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sobre alvo de sputtering cerâmico
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alvo de sputtering cerâmico90+ fábricas verificadas

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Alvo de cerâmica de poli silício para alvo de pulverização em fotovoltaicos solares

Alvo de cerâmica de poli silício para alvo de pulverização em fotovoltaicos solares

US$ 35,00-50,00
1 Kg(MOQ)
Alvo de Silício Monocristalino Mono-Si para Alvo de Sputtering em Fotovoltaicos Solares para Telefone Móvel

Alvo de Silício Monocristalino Mono-Si para Alvo de Sputtering em Fotovoltaicos Solares para Telefone Móvel

US$ 35,00-75,00
1 Kg(MOQ)
In2O3+Cu Alvo Cerâmico Óxido de Índio+Cuprum Alvo de Sputtering Cerâmico para LCD/Painel Touch

In2O3+Cu Alvo Cerâmico Óxido de Índio+Cuprum Alvo de Sputtering Cerâmico para LCD/Painel Touch

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
SrRuO3 Alvo de Cerâmica de Estrôncio Rutênio para Revestimento de Filme Fino Óptico

SrRuO3 Alvo de Cerâmica de Estrôncio Rutênio para Revestimento de Filme Fino Óptico

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Alvo de Sputtering de Cerâmica de Ferrite de Bismuto Bifeo3 Alta Pureza para Aplicações de Revestimento

Alvo de Sputtering de Cerâmica de Ferrite de Bismuto Bifeo3 Alta Pureza para Aplicações de Revestimento

US$ 25,00-30,00
10 Peças(MOQ)
Alvos Cerâmicos de Titanato de Bário e Estrôncio para Sputtering Srbatio3 para Revestimento

Alvos Cerâmicos de Titanato de Bário e Estrôncio para Sputtering Srbatio3 para Revestimento

US$ 25,00-30,00
10 Peças(MOQ)
Xinkang 99.999% Pureza 5n Alvo de Sputtering Redondo de Cerâmica de Silício Monocristalino

Xinkang 99.999% Pureza 5n Alvo de Sputtering Redondo de Cerâmica de Silício Monocristalino

US$ 85,00-125,00
1 Peça(MOQ)
Alvo redondo de óxido de alumínio alumina personalizado Al2O3 para sputtering cerâmico

Alvo redondo de óxido de alumínio alumina personalizado Al2O3 para sputtering cerâmico

US$ 45,00-85,00
1 Peça(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Alvo de Cerâmica de Liga Tiox Dióxido de Titânio Óxido de Titânio Alvo de Sputtering

Alvo de Cerâmica de Liga Tiox Dióxido de Titânio Óxido de Titânio Alvo de Sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Lac2 Alvo de Cerâmica de Carbeto de Lantânio para Sputtering

99.95% Lac2 Alvo de Cerâmica de Carbeto de Lantânio para Sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Tisi2 Alvos Cerâmicos Alvos de Sputtering de Silício de Titânio

99.99% Tisi2 Alvos Cerâmicos Alvos de Sputtering de Silício de Titânio

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Alvo Cerâmico de MGO Alvos de Sputtering Óxido de Magnésio

99.99% Alvo Cerâmico de MGO Alvos de Sputtering Óxido de Magnésio

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 anos
·Empresa Comercial
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Alvo cerâmico revestido de alta pureza de carbeto de silício para processamento de sputtering magnetron com personalização

Alvo cerâmico revestido de alta pureza de carbeto de silício para processamento de sputtering magnetron com personalização

Negociável
1 Peça(MOQ)
Alvo de Carbeto de Silício Sic 99.9% Revestimento por Sputtering Alvo Cerâmico

Alvo de Carbeto de Silício Sic 99.9% Revestimento por Sputtering Alvo Cerâmico

Negociável
1 Peça(MOQ)
Alvo de Alta Pureza 99.9%- 99.99% Ruo2, Alvo de Dióxido de Rutênio para Sputtering 1-10inch

Alvo de Alta Pureza 99.9%- 99.99% Ruo2, Alvo de Dióxido de Rutênio para Sputtering 1-10inch

US$ 2 000,00-4 000,00
1 Peça(MOQ)
Alvo de Sputtering de Tântalo de Alta Pureza para Revestimento de Filme Fino

Alvo de Sputtering de Tântalo de Alta Pureza para Revestimento de Filme Fino

US$ 300,00-1 000,00
1 Peça(MOQ)
1/4

Xiamen Wintrustek Advanced Materials Co., Ltd.

