Type: | Cleaning Machine |
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Feature: | Plasma Cleaning |
Condition: | New |
Customized: | Customized |
nome do produto: | produto de limpeza de plasma |
material da câmara: | quartzo de elevada pureza |
Fornecedores com licênças comerciais verificadas
Introdução do produto de limpeza de plasma:
O produto de limpeza de plasma é uma nova tecnologia de alta tecnologia que utiliza plasma para obter efeitos que não podem ser alcançados através de métodos de limpeza convencionais. O plasma é um estado de matéria, também chamado de quarto estado de matéria, e não é o estado comum de três estados de sólido, líquido e gás. Aplique energia suficiente ao gás para ionizar e tornar-se um estado de plasma. Os componentes "activos" do plasma incluem: Iões, electrões, átomos, grupos activos, nuclídeos excitados (estados metastáveis), fotões, etc. o produto de limpeza de plasma utiliza as propriedades destes componentes activos para tratar a superfície da amostra, de modo a atingir o objectivo de limpeza, revestimento, etc.Metal: Remover óleo, sujidade gordurosa e outras matérias orgânicas e camada de óxido na superfície metálica;
Fabrico automóvel: Utilizado para pré-tratamento de plásticos e pulverização de tinta em processos de fabrico automóvel;
Produção têxtil: Utilizada para a hidrófilos, a hidrobicidade e a modificação da superfície dos têxteis, dos filtros e das películas;
Biomedicina: As placas de Petri melhoram a actividade, os stents vasculares, as seringas, os cateteres e a Pro-humedecimento de vários materiais, antes do tratamento com revestimento cruzado;
Aeroespacial: Pré-tratamento de revestimento de superfície de materiais isolantes, componentes electrónicos, etc.;
Sistema electrónico: Limpeza e gravação da placa de circuito impresso. Tratamento de não oxidação e activação de PP e outros materiais, para melhorar a capacidade de solderabilidade;
Indústria de semicondutores: Processamento e processamento de wafers para remover o fotoresista, pré-tratamento de embalagens;
LED: Pré-tratamento antes de o suporte ser limpo e embalado;
Borracha plástica: Melhorar a actividade superficial de PS, PE, PTFE, TPE, POM, AS e PP, tornando mais fácil a colagem e a impressão.
Parâmetros técnicos do aparelho de limpeza de plasma:
Peças principais |
Item |
Parâmetros |
Limpeza |
Câmara |
Quartzo de elevada pureza |
Câmara |
Diâmetro 200 mm; comprimento 170 mm |
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Fonte de alimentação RF |
Fonte de alimentação |
A fonte de alimentação é uma fonte de alimentação de RF de estado sólido e adota um módulo amplificador de potência de alta estabilidade e alta confiabilidade e um módulo CC, que assegura efetivamente a saída de energia de RF da fonte de alimentação. São utilizados componentes eletrónicos de alta qualidade para garantir a fiabilidade dos produtos. |
Potência |
Funcionamento normal prolongado Funcionamento simples e flexível Elevada eficiência da fonte de alimentação e baixa geração de calor Com função de proteção de potência de reflexão perfeita |
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Alimentação RF |
0 ~ 500 W continuamente ajustável / 0 ~ 1000 W continuamente ajustável |
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Frequência do sinal |
13,56MHz ± 0.005% |
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Potência reflectida |
≤ 200 W. |
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Estabilidade de potência |
± 0.1% |
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Conector RF |
Conector do tipo N. |
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Máquina |
≥ 75% |
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Harmónico |
≤ -50 dBc |
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método de arrefecimento |
Arrefecimento por ar forçado |
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Medição de gás |
Unidade de medição |
Fluxômetro de flutuação |
Canal de gás |
Dois canais |
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Um intervalo de canais |
10 ~ 100 ml |
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Gama de canais B. |
16 ~ 160 ml |
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Vácuo |
Vácuo |
Manómetro de vácuo digital (indicador de resistência) |
Bomba de vácuo |
Bomba de vácuo de palheta rotativa de dois estágios |
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Velocidade do motor |
50 Hz: 1440; 60 Hz: 1720 |
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Taxa de bombeamento |
50 Hz: 1,1L/s; 60 Hz: 1,3L/s |
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Gama de vácuo |
0,1 Pa ~ 10 000 Pa |
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Vácuo máximo |
0,5 Pa |
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Ruído do motor |
≤ 56 dB |
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Interface do tubo |
Entrada de gás: KF16; porta de escape KF16. |
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Tubo de ligação |
Foles de vácuo KF16 |
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Válvula de vácuo |
Válvula solenóide |
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Potência do motor |
400 W. |
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Outros |
Fonte de alimentação |
AC220V 50/60Hz |
Potência total |
1000 W / 1500 W. |
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Em funcionamento |
- 10ºC-40ºC |
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Vácuo de trabalho |
≤ 40 Pa |
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Tamanho total |
600 mm × 650 mm × 730 mm |
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Peso total |
80 kg (incluindo embalagem) |
1. VOLUME: 1 L, 2 L, 5 L, 10 L, 20 L, 30 L , ETC.
2. FONTE DE ALIMENTAÇÃO RF: 100 W, 150 W, 300 W, 300 W, 1000 W, ajustável. 13,56MHz
3. Medidor de caudal de gás de canal duplo
4. Vácuo: Bomba de vácuo de palhetas rotativas de dois estágios, 0,5Pa
5. O limpador de plasma personalizado de acordo com suas necessidades está disponível
Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd. É uma empresa abrangente que integra design, pesquisa e desenvolvimento, produção e vendas.
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Nossos produtos são amplamente utilizados na área de pesquisa de ciência de materiais. Temos uma cooperação extensa com universidades, laboratórios e novas empresas de materiais nacionais. Foi exportado com sucesso para mais de 20 países e regiões, incluindo os Estados Unidos, o Reino Unido, a Alemanha, a Rússia, a Suíça, Canadá, Brasil, etc. e estabeleceram relações de cooperação de longo prazo com revendedores locais.
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