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Fornecedor Auditado O tântalo é um elemento químico com o símbolo Ta e o número atómico 73. Anteriormente conhecido como tântalo, o seu nome vem de Tantalus, um vilão da mitologia grega. O tântalo é um metal de transição raro, duro, azul-cinzento, lustroso, altamente resistente à corrosão. Faz parte do grupo de metais refratários, que são amplamente utilizados como componentes menores em ligas. O tântalo é escuro (azul-cinzento), denso, dúctil, muito duro, facilmente fabricado e altamente condutor de calor e eletricidade. O metal é conhecido por sua resistência à corrosão por ácidos; na verdade, a temperaturas abaixo de 150 ° C, o tântalo é quase completamente imune ao ataque pela aqua regia normalmente agressiva.
O alvo de tântalo Sputtering é produzido por EB derretimento. É normalmente aplicado em suportes magnéticos de gravação, componentes de impressora, ecrãs de painel plano, óptico, vidro industrial, e resistências de película fina. O Tantalum Sputtering Target de elevada pureza é normalmente utilizado para aplicação de semicondutores. A elevada resistência natural do tântalo com o seu baixo coeficiente de expansão térmica, juntamente com a sua capacidade de colar tanto ao cobre como ao silício, fazem dele a escolha perfeita para uma barreira de difusão para evitar que o cobre e o silício interajam.
O XK é um produtor profissional de alvos de entorse Tantalum com várias formas e pureza, que são aplicados principalmente à indústria de semicondutores e microelectrónica. Graças aos processos de formação especiais que utilizamos, os nossos alvos de entorpação de tântalo possuem uma densidade mais elevada, um tamanho médio de partículas mais reduzido, bem como uma pureza elevada, como resultado, pode beneficiar de um processo mais rápido devido a velocidades de espicagem mais elevadas e obter camadas de tântalo muito homogéneas.
A pureza química é crucial para os alvos de entorpeamento de metal, se a pureza for maior, as películas que você obteve possuem um nível mais notável de condutividade elétrica e uma formação de partículas minimizada durante o processo de PVD. A forma abaixo é um certificado de análise típico para o alvo de sputtering de tântalo de alta pureza 3N5.
Métodos analíticos: 1. Os elementos metálicos foram analisados por ICP-OES. 2. Os elementos do gás foram analisados por meio do programa LECO.
| Elementos | Real | Especificações | Unidades | Elementos | Real | Especificações | Unidades | Elementos | Real | Especificações | Unidades |
| Li | ppm | Zn | ppm | PB | ppm | ||||||
| B | ppm | GA | ppm | Bi | ppm | ||||||
| F | ppm | GE | ppm | Y | ppm | ||||||
| An | ppm | Como | ppm | TH | ppm | ||||||
| Mg | ppm | Se | ppm | ER | ppm | ||||||
| Al | ppm | ZR | ppm | RU | ppm | ||||||
| Si | < 1 | ppm | Nota | < 10 | ppm | RB | ppm | ||||
| P | ppm | Seg | < 10 | ppm | SR | ppm | |||||
| CL | ppm | PD | ppm | SC | ppm | ||||||
| K | ppm | AG | ppm | Seja | ppm | ||||||
| CA | ppm | SN | ppm | Lado direito | ppm | ||||||
| TI | < 1 | ppm | SB | ppm | CD | ppm | |||||
| V | ppm | BA | ppm | ||||||||
| CR | ppm | HF | ppm | ||||||||
| MN | ppm | TA | Matriz | % de peso | C | 30 | ppm | ||||
| FE | 1 | ppm | W | 33 | ppm | S | ppm | ||||
| Co | ppm | PT | ppm | O | 68 | ppm | |||||
| Ni | 1 | ppm | Au | ppm | N | ppm | |||||
| Cu | ppm | Hg | ppm | H | 5 | ppm |
|
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Embalagem padrão para exportação: Embalagem selada a vácuo no interior; caixa de cartão para exportação ou caixa de madeira no exterior
O envio pode ser feito pela FedEx, DHL, UPS, TNT Express , etc. , para peso bruto ≤ 100 KG;
Para envios grandes ≥ 100 KG , o método de envio será discutido consigo.
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Xinkang: Somos um fabricante profissional especializado neste campo por mais de 10 anos.
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