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Disco Cerâmico de Alborato de Lantânio Lab6 para Sputtering

Disco Cerâmico de Alborato de Lantânio Lab6 para Sputtering

US$ 50,00-200,00
1 Peça(MOQ)
Alvo de Sputtering de Hexaboreto de Lantânio Lab6 para Revestimento de Filme Fino PVD

Alvo de Sputtering de Hexaboreto de Lantânio Lab6 para Revestimento de Filme Fino PVD

US$ 50,00-200,00
1 Peça(MOQ)
Alvos Cerâmicos de Hexaboreto de Lantânio com Alta Emissividade Eletrônica Lab6

Alvos Cerâmicos de Hexaboreto de Lantânio com Alta Emissividade Eletrônica Lab6

US$ 50,00-200,00
1 Peça(MOQ)
Disco Cerâmico de Borreto de Lantânio para Alvo de Sputtering Lab6

Disco Cerâmico de Borreto de Lantânio para Alvo de Sputtering Lab6

US$ 50,00-200,00
1 Peça(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Marca TMAXCN 99.5% Alvo de Cerâmica Sic de Carbeto de Silício para Sputtering para Revestimento

Marca TMAXCN 99.5% Alvo de Cerâmica Sic de Carbeto de Silício para Sputtering para Revestimento

US$ 78,00-90,00
1 Peça(MOQ)
Marca TMAXCN Alta Pureza 99.5% Boro Carbeto B4c Alvo Cerâmico de Sputtering

Marca TMAXCN Alta Pureza 99.5% Boro Carbeto B4c Alvo Cerâmico de Sputtering

US$ 78,00-90,00
1 Peça(MOQ)
Material de Revestimento Cerâmico de Alvo de Sputtering de Estanho de Zinco de Alta Densidade TMAXCN Zn2sno4

Material de Revestimento Cerâmico de Alvo de Sputtering de Estanho de Zinco de Alta Densidade TMAXCN Zn2sno4

US$ 78,00-90,00
1 Peça(MOQ)
Revestidor condutor de magnetron por sputtering DC/RF de bancada para metais, óxidos, cerâmicas e semicondutores

Revestidor condutor de magnetron por sputtering DC/RF de bancada para metais, óxidos, cerâmicas e semicondutores

US$ 15 000,00
1 Peça(MOQ)
1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

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Fabricante Fornecedor de Alvo de Titânio

Fabricante Fornecedor de Alvo de Titânio

US$ 30,00-100,00
1 Peça(MOQ)
Máquina de Revestimento por Sputtering Magnetrão

Máquina de Revestimento por Sputtering Magnetrão

US$ 55 000,00-150 000,00
1 Peça(MOQ)
Máquina de Revestimento a Vácuo por Sputtering Magnetron para Pulseira de Relógio S/S

Máquina de Revestimento a Vácuo por Sputtering Magnetron para Pulseira de Relógio S/S

US$ 15 000,00-160 000,00
1 Peça(MOQ)
Máquina de Revestimento de Íon de Ouro de Titânio PVD para Joias e Relógios

Máquina de Revestimento de Íon de Ouro de Titânio PVD para Joias e Relógios

US$ 55 000,00-89 000,00
1 Peça(MOQ)
1/4

Shandong Pengcheng Advanced Ceramics Co., Ltd.

