Folha/placa de alumínio de 99.99% 0.04-0,1 mm de espessura

• Condição: Novo
• Certificação: ISO9001
• Personalizado: Personalizado
• Material: re
• Aplicação: Manufacturing Electronic Valve Parts
• forma: placa
• N ° de Modelo.: Re-tape
• composição química: re
• Pacote de Transporte: Carton
• Especificação: Customization
• Marca Registrada: Rhenium
• Origem: Hunan, China
• Capacidade de Produção: 1000 Kilogram/Kilograms Per Month

Descrição de Produto

Descrição do produto

Nome: Rhenium Plate/Rhenium sheet

Aspecto: Chapa ou chapa de metal prateado

Fórmula molecular: Re

Tamanho: 0.04 ~ 0,1 mm de espessura; 500 mm de largura, máx.; 1.000 mm de comprimento, máx..

Folha de rénio | a fita é utilizada principalmente como materiais de eléctrodos em condições difíceis e de temperatura elevada, para a produção de componentes electrónicos e tubo de aquecimento de temperatura ultra elevada com evaporação de metal na indústria de semicondutores e electrónica. As peças de aquecimento a alta temperatura têm de trabalhar em condições especiais, em comparação com outros materiais, o aquecimento puro de rénio tem um melhor desempenho eléctrico, uma maior esperança de vida, estas propriedades significativas são mais resistentes à atmosfera de trabalho dura e são favorecidas pelos utilizadores. A película de rénio é utilizada principalmente para o revestimento e película de deposição de fase de vapor químico (CVD) e para o processo de deposição de vapor físico (PVD), incluindo evaporação de feixes de electrões quentes, evaporação orgânica a baixa temperatura, deposição de camadas atómicas (ALD) e produto de deposição de vapor químico orgânico metálico (MOCVD), etc. outros podem ser utilizados para o fabrico de peças especiais em equipamento aeroespacial

Especificação: Pureza química de 99.99 % min (calculada pelo método de subtracção, excepto elemento de gás), densidade de 21 g/cc mín
 

Tamanho: T (0.04-0.1) * W (0.5-80) mm, pode ser personalizado de acordo com o requisito.

Composição química:

Teor principal: Re 99.99 % min (excluindo elementos do gás)

Vestígios máximos de impurezas metálicas, analisadas pelo ICP-MS
 

An	0.0005%	TI	0.0001%	Cu	0.0001%	SB	0.0001%
Mg	0.0001%	V	0.0005%	Zn	0.0002%	TA	0.0001%
Al	0.0005%	CR	0.0015%	Como	0.0001%	W	0.0020%
Si	0.0005%	MN	0.0001%	ZR	0.0005%	PB	0.0001%
P	0.0005%	FE	0.0020%	Seg	0.0020%	Bi	0.0001%
K	0.0005%	Co	0.0001%	CD	0.0001%	Se	0.0001%
CA	0.0005%	Ni	0.0010%	SN	0.0001%	TL	0.0001%

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