Fornecedores com licênças comerciais verificadas
Fornecedor Auditado Atmosfera de protecção contra temperaturas elevadas controlo preciso da temperatura vácuo vapor químico Forno de tubo PECVD
Especificações de CVD com forno de tubo 1200C
| Dois fornos de tubos da zona de aquecimento | Modelo do produto | TN-O1200-50IIT | |
| Material do tubo do forno | Quartzo de elevada pureza | ||
| Diâmetro do tubo | 50 mm | ||
| Comprimento do tubo do forno | 1200 mm | ||
| Comprimento da câmara do forno | 440 mm | ||
| Comprimento da zona de aquecimento | 200 mm | ||
| Temperatura de funcionamento | 0 ~ 1100ºC | ||
| Precisão do controlo da temperatura | ± 1ºC | ||
| Modo de controlo da temperatura | controlo da temperatura do programa de 30 ou 50 segmentos | ||
| Modo de visualização | Ecrã LCD sensível HD a cores | ||
| Método de vedação | flange de vácuo de aço inoxidável 304 | ||
| Fonte de alimentação | CA: 220 V 50 / 60 Hz 2,5 kw | ||
| Sistema de saída RF | Gama de potência | 0 ~ 500 W ajustável | |
| frequência de funcionamento | 13,56 MHz e 0.005% | ||
| Modo de trabalho | Saída contínua | ||
| Modo de impedância correspondente | Pode ser combinado e o brilho é distribuído uniformemente pelo tubo do forno | ||
| Estabilidade de potência | ≤ 2 W. | ||
| Potência refletida de funcionamento normal | ≤ 3 W. | ||
| Potência refletida amplificada | ≤ 70 W. | ||
| Componente harmónico | ≤ - 50 dBc | ||
| Eficiência geral | ≥ 70% | ||
| Factor de potência | ≥ 90% | ||
| Tensão/frequência de alimentação | Frequência CA monofásica (187V ~ 153V) 50 Hz | ||
| Modo de controlo | Controlo interno/quantidade analógica PLC/comunicação RS232/485 | ||
| Definições de protecção de energia | Protecção contra sobrecorrente CC, protecção contra sobreaquecimento do amplificador de potência, protecção de potência reflectida | ||
| Método de arrefecimento | Arrefecimento por ar forçado | ||
| Zona de luminescência | Sob ar, a fonte de alimentação de radiofrequência e a bobina cooperam com a luminescência para encher o tubo da fornalha | ||
| Barco de evaporação | Temperatura de trabalho | 1300ºC | |
| Fonte de evaporação | Cesto de arame de tungsténio, cadinho de alumina cónico opcional | ||
| Termopar | Termopar tipo S. | ||
| Corrente de trabalho | ≤ 30 A. | ||
| Potência máx | 500 W. | ||
| Sistema de fornecimento de gás | Debitómetro | Medidor de massa de quatro canais | |
| Gama de fluxo | Gama MFC1: 0 ~ 200sccm MFC2: 0 ~ 200sccm Intervalo MFC3: 0 ~ 500sccm MFC4 intervalo: 0 ~ 500sccm Correspondente aos gases H2, CH4, N2, ar. |
||
| Precisão da medição | ± 1.5% F.S | ||
| Repetibilidade | ± 0.2% FS | ||
| Precisão linear | ± 1% F.S. | ||
| Tempo de resposta | ≤ 4 s. | ||
| Pressão de trabalho | - 0,15Mpa ~ 0,15Mpa | ||
| Controlo de fluxo | Controlo do ecrã táctil LCD, visor digital, cada canal de gás contém válvula de agulha para controlo individual. | ||
| Interface de admissão | Pode ser ligado com 1/4NPS ou 6 mm de diâmetro exterior tubo de aço inoxidável | ||
| Interface de saída | Pode ser ligado com 1/4NPS ou 6 mm de diâmetro exterior tubo de aço inoxidável | ||
| Método de ligação | Conector de virola dupla | ||
| Temperatura de funcionamento | 5 ~ 45ºC | ||
| Estreia de gás | Equipado com dispositivo de pré-mistura de gás | ||
| Sistema de escape | Modelo do produto | TN-GZK103-A. | |
| Bomba molecular | Bomba turbomolecular | ||
| Bomba de apoio | Bomba de palhetas rotativas de dois estágios | ||
| Taxa de bombeamento | Bomba molecular: 600L/S | Desempenho de bombeamento abrangente: O vácuo de 30 minutos pode atingir: 5 × 10E-3Pa | |
| Bomba de palheta rotativa: 1,1L/S. | |||
| Vácuo máximo | 5 × 10E-4Pa | ||
| Porta de bombagem | KF40 | ||
| Interface de escape | KF16 | ||
| Medição de vácuo | Manómetro de vácuo composto | ||
1. Temos máquina CVD/PECVD com sistema de suprimento de gás, sistema de vácuo, forno de tubo e gerador de plasma.
2. Forno do tubo (temperatura): 1200C, 1400C, 1600C, temperatura personalizada disponível.
3. Forno de tubo (zona de aquecimento): Zona única, zona dupla, zona tripla, n.o personalizado da zona de aquecimento disponível.
4. Material do tubo: O quartzo, corindo, liga, e outro material do tubo são personalizáveis.
5. O tubo com diâmetro e comprimento diferentes é personalizável.
6. Gerador de plasma: 100 W, 150 W, 300 W, 500 W, 1000 W, e outra potência do gerador de plasma é personalizável.
7. Fluxômetro: O fluxômetro de 1~3 ou de vários canais é opcional com base no seu processo.
Forno de tubo CVD com zona de aquecimento única de 1200C Forno de tubo CVD/PECVD com zona de aquecimento triplo 1200C PECVD -- rolo a rolo PECVD - tipo rotativo Sistema MOS2 CVD de dissulfureto Sistema DCCVD Sistema HPCVD
Podemos enviar as máquinas CVD, PECVD por mar, por ar, por terra e por expresso, também podemos providenciar o envio de acordo com as suas necessidades.
P. você é fabricante ou empresa de negociação?
A. somos fabricantes profissionais de instrumentos de laboratório, temos uma equipa de I&D profissional e uma oficina, que pode prometer a qulaidade e o serviço pós-venda.
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