12 anos·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Alvo de Sputtering de Nitreto de Boro, Barcos de Evaporação de Nitreto de Boro, Crisol Elétrico de Cerâmica de Nitreto de Boro

Alvo de Sputtering de Nitreto de Boro, Barcos de Evaporação de Nitreto de Boro, Crisol Elétrico de Cerâmica de Nitreto de Boro

US$ 150,00-160,00
100 Kg(MOQ)
Alvos de Sputtering de Diboreto de Titânio (TiB2) Placa Cerâmica

Alvos de Sputtering de Diboreto de Titânio (TiB2) Placa Cerâmica

US$ 30,00
50 Kg(MOQ)
Tib2 Alvo de Sputtering de Cerâmica Dibróxido de Titânio

Tib2 Alvo de Sputtering de Cerâmica Dibróxido de Titânio

US$ 30,00
50 Kg(MOQ)
1/4

Hebei Zhongyi Import and Export Co., Ltd.

3 anos
·Empresa Comercial
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Alvo de Sputtering de Disulfeto de Tungstênio de Alta Pureza Ws2 para Aplicações de Revestimento

Alvo de Sputtering de Disulfeto de Tungstênio de Alta Pureza Ws2 para Aplicações de Revestimento

US$ 9,00-12,00
10 Kg(MOQ)
Revestimento Cerâmico de Disulfeto de Tungstênio Puro Ws2 para Alvo de Sputtering de Alta Qualidade

Revestimento Cerâmico de Disulfeto de Tungstênio Puro Ws2 para Alvo de Sputtering de Alta Qualidade

US$ 9,00-12,00
10 Kg(MOQ)
1/4

BIOTIO SHANGHAI CORP CO., LTD.

5.0
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Pellets de Alumínio API-625 Alvo de Sputtering Alta Pureza 99.999% em Estoque

Pellets de Alumínio API-625 Alvo de Sputtering Alta Pureza 99.999% em Estoque

US$ 3 180,00-8 500,00
1 Tonelada(MOQ)
Pellets de Alumínio APP-512 Alvo de Sputtering Alta Pureza 99.999% em Estoque

Pellets de Alumínio APP-512 Alvo de Sputtering Alta Pureza 99.999% em Estoque

US$ 3 180,00-8 500,00
1 Tonelada(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Alvo de Rutênio por Sputtering Magnetron Alta Pureza

Alvo de Rutênio por Sputtering Magnetron Alta Pureza

US$ 32 000,00
1 Peça(MOQ)
Material de Alvo de Nitreto de Silício de Alta Pureza

Material de Alvo de Nitreto de Silício de Alta Pureza

US$ 15 000,00
1 Peça(MOQ)
Alvo de Rutênio de Alta Pureza para Sputtering

Alvo de Rutênio de Alta Pureza para Sputtering

US$ 75 000,00
1 Peça(MOQ)
Alvo de Cobre de Alta Pureza para Sputtering a Vácuo

Alvo de Cobre de Alta Pureza para Sputtering a Vácuo

US$ 2 200,00
1 Peça(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Alvo redondo de níquel de alta qualidade para alvo de sputtering

Alvo redondo de níquel de alta qualidade para alvo de sputtering

US$ 10,00
1 pcs(MOQ)
Alvo de Sputtering Redondo de Zircônio de Alto Ponto de Fusão Zr702

Alvo de Sputtering Redondo de Zircônio de Alto Ponto de Fusão Zr702

US$ 15,00
1 pcs(MOQ)
Superfície Polida de Alta Dureza e Alvo de Tubo de Níquel de Maior Pureza

Superfície Polida de Alta Dureza e Alvo de Tubo de Níquel de Maior Pureza

US$ 30,00
10 Peças(MOQ)
Boa condutividade térmica e elétrica, barra redonda de zircônio puro e reto

Boa condutividade térmica e elétrica, barra redonda de zircônio puro e reto

US$ 15,00
10 kg(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

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Preço de Alvos de Titânio de Alta Pureza para Sputtering para Revestimento PVD/Alvo de Titânio para Sputtering Alvo Redondo de Titânio à Venda

Preço de Alvos de Titânio de Alta Pureza para Sputtering para Revestimento PVD/Alvo de Titânio para Sputtering Alvo Redondo de Titânio à Venda

