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sobre alvo de índio e estanho
  • Inovação Tecnológica
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alvo de índio e estanho30+ fábricas verificadas

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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ITO90/10wt% Alvo de Sputtering de Óxido de Índio e Estanho com Placa de Apoio de Cobre

ITO90/10wt% Alvo de Sputtering de Óxido de Índio e Estanho com Placa de Apoio de Cobre

Negociável
1 Peça(MOQ)
Alvo Cerâmico 99.99% Alvo de Sputtering de Óxido de Estanho Indium

Alvo Cerâmico 99.99% Alvo de Sputtering de Óxido de Estanho Indium

US$ 110,00
1 Peça(MOQ)
Disco Redondo de Material Cerâmico ITO Alvo de Óxido de Índio e Estanho para Revestimento de Filme Fino

Disco Redondo de Material Cerâmico ITO Alvo de Óxido de Índio e Estanho para Revestimento de Filme Fino

US$ 100,00-120,00
1 pieces(MOQ)
Alvos cerâmicos de óxido de índio e estanho em tamanho personalizado

Alvos cerâmicos de óxido de índio e estanho em tamanho personalizado

US$ 20,00-30,00
10 Peças(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Alvo de Sputtering de Óxido de Índio e Estanho (ITO) de Alta Pureza 99.99% para Revestimento PVD

Alvo de Sputtering de Óxido de Índio e Estanho (ITO) de Alta Pureza 99.99% para Revestimento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Alvos Cerâmicos de Azo Doped de Alumínio Óxido de Zinco para Alvos de Sputtering para Revestimento PVD

99.95% Alvos Cerâmicos de Azo Doped de Alumínio Óxido de Zinco para Alvos de Sputtering para Revestimento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Alvo Cerâmico de ZnO Alvo de Óxido de Zinco para Revestimento Óptico

99.99% Alvo Cerâmico de ZnO Alvo de Óxido de Zinco para Revestimento Óptico

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Pó Nano de Óxido de Índio de Alta Pureza In2o3 Nanopartículas CAS 1312-43-2

Pó Nano de Óxido de Índio de Alta Pureza In2o3 Nanopartículas CAS 1312-43-2

US$ 1 200,00-1 500,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 anos
·Empresa Comercial
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Alvo ITO para LCD, PDP, OLED, alvo composto de estanho, índio e oxigênio

Alvo ITO para LCD, PDP, OLED, alvo composto de estanho, índio e oxigênio

Negociável
1 Peça(MOQ)
99.99% -99.9999% Placa de Sputtering de Titânio Ti Alvo de Titânio para Revestimento a Vácuo

99.99% -99.9999% Placa de Sputtering de Titânio Ti Alvo de Titânio para Revestimento a Vácuo

US$ 100,00-200,00
10 Peças(MOQ)
4n-6n Pó de Bismuto, Óxido de Bismuto, Esferas de Bismuto Agulha

4n-6n Pó de Bismuto, Óxido de Bismuto, Esferas de Bismuto Agulha

US$ 40,00-1 000,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Pó de Bismuto, Óxido de Bismuto, Esferas de Bismuto Agulha

99.99% Pó de Bismuto, Óxido de Bismuto, Esferas de Bismuto Agulha

US$ 20,00-100,00
1 g(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Alvo de Óxido de Índio e Estanho

Alvo de Óxido de Índio e Estanho

US$ 7 800,00
1 Peça(MOQ)
Alvo de Óxido de Índio e Estanho ITO Sputtering a Vácuo PVD Alvo Creen

Alvo de Óxido de Índio e Estanho ITO Sputtering a Vácuo PVD Alvo Creen

US$ 4 600,00
1 Peça(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Alvo ITO Alta Density>99.8% Baixa Densidade: 60% Alvo de Sputtering de Óxido de Índio e Estanho para Painel Touch LCD/LED

Alvo ITO Alta Density>99.8% Baixa Densidade: 60% Alvo de Sputtering de Óxido de Índio e Estanho para Painel Touch LCD/LED

US$ 340,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Placas de cobre de fábrica de Guangdong em óxido de estanho com alvos de Sputtering de ITO

Placas de cobre de fábrica de Guangdong em óxido de estanho com alvos de Sputtering de ITO

