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Laboratório Coater de Sputtering de alvo duplo e alto vácuo com DC Fonte de alimentação

After-sales Service: on-Line Service
Warranty: One Year
Tipo: gagueira de magnetrões
Revestimento: Revestimento de Vácuo
Certificação: CE
Condição: Nova

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Membro de Ouro Desde 2023

Fornecedores com licênças comerciais verificadas

Henan, China
para ver todos os rótulos de força verificados (15)
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Visão Geral

Informação Básica.

N ° de Modelo.
TN-MSV325-II-DCDC-SS
nome do produto
coater de gagueira de magnetron
método de revestimento
gagueira de magnetrões
Target Power
cc 500 w
tamanho da câmara
300 * 300 mm
tamanho do substrato
140 mm
Substrate Heating
Max. 500c
tamanho do alvo
1/2/3 Inch
fonte de alimentação
ca 220v
bomba de palheta rotativa
1,1l/s
Turbo-Molecular Pump
600 l/s
material da câmara
ss304
Pacote de Transporte
Fumigated Wooden Box
Especificação
540*540*1000mm
Marca Registrada
TN
Origem
China
Capacidade de Produção
20 Sets Per Month

Descrição de Produto

Laboratório Coater de Sputtering de alvo duplo e alto vácuo com DC fonte de alimentação

Descrição do produto

GAGUEIRA DE MAGNETRON: VISÃO GERAL

A entortação é um processo de deposição com base em plasma, no qual os íons energéticos são acelerados em direção a um alvo. Os iões atingem o alvo e os átomos são ejetados (ou espaguados) da superfície. Estes átomos viajam para o substrato e incorporam-se na película de crescimento.

Características do coater de gagueira magnetron:

Coater de gagueira de magnetrões de alvo duplo equipado com duas fontes de alimentação CC de 500 W. A fonte de alimentação CC pode ser utilizada para a preparação de película metálica. Os dois alvos podem satisfazer as necessidades de revestimentos multicamadas ou múltiplos.
A máquina de revestimento está equipada com um medidor de medição de alta precisão de dois canais. Se tiver outros requisitos, pode personalizar o percurso de gás de até quatro fluxómetros de massa de canal para satisfazer os requisitos complexos de construção do ambiente de gás.
O instrumento está equipado com bomba turbo-molecular avançada, o vácuo final é 1.0E-5PA e outros tipos  de bomba molecular estão disponíveis.
O percurso do gás da bomba molecular é controlado por várias válvulas solenoide. Pode abrir a câmara para retirar a amostra sem desligar a bomba.
Este produto pode ser equipado com um computador industrial integrado para controlar o sistema. No programa do computador.


Lab High Vacuum Dual Target Magnetron Sputtering Coater with DC Power Supply

Parâmetros do produto

Especificações do coater de gagueira de magnetron:

Nome do produto Coater de gagueira DC de alvo duplo
Fonte de alimentação de rotação Fonte de alimentação CC × 2 fonte de alimentação CC: 500 W
Câmara de vácuo Tamanho da câmara: φ300mm × 300 mm, mate da câmara: Aço inoxidável
Janela de relógio: φ100mm
 O método de abertura da cavidade adota a abertura superior, o que facilita a mudança do alvo
 Cabeça-alvo com rotação de magnetrões Existem 2 cabeças de gagueira magnetrões instaladas no instrumento, e todas estão equipadas com uma camada intermédia arrefecida a água, que pode passar em água de arrefecimento para arrefecer o material alvo. As duas cabeças de gagueira estão ligadas com uma fonte de alimentação CC e a principal fonte condutora de gagueira
Plataforma de amostras Tamanho do suporte de amostras: 140 mm de diâmetro. (Pode ser colocado um substrato máximo de 4") o suporte de amostras pode ser rodado a uma velocidade de: 1-20 rpm (ajustável) a temperatura de aquecimento mais elevada do suporte de amostras é de 500ºC C e a precisão do controlo da temperatura é de 1.0 C /- ° C.
Controlador de fluxo de gás Existem 2 medidores de fluxo de massa instalados no interior do equipamento, o intervalo é de 0 a 200 cm
Bomba de vácuo Equipado com um conjunto de bomba molecular, utilizando uma operação de botão de 80L/S.
Sistema de refrigeração 16 l/min
Tensão 220 V  50 HZ
Fotos detalhadas

1.WE têm o coater sputtering do magnetron com 1 alvo, 2 alvos, 3 alvos, 4 tagrst, etc. o alvo pode ser projetado no alto ou no fundo da câmara.
2. 0 - potência CC de 1000 W ou alvo de potência RF disponível. A função de polarização é opcional.
3. Tamanho alvo: 1 polegada, 2 polegadas, 3 polegadas, 4 polegadas, etc.
4. O alvo magnético forte e o alvo magnanente magnético são opcionais.
5. Coater de gagueira de magnetron com evaporação, feixe de e está disponível.
6. Serviço personalizado sempre disponível!

Lab High Vacuum Dual Target Magnetron Sputtering Coater with DC Power Supply

Lab High Vacuum Dual Target Magnetron Sputtering Coater with DC Power Supply
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Perfil da empresa

Lab High Vacuum Dual Target Magnetron Sputtering Coater with DC Power Supply

Embalagem e envio

Podemos enviar o magnetron espaguando coater por terra, por mar, por ar, por expresso, também pode providenciar pacote e remessa de acordo com suas necessidades.
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PERGUNTAS FREQUENTES

P. você é fabricante ou empresa de negociação?
A. somos fabricantes profissionais de instrumentos de laboratório, temos uma equipa de I&D profissional e uma oficina, que pode prometer a qulaidade e o serviço pós-venda.  

P. como está a sua garantia?
A.  a nossa garantia é de 12 meses e fornece manutenção vitalícia. Oferecemos 24 horas de serviço on-line.

P. quanto tempo demora o tempo de entrega? Se pretender personalizar o instrumento, quanto tempo demora?
A. 5-10 dias ---- em loja. Customzed produtos ---- geralmente leva 30-60 dias dependendo de suas necessidades.

P. fonte de alimentação e ficha?
A. podemos fornecer produtos que se acentrassem com a tensão local e com o padrão de ficha.

P. como pagar?
A.  T T, L/C, D/P, ETC.

P. como é o pacote de mercadorias? Métodos de entrega?
A.  fumigação de exportação padrão assina embalagem de caixa de madeira ou como suas exigências.
 

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Produtos Principais
Evaporation Coater; Film Coater
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