US$ 80,00-300,00
1 Peça(MOQ)
Linha de Revestimento por Sputtering de Magnetron de Vidro/Máquina de Revestimento de Vidro Low-E

Linha de Revestimento por Sputtering de Magnetron de Vidro/Máquina de Revestimento de Vidro Low-E

US$ 45 000,00-150 000,00
1 Conjunto(MOQ)
Máquina de Revestimento a Vácuo de Peças Automotivas de Alta Qualidade para Azul, Vermelho, Laranja, Rosa Dourado, Preto, Verde, Prata, Colorido etc

Máquina de Revestimento a Vácuo de Peças Automotivas de Alta Qualidade para Azul, Vermelho, Laranja, Rosa Dourado, Preto, Verde, Prata, Colorido etc

US$ 45 000,00-150 000,00
1 Conjunto(MOQ)
Máquina de Revestimento a Vácuo por Sputtering Magnetron PVD para Molduras de Vidro de Relógios e Lâmpadas

Máquina de Revestimento a Vácuo por Sputtering Magnetron PVD para Molduras de Vidro de Relógios e Lâmpadas

US$ 20 000,00-55 000,00
1 Peça(MOQ)
1/4

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Nitreto de boro (BN) alvo de perfuração PVD em nitrito cerâmico, diboreto de titânio, boreto de titânio, tamanho personalizado, colagem da placa de apoio

Nitreto de boro (BN) alvo de perfuração PVD em nitrito cerâmico, diboreto de titânio, boreto de titânio, tamanho personalizado, colagem da placa de apoio

Negociável
1 Peça(MOQ)
Titanato de bário alvo Batio3, bário estrôncio titanato alvo Basrtio3, PVD Magnetron Sputtering Target, Laboratório consumível

Titanato de bário alvo Batio3, bário estrôncio titanato alvo Basrtio3, PVD Magnetron Sputtering Target, Laboratório consumível

Negociável
1 Peça(MOQ)
MATERIAL alvo DE ÓXIDO DE ÍTO (óxido de estanho), película condutora transparente de óxido de estanho semicondutor, alvo de gagueira de magnetron

MATERIAL alvo DE ÓXIDO DE ÍTO (óxido de estanho), película condutora transparente de óxido de estanho semicondutor, alvo de gagueira de magnetron

Negociável
1 Peça(MOQ)
Material alvo de óxido de zinco de elevada pureza alumínio (AZO), óxido de zinco (ZnO) dopado com óxido de alumínio (Al2O3), alvo de óxido de gagueira Magnetron, ligação de placa traseira

Material alvo de óxido de zinco de elevada pureza alumínio (AZO), óxido de zinco (ZnO) dopado com óxido de alumínio (Al2O3), alvo de óxido de gagueira Magnetron, ligação de placa traseira

Negociável
1 Peça(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 anos
·Fabricante / Fábrica
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Revestidor de Sputtering Magnetron de Duplo Alvo RF de Cerâmica, Die elétrica, Óptica, Óxido, Filme Duro, Filme de PTFE

Revestidor de Sputtering Magnetron de Duplo Alvo RF de Cerâmica, Die elétrica, Óptica, Óxido, Filme Duro, Filme de PTFE

US$ 26 500,00
1 Peça(MOQ)
Revestimento por Sputtering Magnetron de Alvo Único com Monitor de Espessura de Filme

Revestimento por Sputtering Magnetron de Alvo Único com Monitor de Espessura de Filme

US$ 18 000,00-19 200,00
1 set(MOQ)
Revestimento por Sputtering Magnetron de Um, Dois e Três Alvos com Monitor de Espessura de Filme

Revestimento por Sputtering Magnetron de Um, Dois e Três Alvos com Monitor de Espessura de Filme

US$ 60 000,00-61 200,00
1 set(MOQ)
Sputtering Magnetron de Alvo Único com Função de Enrolamento de Fibra Óptica

Sputtering Magnetron de Alvo Único com Função de Enrolamento de Fibra Óptica

US$ 28 000,00-29 500,00
1 set(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 anos
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Quatro Coatedores de Sputtering Magnetron da Target com Câmara de Carga para Filme Fino Cerâmico