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Pureza elevada de fábrica tubo de cobre isento de oxigénio Sputtering pureza alvo do material 99.98% semicondutor

Pureza elevada de fábrica tubo de cobre isento de oxigénio Sputtering pureza alvo do material 99.98% semicondutor

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Fábricas de materiais alvo para a indústria de semicondutores para a indústria de distribuição por grosso

Fábricas de materiais alvo para a indústria de semicondutores para a indústria de distribuição por grosso

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Revestimento PVD de fábrica cobre alvo de multiarco de cobertura Cu Plate Semicondutor rotativo

Revestimento PVD de fábrica cobre alvo de multiarco de cobertura Cu Plate Semicondutor rotativo

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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MATERIAL alvo DE ÓXIDO DE ESTANHO (ITO), película condutora transparente de óxido de estanho semicondutor, alvo de gagueira de magnetron, especificações personalizadas

MATERIAL alvo DE ÓXIDO DE ESTANHO (ITO), película condutora transparente de óxido de estanho semicondutor, alvo de gagueira de magnetron, especificações personalizadas

Negociável
1 Peça(MOQ)

Uv Tech Material Ltd

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Carregador giratório Tiox Sial Prata Tubo catódico alvo de pulverizaça ̃ o de pureza de alta qualidade para os PVD Nano deposição de Filme Fino

Carregador giratório Tiox Sial Prata Tubo catódico alvo de pulverizaça ̃ o de pureza de alta qualidade para os PVD Nano deposição de Filme Fino

Negociável
1 Peça(MOQ)
Uvtm Fabricante alvo de pulverizaça ̃ o de fábrica na China 18 anos Experiece para Msvd e PVD revestimento por pulverização catódica contínua de vácuo da linha de produção Vicky 13249153016

Uvtm Fabricante alvo de pulverizaça ̃ o de fábrica na China 18 anos Experiece para Msvd e PVD revestimento por pulverização catódica contínua de vácuo da linha de produção Vicky 13249153016

Negociável
1 Peça(MOQ)
Corantes Sputering alvo, materiais de revestimento metálico de película fina membrana

Corantes Sputering alvo, materiais de revestimento metálico de película fina membrana

Negociável
1 Peça(MOQ)
O Chrome Cr PVD Colagem Planar alvo no prato Cooper

O Chrome Cr PVD Colagem Planar alvo no prato Cooper

Negociável
1 Peça(MOQ)

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 anos
·Empresa Comercial
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Preço de Fábrica Vender Alta Qualidade Alvo de Sputtering ITO 4n In2o3 e Sno2

Preço de Fábrica Vender Alta Qualidade Alvo de Sputtering ITO 4n In2o3 e Sno2

Negociável
1 Piece(MOQ)
Preço de Fábrica Vender Baixa Densidade 4n Alvo Redondo Pequeno ITO

Preço de Fábrica Vender Baixa Densidade 4n Alvo Redondo Pequeno ITO

Negociável
1 Piece(MOQ)
Preço de Fábrica Vender Alta Pureza Alvo ITO para Rpd 4n

Preço de Fábrica Vender Alta Pureza Alvo ITO para Rpd 4n

Negociável
1 Piece(MOQ)
Alvo de Metal ITO de Alta Pureza 4n Óxido de Índio e Óxido de Estanho In2o3 e Sno2

Alvo de Metal ITO de Alta Pureza 4n Óxido de Índio e Óxido de Estanho In2o3 e Sno2

Negociável
1 Piece(MOQ)
1/4

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

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ITO alvo, ecrã OLED / LED / TP ITO alvo, Semicondutor LED ITO Slug

ITO alvo, ecrã OLED / LED / TP ITO alvo, Semicondutor LED ITO Slug

Negociável
1 Peça(MOQ)
ITO alvo, ITO alvo rotativo, Tp Tn Stn TFT-LCD ITO Target

ITO alvo, ITO alvo rotativo, Tp Tn Stn TFT-LCD ITO Target

Negociável
1 Peça(MOQ)
ITO planar, alvo de pulverizaça ̃ o filme de vidro ITO, Tp/tn/STN/TFT-LCD ITO Target

ITO planar, alvo de pulverizaça ̃ o filme de vidro ITO, Tp/tn/STN/TFT-LCD ITO Target

