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Fornecedor Auditado Este equipamento é um coater sputtering do magnetron do único-alvo do desktop. O equipamento foi miniaturizado e projetado para limitar a aparência do equipamento ao nível da área de trabalho, reduzindo significativamente os requisitos do local de instalação. O equipamento está equipado com uma fonte de alimentação CC, que pode ser utilizada para materiais metálicos de entortamento e tem as características de velocidade rápida e baixa subida de temperatura. Toda a câmara de vácuo adopta o design do alvo inferior, que tem um bom efeito de entorse e uma menor poluição por impurezas, o que pode proteger a amostra na máxima medida.
Parâmetros técnicos do tipo de desktop alvo de coater de entorpação magnetron montado sob a montagem:
| CY-MSP180S-DC-GU | ||||
| Plataforma de amostras |
tamanho | φ100mm | Aquecimento | Máx. 500ºC |
| Velocidade de rotação | 0-20 ajustável | Método de instalação | A plataforma de amostras encontra -se por baixo da cobertura superior da câmara e a amostra é instalada como um tipo de pinça | |
| Alvo de espiaçamento de magnetrões | Quantidade | 2" x 2 apoios inferiores com flange inferior da câmara | ||
| Câmara de vácuo | Tamanho da câmara | Φ180mm x 215 mm | Janela de observação | Dianteira φ60mm |
| Material da câmara | SS304 | Método de abertura | Tampa superior aberta | |
| Sistema de vácuo | Bomba mecânica | Bomba de palheta rotativa | Interface de bombeamento | KF16 |
| Bomba molecular | Bomba turbomolecular | Interface de bombeamento | KF40 | |
| Medição de vácuo | Medidor de resistência e medidor de ionização | Interface de escape | KF16 | |
| Vácuo máximo | 1,0E-4Pa | Fonte de alimentação | AC 220V 50/60Hz | |
| Taxa de bombeamento | Bomba mecânica: Bomba molecular 1.1L/s: 60L/S. | |||
| Configuração de energia | Quantidade | Fonte de alimentação CC x1 | Potência de saída máxima | Fonte de alimentação CC de 300 W. |
| Outros | Tensão de alimentação | AC220 V, 50 Hz | Dimensões | 550 mm x 350 mm x 400 mm |
| Potência total | 2 kW | |||
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