Quatro Coatedores de Sputtering Magnetron da Target com Câmara de Carga para Filme Fino Cerâmico

US$ 28 500,00-40 100,00
1 Peça(MOQ)
Aparelho de Revestimento por Sputtering de Magnetron de Alvo Único em Aço Inoxidável de Mesa

Aparelho de Revestimento por Sputtering de Magnetron de Alvo Único em Aço Inoxidável de Mesa

US$ 8 730,00-8 900,00
1 Peça(MOQ)
Deposição por Sputtering de Magnetron de Duplo Alvo DC RF para Filmes Finos de Metal e Óxido

Deposição por Sputtering de Magnetron de Duplo Alvo DC RF para Filmes Finos de Metal e Óxido

US$ 21 000,00-26 000,00
1 Peça(MOQ)
Instrumento de Revestimento por Sputtering Magnetron de Cátodo Único em Cavity de Quartzo para Amostra de Sem

Instrumento de Revestimento por Sputtering Magnetron de Cátodo Único em Cavity de Quartzo para Amostra de Sem

US$ 8 730,00-8 900,00
1 Peça(MOQ)
1/4

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Nitreto de boro (BN) alvo de perfuração PVD em nitrito cerâmico, diboreto de titânio, boreto de titânio, tamanho personalizado, colagem da placa de apoio

Nitreto de boro (BN) alvo de perfuração PVD em nitrito cerâmico, diboreto de titânio, boreto de titânio, tamanho personalizado, colagem da placa de apoio

Negociável
1 Peça(MOQ)
MATERIAL alvo DE ÓXIDO DE ESTANHO (ITO), película condutora transparente de óxido de estanho semicondutor, alvo de gagueira de magnetron, especificações personalizadas

MATERIAL alvo DE ÓXIDO DE ESTANHO (ITO), película condutora transparente de óxido de estanho semicondutor, alvo de gagueira de magnetron, especificações personalizadas

Negociável
1 Peça(MOQ)
Titanato de bário alvo Batio3, bário estrôncio titanato alvo Basrtio3, PVD Magnetron Sputtering Target, Laboratório Consumíveis, partículas, colagem de apoio

Titanato de bário alvo Batio3, bário estrôncio titanato alvo Basrtio3, PVD Magnetron Sputtering Target, Laboratório Consumíveis, partículas, colagem de apoio

Negociável
1 Peça(MOQ)
Material alvo Igzo (óxido de zinco de gálio índio) de elevada pureza para revestimento a vácuo de gretamento de pVD Magnetron, pesquisa e material experimental

Material alvo Igzo (óxido de zinco de gálio índio) de elevada pureza para revestimento a vácuo de gretamento de pVD Magnetron, pesquisa e material experimental

Negociável
1 Peça(MOQ)

Huita Opto-Electronic Materials Co., Ltd

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ITO (comprimidos) Alvo de pulverizaça ̃ o

ITO (comprimidos) Alvo de pulverizaça ̃ o

Negociável
5 Peças(MOQ)
Zircónio alvo de pulverizaça ̃ o

Zircónio alvo de pulverizaça ̃ o

Negociável
5 Peças(MOQ)
A rotação da coroa de silício

A rotação da coroa de silício

Negociável
5 Jogos(MOQ)
Coroa Tiox

Coroa Tiox

Negociável
5 Peças(MOQ)

Jiangyin Maideli Advanced Materials Co., Ltd.

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Ybco Yba2Cu3O7 Ítrio bário óxido de cobre da coroa de pulverizaça ̃ o

Ybco Yba2Cu3O7 Ítrio bário óxido de cobre da coroa de pulverizaça ̃ o

US$ 250,00-500,00
1 Peça(MOQ)

China Rare Metal Material Co., Ltd.

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Metas de pulverizaça ̃ o de cerâmica

Metas de pulverizaça ̃ o de cerâmica

US$ 100,00
1 Peça(MOQ)

Deyang Aijialun Vacuum Technology Co., Ltd.

