénicos, teste de vazamento de agente, controlo da atitude de foguete espacial e detergente no circuito de impressão de produção.

  COA do gás CF4

O ponto	Index
CF4,   %(V/V)≥	99, 999	99, 995	99.99
N2, 10-6(V/V) ≤	4	20	40
O2, 10-6(V/V) ≤	1	5	10
CO2, 10-6(V/V) ≤	1	5	10
CO, 10-6(V/V) ≤	0.3	0.5	1
SF6,   10-6(V/V) ≤	1	1	5
H2O, 10-6(V/V) ≤	1	5	10
HF, 10-6(V/V) ≤	0.1	0.3	0.3
A CTF(CH2F2, CHF3, C2F3, C3F8), 10-6(V/V) ≤	1	10	30
O total de impurezas, ppm (V/V) ≤	10	50	100

CF4 Especificação

O parâmetro Ensaio crítico	Unidade	Empresa Especificação	Análise Resultados	Método de análise
Tetrafluormetano - (CF4)	% (V/V)	99, 999% Min	> 99, 999%	F. Schockweiler
(S de oxigênio2)	V. Ppm	< 1.0	< 0, 2	F. Schockweiler
Azoto (N2)	V. Ppm	< 1.0	< 0, 6	F. Schockweiler
Monóxido de carbono (CO)	V. Ppm	< 0, 5	< 0, 2	F. Schockweiler
O dióxido de carbono (CO2)	V. Ppm	< 0, 5	< 0, 2	F. Schockweiler
O hexafluoreto de enxofre (SF6)	V. Ppm	< 0, 2	< 0, 1	F. Schockweiler
Trifluormetano(CHF3)	V. Ppm	< 0, 5	< 0, 1	F. Schockweiler
Outros Halocarbon(OFC)*	V. Ppm	< 1.0	< 0, 7	F. Schockweiler
De hidrocarbonetos totais (THC)*	V. Ppm	< 0, 5	< 0, 1	F. Schockweiler
A humidade(H2O)	V. Ppm	< 0, 5	< 0, 2	Analisador de humidade
A acidez(como IC)	V. Ppm	< 0, 1	< 0, 08	Analisador de acidez
Conteúdo total de impurezas	V. Ppm	≤10.0	< 10, 0	F. Schockweiler
Particale(> 0.1Μm)	Pcs/litro	< 10, 0	< 1.0	ICP-MS

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