Laboratório 1200c Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Pecpois Disco de silicone

• After-sales Service: on-Line Service
• Warranty: One Year
• Aplicação: Indústria, Escola, Lab
• personalizado: personalizado
• Certificação: CE
• Estrutura: Portátil
• N ° de Modelo.: TN-PECVD-200SST
• Material: Aço inoxidável
• Digitar: tubular Furnace
• nome do produto: Pecvd System
• material da câmara: sus304
• tamanho da câmara: 500 * 500 mm
• medidor do fluxo de massa: seis canais
• alimentação rf: 500 w/1000 w.
• plataforma de amostras: 200 mm
• aquecimento da amostra: Rt~1000c
• Pacote de Transporte: Fumigated Wooden Box
• Marca Registrada: TN
• Origem: China
• Código HS: 8401200000
• Capacidade de Produção: 20 Sets Per Month

Descrição de Produto

Descrição do produto

Laboratório 1200C Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Pecpois Disco de silicone

A deposição de vapor químico (PECVD) com realce plasmático é um tipo de  deposição química de vapor caracterizado pelo uso da ativação plasmática a baixas temperaturas para  aumentar a reação química de deposição de vapor. As vantagens deste método são que a temperatura de deposição é baixa, a taxa de deposição é rápida e a película  produzida tem excelentes propriedades elétricas, boa aderência do substrato e excelente cobertura de passos.

Aplicação de deposição de vapor PECVD:
Os sistemas de CVD melhorados com plasma podem ser utilizados em: Preparação de grafeno,  preparação de sulfuretos, preparação de nanomateriais e outros locais de teste. Uma variedade de filmes como   SiOx, SiNx, silicone amorfo, silício microcristalino, nano-silício, SIC, semelhante a diamante, etc. podem ser depositados na superfície de amostras de flocos ou formas semelhantes, e filmes dopados tipo P e tipo N podem ser depositados. A película depositada tem boa uniformidade,  compacidade, aderência e isolamento. Amplamente utilizado em ferramentas de corte,  moldes de alta precisão, revestimentos duros, decoração de topo e outros campos, a deposição de vapor PECVD tem uma ampla gama de aplicações em circuitos integrados de escala ultra-grande, dispositivos optoelectrónicos, MEMS e outros campos.
 

Parâmetros do produto

Especificações do sistema PECVD

	Número do modelo	TN-PECVD-200SST
	Tamanho da cavidade	PHI 500-
	Comprimento da zona quente	200
	Fonte de alimentação RF	500 W (1000 W é opcional)
	Temperatura	1000 ºC
	Bomba para  alimentação	Conjunto de bomba molecular
	Tipo de visor	Tipo T.
	Zona quente	Zona única
	Refrigerador de água	CW5200
	Material da cavidade	SS
	SampleAquecimento  temperatura	Acima  de RT-1000ºC,      precisão do controlo da temperatura:  ± 1.C  , utilizando o medidor de controlo da temperatura para controlo da temperatura; Velocidade ajustável: 1-20rpm ajustável
	Tamanho da cabeça de pulverização	Φ90mm, o espaçamento entre o eletrodo e a amostra 40 mm , em linha, é ajustável de forma contínua (pode ser ajustado de acordo com o processo) e com um indicador de régua
	Mesa de amostra	200 mm de diâmetro
	Vácuo de trabalho   para deposição	0.133-133 Pa (pode ser ajustado de acordo com o processo)
	Flange superior	Pode ser levantado por motor, o substrato é fácil de mudar e há uma porta visual
Tabela de substrato		O movimento linear e azimute da mesa do substrato, o aquecimento do substrato e o controlo da temperatura, a mesa de montagem e o controlo do ecrã táctil, o movimento linear do substrato são controlados manualmente e a rotação do substrato é controlada por motores DC
Câmara de vácuo		Tipo de abertura da porta dianteira , φ500mm X 500 mm de aço inoxidável
Janela de observação		φ100mm com defletor
Debitómetro mássico		Medidor de fluxo de massa de seis vias
Número de caminhos   de gás		Seis caminhos
Gama de pressão		0.15 MPa a 0.15 MPa
Alcance		0 a 100 SCCM (oxigénio) 0 a 100 SCCM (CF4) 0 a 200 SCCM (SF6) 0 a 200 SCCM (árgon) 0 a 500 SCCM (outros gases, ar) 0-500 SCCM (outros gases azoto)
Gama de controlo de fluxo		Mais ou menos 1.5%
Material do percurso do gás		304 aço inoxidável
Junta do tubo		junta do casquilho de 6,35 mm
Sistema de vácuo		Bomba dianteira: Bomba de vácuo isenta de óleo 4.7L/S. Bomba molecular: 1200L/S.
Gama de medição		1 x 10-5 a 1 x 105 Pa
Precisão da medição		1 x 10-5 ~ 1 x 10 - 4 Pa ± leitura de 40% 1 x 10-4 ~ 1 x 105 Pa para uma leitura de ± 20%

 

Fotos detalhadas

1. Temos máquina CVD/PECVD com sistema de suprimento de gás, sistema de vácuo, forno de tubo e gerador de plasma.

2. Forno do tubo (temperatura): 1200C, 1400C, 1600C, temperatura personalizada disponível.

3. Forno de tubo (zona de aquecimento): Zona única, zona dupla, zona tripla, n.o personalizado da zona de aquecimento disponível.

4. Material do tubo: O quartzo, corindo, liga, e outro material do tubo são personalizáveis.

5. O tubo com diâmetro e comprimento diferentes é personalizável.

6. Gerador de plasma: 100 W, 150 W, 300 W, 500 W, 1000 W, e outra potência do gerador de plasma é personalizável.

7. Fluxômetro: O fluxômetro de 1~3 ou de vários canais é opcional com base no seu processo.

 

 

Outras máquinas:

Perfil da empresa

Embalagem e envio

Podemos enviar as máquinas CVD, PECVD por mar, por ar, por terra e por expresso, também podemos providenciar o envio de acordo com as suas necessidades.

PERGUNTAS FREQUENTES

P. você é fabricante ou empresa de negociação?
A. somos fabricantes profissionais de instrumentos de laboratório, temos uma equipa de I&D profissional e uma oficina, que pode prometer a qulaidade e o serviço pós-venda.  

P. como está a sua garantia?
A.  a nossa garantia é de 12 meses e fornece manutenção vitalícia. Oferecemos 24 horas de serviço on-line.

P. quanto tempo demora o tempo de entrega? Se pretender personalizar o instrumento, quanto tempo demora?
A. 5-10 dias ---- em loja. Customzed produtos ---- geralmente leva 30-60 dias dependendo de suas necessidades.

P. fonte de alimentação e ficha?
A. podemos fornecer produtos que se acentrassem com a tensão local e com o padrão de ficha.

P. como pagar?
A.  T T, L/C, D/P, ETC.

P. como é o pacote de mercadorias? Métodos de entrega?
A.  fumigação de exportação padrão assina embalagem de caixa de madeira ou como suas exigências.

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