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ITO alvo de pulverizaça ̃ o

ITO alvo de pulverizaça ̃ o

US$ 20,00-1 000,00
1 Conjunto(MOQ)

Hunan Ultra Minor Metals Ltd

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Alvo de ósmio de elevada pureza para pulverização catódica alvo para a indústria de Filme Fino

Alvo de ósmio de elevada pureza para pulverização catódica alvo para a indústria de Filme Fino

Negociável
1 Peça(MOQ)

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Alvo de Sputtering de Gadolínio Premium para Fabricação Avançada de Eletrônicos

Alvo de Sputtering de Gadolínio Premium para Fabricação Avançada de Eletrônicos

US$ 55,00-85,00
1 Peça(MOQ)
99.9% Alvo de Sputtering de Terras Raras Yttrium Metal Y Disco de Yttrium para Semicondutor

99.9% Alvo de Sputtering de Terras Raras Yttrium Metal Y Disco de Yttrium para Semicondutor

US$ 115,00-130,00
1 Peça(MOQ)
Alvo de Sputtering de Ytterbium Avançado para Soluções Ópticas Superiores

Alvo de Sputtering de Ytterbium Avançado para Soluções Ópticas Superiores

US$ 190,00-199,00
1 Peça(MOQ)
Alvo de metal sob medida e de alta qualidade para soluções de armazenamento de dados

Alvo de metal sob medida e de alta qualidade para soluções de armazenamento de dados

US$ 115,00-130,00
1 Peça(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 anos·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Mo1 Preço do Alvo de Sputtering de Molibdênio

Mo1 Preço do Alvo de Sputtering de Molibdênio

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Alvo de Molibdênio de Alta Qualidade Placa de Molibdênio

Alvo de Molibdênio de Alta Qualidade Placa de Molibdênio

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Barra de Tungstênio Pura Personalizada W1

Barra de Tungstênio Pura Personalizada W1

US$ 39,00-65,00
1 kg(MOQ)
Barco de Molibdênio Puro Mais Confiável Barco de Molibdênio (La2O3) e Liga Tzm

Barco de Molibdênio Puro Mais Confiável Barco de Molibdênio (La2O3) e Liga Tzm

US$ 31,00-54,00
1 kg(MOQ)
1/2

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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Azo Sputtering alvo óxido de zinco de alumínio para evaporação película fina óptica Revestimento

Azo Sputtering alvo óxido de zinco de alumínio para evaporação película fina óptica Revestimento

Negociável
1 Peça(MOQ)
Alvo de pulverizaça ̃ o óxido de gálio Ga2O3 pureza 99,99% 4N

Alvo de pulverizaça ̃ o óxido de gálio Ga2O3 pureza 99,99% 4N

Negociável
1 Peça(MOQ)
Alvo de pulverizaça ̃ o de cerâmica em vários formatos para revestimento PVD alvo compostos

Alvo de pulverizaça ̃ o de cerâmica em vários formatos para revestimento PVD alvo compostos

Negociável
1 Peça(MOQ)
Yttrium Zirconium Oxide Ysz(Zro2/Y2o3 99.99% Sputtering Target Ceramic Target

Yttrium Zirconium Oxide Ysz(Zro2/Y2o3 99.99% Sputtering Target Ceramic Target

Negociável
1 Peça(MOQ)

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 anos
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Cátodo Rotativo, Alvo em Tubo Cilíndrico para Máquina de Revestimento

Cátodo Rotativo, Alvo em Tubo Cilíndrico para Máquina de Revestimento

US$ 6 700,00-6 800,00
2 sets(MOQ)
5-200kw Fonte de Sputtering Típica para Indústrias de Revestimento de Filmes Finos Cátodo de Sputter Magnetron Rotativo Alvo de Sputtering Rotativo

5-200kw Fonte de Sputtering Típica para Indústrias de Revestimento de Filmes Finos Cátodo de Sputter Magnetron Rotativo Alvo de Sputtering Rotativo

