Aspirador a plasma atmosférico Purificador Plasma para semicondutores

• After-sales Service: Engineer at Site
• Warranty: 1 Year
• Application: Semiconductor(IGBT, Mems, etc ) Process Cleaning
• Cleaning Media: Dry Cleaning
• Automation: Semi-automatic
• Cleaning Precision: Ultra-Precision Industrial Cleaning
• N ° de Modelo.: VPC42
• Control: PLC
• Principle: Physical Cleaning
• Certification: CE, RoHS
• Condition: New
• Customized: Customized
• Feature: Clean Thoroughly
• potência: 380 vac 20 a.
• atmosfera: azoto
• azoto: 0,5mpa
• sensor de temperatura: ómega dos eua
• área de limpeza única: 350 * 350 mm
• tamanho: 85 * 170 * 96 cm
• Pacote de Transporte: Polywood Case
• Especificação: 350 *350mm*5 layers
• Marca Registrada: Torch
• Origem: Beijing
• Capacidade de Produção: 50sets/Month

Descrição de Produto

Aspirador a plasma atmosférico para semicondutores

I. Nome do equipamento, número do tipo, origem e data de entrega
1.1 Nome do equipamento: Aspirador de plasma cleaning machine
Modelo nº 1.2 : VPC42
1.3 origem (país, fabricante): Beijing Torch SMT Incorporated Company
1.4 data de entrega: 4-8 semanas após a entrada em vigor do contrato
1.5 utilizado principalmente para o processo de tratamento da superfície do plasma em campos de invólucro semicondutor, tais como placas de silicone, substrato de vidro, substrato cerâmico, placa porta-CI, estrutura de chumbo de cobre, Placa de potência de substrato de um lado de grande dimensão, módulo IGBT, sensor MEMS com fixação, dispositivo de micro-ondas, filtro, dispositivo RF, etc.
II  Principais parâmetros de desempenho técnico:
2.1 volume da câmara de vácuo: 42 L.
2.2 grau de vácuo:
O grau máximo de vácuo do aspirador de plasma VPC42 é de Inferior a 2 Pa (bomba mecânica seca de 40 l/minuto)
2.3 Área de limpeza efectiva:
Área de limpeza única: 350 * 350 mm
15 camadas: Intervalo de 15 mm: FREQUÊNCIA intermédia DE 40 KHZ 2 W (tratamento de superfície)
5 camadas: Intervalo de 50 mm, frequência de rádio 13,56HZ 300W (processamento de volume, com arrefecimento a água)
2.4 altura da câmara de vácuo:
 Altura da câmara:  350 mm (tamanho efetivo)
2.5 temperatura de limpeza:
Limpeza a baixa temperatura (abaixo da temperatura ambiente).
2.6 frequência de limpeza: 30-120s
2.7 efeito de limpeza: O valor do dyne pode atingir 70. O ângulo de queda de água é de 15 graus e pode ser controlado de forma ideal num intervalo de 10 graus (a oficina com limpeza de ar na classe 100 sem pó pode ser limpa num período de 4 horas)
2.8 pode ser utilizado gás:
Árgon, azoto, oxigénio, mistura de azoto/hidrogénio, hidrogenocarboneto de carbono, etc.
2.9 a máquina de limpeza a plasma a vácuo VPC42 está equipada com sistema de controlo de software:
O sistema de controle de software é fácil de operar, permite a conexão do equipamento de controle e várias curvas de processo de limpeza podem ser definidas, e curvas podem ser definidas, modificadas, armazenadas e selecionadas para uso de acordo com diferentes processos; o software tem sua própria função de análise, que pode analisar a curva do processo. O sistema de controlo de software regista automaticamente os dados do processo de limpeza, a curva de temperatura, o tempo e os dados relacionados com o alarme em tempo real, para garantir a rastreabilidade do processo de limpeza do produto.


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