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3 Coater de plasmas com rotação alvo para pesquisa em película fina

After-sales Service: 12 Months
Warranty: 12 Months
Type: Coating Production Line
Coating: Vacuum Coating
Substrate: Steel
Certification: CE

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Henan, China
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Visão Geral

Informação Básica.

N ° de Modelo.
plasma sputtering coater
Condition
New
tamanho da plataforma de amostras
100 mm
modo de arrefecimento
arrefecimento a água
temperatura de aquecimento
máx. 500ºc
rode a velocidade
1-20rpm ajustável
tamanho do substrato
diâmetro 100 mm
câmara de vácuo
aço inoxidável
Magnetron Sputtering Target Head
1 Magnetron Sputtering Heads
velocidade rodada
1-20 Rpm (Adjustable)
a temperatura de aquecimento mais elevada
500ºc
precisão do controlo da temperatura
+/- 1.0 °c
capacidade ank
9 l
bomba de vácuo
a Set of Molecular Pump System, Using One-Button O
sistema de refrigeração
10 l/min
Pacote de Transporte
Fumigated Wooden Box
Especificação
550*350*400
Marca Registrada
TN
Origem
China
Código HS
8486209000
Capacidade de Produção
200/Month

Descrição de Produto

3 Coater de plasmas com rotação alvo para pesquisa em película fina

Descrição do produto

Três cabeças alvo coater scuttering plasma é um custo-eficaz de plasma sutter equipamento de revestimento independentemente desenvolvido pela nossa empresa. O alvo de sputtering do plasma é um tamanho padrão de 2 polegadas. Os clientes podem escolher diferentes configurações de cabeças-alvo 1~3 de acordo com as suas necessidades para satisfazer as diferentes necessidades experimentais de filmes de camada única ou de películas multicamadas de vários materiais. O instrumento está equipado com uma fonte de alimentação de alta tensão CC de 150 W, que pode ser utilizada para revestimento de saltitão de metal, especialmente para o revestimento de metais como ouro, prata e cobre. Este revestidor de película está equipado com uma ligação de gás para a introdução de gás de proteção. O instrumento adota o controlo do ecrã tátil, que é simples e intuitivo de utilizar. Pode realizar o funcionamento do início e do fim do revestimento, mudar a posição da cabeça alvo e a rotação do deflector com um botão, o que é muito adequado para a compra em laboratório.

Este coater de película está equipado com uma bomba de vácuo de palheta rotativa de dois estágios. Tem as vantagens de um volume pequeno, aspiração rápida e funcionamento simples. Se os clientes precisarem de melhorar ainda mais o grau de vácuo, pode contactar o técnico para selecionar o grupo de bombas moleculares para formar um sistema de vácuo elevado.


Aplicação de  três cabeças alvo em coater de entorse de plasma:
Pode ser utilizado para revestimento de calha metálica, especialmente para revestimentos metálicos como ouro, prata e cobre.
Parâmetros do produto
 Modelo do produto TN-PLZ180-III-DC-Q
Plataforma de amostras Tamanho 100 mm
Distância entre a plataforma de amostras e a superfície alvo 20 ~ 35 mm de altura ajustável
Velocidade de rotação 1 ~ 20 rpm ajustáveis
Temperatura de aquecimento ≤ 500ºC
Precisão do controlo da temperatura ± 1ºC controlo da temperatura PID
Fonte de entortamento de plasma Quantidade 2 polegadas * 3
Método de arrefecimento Arrefecimento a água
Câmara de vácuo Tamanho da câmara φ180mm * 200 mm    
Janela de observação Visibilidade omnidirecional
Material da câmara Quartzo de elevada pureza
Método aberto Tampa superior removível
Material da cobertura superior e inferior 304 aço inoxidável
Porta de bombagem KF16
Porta de admissão conector de virola de 1/4 polegadas
Configuração de energia Quantidade Fonte de alimentação CC x1
Potência de saída Máx. 150 W.
Potência de rotação 1200 V.
Corrente máx. De entortamento 50 mA
Sistema de vácuo Tipo de bomba de vácuo Bomba de vácuo de palheta rotativa de dois estágios
Porta de bombagem KF16
Interface de escape KF16
Taxa de bombeamento 1,1L/s (4m3/h)
Vácuo máximo 0,1 Pa
Medição de vácuo Resistência do manómetro de vácuo
Outros Fonte de alimentação CA 220 V 50 Hz
Potência total 1,5 kW/2 kW
Dimensão 570 mm * 450 mm * 500 mm
Peso 30 kg
Fotos detalhadas

 

 

3 Rotary Target Plasma Sputtering Coater for Thin Film Research3 Rotary Target Plasma Sputtering Coater for Thin Film Research3 Rotary Target Plasma Sputtering Coater for Thin Film Research3 Rotary Target Plasma Sputtering Coater for Thin Film Research3 Rotary Target Plasma Sputtering Coater for Thin Film Research
PERGUNTAS FREQUENTES

P. você é um fabricante ou uma empresa de negociação?

R. somos fabricantes profissionais de instrumentos de laboratório, temos a nossa própria equipa de design e fábrica, temos uma experiência técnica madura e podemos garantir a qualidade dos produtos e o preço ideal.

P. como é o sistema de serviço pós-venda do produto da sua empresa?

A.  o período de garantia do produto é de 12 meses, podemos fornecer manutenção vitalícia. Temos departamentos profissionais de pré-vendas e pós-venda que podem responder-lhe no prazo de 24 horas para resolver quaisquer problemas técnicos.

P. quanto tempo demora o tempo de entrega? Se pretender personalizar o instrumento, quanto tempo demora?

A.1. Se os bens estiverem em estoque, é 5-10 dias. 2. Podemos fornecer serviços personalizados para nossos clientes. Normalmente, demora 30-60 dias, dependendo das especificações do instrumento personalizado.

P. a fonte de alimentação e a ficha do nosso país são diferentes. Como você resolve?

A. podemos fornecer um transformador e uma ficha de acordo com os seus requisitos locais, de acordo com a ficha de alimentação de diferentes países.

P. como pagar?

A.T/T, L/C, D/P, etc., recomenda-se a utilização da Garantia Comercial Alibaba.

P. como é o pacote de mercadorias? Métodos de entrega?

A.1. Embalagem de caixa de madeira com sinal de fumigação de exportação padrão 2. Transporte expresso, aéreo e marítimo de acordo com os requisitos do cliente, encontre a forma mais adequada.

Mais perguntas, por favor contacte-nos.

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Obrigado pelos teus esforços para tornar o mundo melhor!
Quaisquer perguntas sobre o nosso coater rotativo, contacte-nos.

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Fabricante / Fábrica
Produtos Principais
Evaporation Coater; Film Coater
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