US$ 6 900,00-7 000,00
2 sets(MOQ)
Máquina de Sputtering Magnetron PVD para Tratamento de Superfície Cerâmica

Máquina de Sputtering Magnetron PVD para Tratamento de Superfície Cerâmica

US$ 80 000,00-180 000,00
1 Conjunto(MOQ)
Máquina de Revestimento por Sputtering Magnetron de Alta Precisão para Substratos de Metal, Vidro e Cerâmica

Máquina de Revestimento por Sputtering Magnetron de Alta Precisão para Substratos de Metal, Vidro e Cerâmica

US$ 80 000,00-180 000,00
1 Conjunto(MOQ)
1/4

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

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99.999% Placa de Alvo de Sputtering de Silício Monocristalino de Alta Pureza / Alvo Cerâmico de Silício

99.999% Placa de Alvo de Sputtering de Silício Monocristalino de Alta Pureza / Alvo Cerâmico de Silício

US$ 200,00-10 000,00
1 Peça(MOQ)
4n Alvo Azo ZnO: Al2O3 Alvos de Sputtering Rotativo

4n Alvo Azo ZnO: Al2O3 Alvos de Sputtering Rotativo

US$ 200,00-10 000,00
1 Peça(MOQ)
Alvos de Sputtering de Grafite de Carbono de Alta Pureza em Tamanho Personalizado 99.99% Alvo de Cobre de Ligação

Alvos de Sputtering de Grafite de Carbono de Alta Pureza em Tamanho Personalizado 99.99% Alvo de Cobre de Ligação

US$ 200,00-10 000,00
1 Peça(MOQ)
4n TiO2 Alvos de Óxido de Titânio Alvos Rotativos Alvos Planos

4n TiO2 Alvos de Óxido de Titânio Alvos Rotativos Alvos Planos

US$ 200,00-10 000,00
1 Peça(MOQ)

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 anos
·Empresa Comercial
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Preço de Fábrica Vender Alta Qualidade Alvo de Sputtering ITO 4n In2o3 e Sno2

Preço de Fábrica Vender Alta Qualidade Alvo de Sputtering ITO 4n In2o3 e Sno2

Negociável
1 Piece(MOQ)
Preço de Fábrica Vender Baixa Densidade 4n Alvo Redondo Pequeno ITO

Preço de Fábrica Vender Baixa Densidade 4n Alvo Redondo Pequeno ITO

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Preço de Fábrica Vender Alta Pureza Alvo ITO para Rpd 4n

Preço de Fábrica Vender Alta Pureza Alvo ITO para Rpd 4n

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Alvo de Metal ITO de Alta Pureza 4n Óxido de Índio e Óxido de Estanho In2o3 e Sno2

Alvo de Metal ITO de Alta Pureza 4n Óxido de Índio e Óxido de Estanho In2o3 e Sno2

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Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

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ITO alvo, ecrã OLED / LED / TP ITO alvo, Semicondutor LED ITO Slug

ITO alvo, ecrã OLED / LED / TP ITO alvo, Semicondutor LED ITO Slug

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Izo alvo, pulverização catódica Izo, Óxido Indium-Zinc Alvo

Izo alvo, pulverização catódica Izo, Óxido Indium-Zinc Alvo

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Canal de TFT Igzo alvo, Camada Igzo Indium-Gallium-alvo de óxido de zinco

Canal de TFT Igzo alvo, Camada Igzo Indium-Gallium-alvo de óxido de zinco

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ITO alvo, ITO alvo rotativo, Tp Tn Stn TFT-LCD ITO Target

ITO alvo, ITO alvo rotativo, Tp Tn Stn TFT-LCD ITO Target

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Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

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Al2O3 Alvo de pulverizaça ̃ o de cerâmica

Al2O3 Alvo de pulverizaça ̃ o de cerâmica

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Metas cilíndrico azóicos

Metas cilíndrico azóicos

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Bi2O3 Alvo de pulverizaça ̃ o de cerâmica

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Bi2TE3 Alvo de pulverizaça ̃ o

Bi2TE3 Alvo de pulverizaça ̃ o

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