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Espelho para máquina de litografia

Serviço pós-venda: um ano
Garantia: um ano
Uso: Iluminação, Médico, Optical, Fotografia
Tipo: Lente Convexa
Transmitância: > 95%
Forma: Lente Único

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Membro Diamante Desde 2021

Fornecedores com licênças comerciais verificadas

Avaliação: 5.0/5
Fabricante / Fábrica

Informação Básica.

N ° de Modelo.
Mirror NO4
Material
microcristal
Lentes de Cor
Marrom
Certificação
RoHS, ISO9001, CE
Personalizado
Não personalizado
Revestimento
UV
transmissão de luz;
bom
máquina litográfica
baixo
precisão
alto
estabilidade química
bom
isolamento eléctrico
bom
valor
alto
Pacote de Transporte
Pallet
Especificação
microcrystal
Marca Registrada
raytek
Origem
China

Descrição de Produto

Espelho para máquina de litografia

 

Os componentes ópticos na litografia são utilizados principalmente em exposição, iluminação, detecção de energia, sistema de vias de luz e outras cenas. O sistema de exposição da máquina litográfica inclui o sistema de iluminação e a lente de projeção objetiva. (1) alta precisão: Para obter uma imagem precisa, o controlo rigoroso das aberrações, a planura da lente litográfica e os requisitos de acabamento são elevados (2) valor elevado: A produção de lentes ópticas de alta precisão requer uma máquina de moagem de alta precisão e abrasivos de lentes finas.

 

Tamanho do material

 

A lente é feita de material microcristalino com diâmetro interno de 9,6cm e diâmetro externo de 19,4cm no plano A. a espessura lateral é de 5,1 cm, aplicada às partes de precisão da máquina litográfica.

 

Campo de aplicação

 

Como componente central da máquina litográfica, utilizada principalmente em semicondutores, biomedicina, fotônicos e dispositivos nano

 

Princípio de funcionamento

 

Baseia-se principalmente na tecnologia de projecção óptica. Projecta a luz na superfície de uma placa de silicone colocando a fonte de luz num foco elevado através de um sistema de lentes especialmente concebido. A placa de silicone é revestida com fotorsista e o processo de exposição e desenvolvimento do fotorsista irá formar o padrão de circuito desejado. Para alcançar alta resolução e alta transferência de padrões, a máquina litográfica emprega muitas tecnologias-chave. O sistema de lentes é composto por várias lentes utilizadas para focar a luz numa placa de silicone para formar um padrão. Um sistema de lente de alta resolução precisa de ter aberrações mais pequenas, um campo de visão maior e uma transmissão ótica mais elevada. Nos últimos anos, com o desenvolvimento da nanotecnologia, a litografia de transmissão tem sido gradualmente substituída pela litografia de exposição com sistemas de lentes mais complexos.

 

A  
diâmetro interior diâmetro externo espessura
9.6 19.4 5.1



Mirror for Lithography MachineMirror for Lithography MachineMirror for Lithography Machine

 

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