Negociável
1 Peça(MOQ)
ITO em pó, óxido de estanho fosfeto de índio, ITO Pó Amarelo Azul

ITO em pó, óxido de estanho fosfeto de índio, ITO Pó Amarelo Azul

Negociável
1 Kg(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

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Meta de 99.99% ITO 97:3 95:5 90:10 óxido de estanho alvo de entoação para película condutora

Meta de 99.99% ITO 97:3 95:5 90:10 óxido de estanho alvo de entoação para película condutora

Negociável
1 Peça(MOQ)
Colagem da placa alvo de ITO, óxido de estanho, coroa de entoamento, 99.99% 4n, cerâmica, alvo.

Colagem da placa alvo de ITO, óxido de estanho, coroa de entoamento, 99.99% 4n, cerâmica, alvo.

Negociável
1 Peça(MOQ)
Estanho fosfeto de índio, Insn alvo de pulverizaça ̃ o

Estanho fosfeto de índio, Insn alvo de pulverizaça ̃ o

Negociável
1 Peça(MOQ)
ITO pulverização catódica alvo com indium óxido de estanho densidade elevada pureza &

ITO pulverização catódica alvo com indium óxido de estanho densidade elevada pureza &

Negociável
2 Peças(MOQ)

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

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Metas de pulverizaça ̃ o

Metas de pulverizaça ̃ o

US$ 60,00
1 Peça(MOQ)
Alvo de pulverização de alumínio

Alvo de pulverização de alumínio

US$ 15,00
1 Peça(MOQ)

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 anos
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Alvo de cobre, alvo de revestimento a vácuo

Alvo de cobre, alvo de revestimento a vácuo

US$ 692,00
10 Peças(MOQ)
1/4

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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Alvo de pulverizaça ̃ o óxido de estanho fosfeto de ITO 4n 99,99% para revestimento óptico

Alvo de pulverizaça ̃ o óxido de estanho fosfeto de ITO 4n 99,99% para revestimento óptico

Negociável
1 Peça(MOQ)

Jiangxi He Quan Chem Co., Ltd

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99,99% ITO Índio óxido de estanho pulverização catódica alvo com placa de cobre

99,99% ITO Índio óxido de estanho pulverização catódica alvo com placa de cobre

US$ 99,00-169,00
1 Piece(MOQ)

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

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ITO Tamanho personalizáveis 99,99% de óxido de estanho Fosfeto girando ITO alvo de pulverizaça ̃ o de cerâmica

ITO Tamanho personalizáveis 99,99% de óxido de estanho Fosfeto girando ITO alvo de pulverizaça ̃ o de cerâmica

Negociável
1 Peça(MOQ)

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

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ITO Target / In2o3: Sno2 = 90: 10wt% / ITO Metabolismo planar

ITO Target / In2o3: Sno2 = 90: 10wt% / ITO Metabolismo planar

Negociável
1 Peça(MOQ)

EHW APPLIED MATERIALS CO., LTD.

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Alvo de ITO de alta qualidade para máquina de pulverizaça ̃ o e revestimento de vácuo (90/10)

Alvo de ITO de alta qualidade para máquina de pulverizaça ̃ o e revestimento de vácuo (90/10)

US$ 10,00-5 000,00
1 Peça(MOQ)
ITO Alvo para condutores de revestimento de película transparente

ITO Alvo para condutores de revestimento de película transparente

US$ 10,00-1 000,00
1 Peça(MOQ)
Alta Pureza e Qualidade ITO Disc Alvo para máquina de pulverizaça ̃ o e revestimento de Vácuo

Alta Pureza e Qualidade ITO Disc Alvo para máquina de pulverizaça ̃ o e revestimento de Vácuo

US$ 10,00-5 000,00
30 Peças(MOQ)
Alta Pureza e Qualidade ITO Alvo para máquina de pulverizaça ̃ o e revestimento de vácuo (95/5)

Alta Pureza e Qualidade ITO Alvo para máquina de pulverizaça ̃ o e revestimento de vácuo (95/5)

US$ 10,00-1 000,00
1 Peça(MOQ)

Guangdong Huicheng Vacuum Technology Co., Ltd.

20 anos
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Máquina de Revestimento de Óxido de Índio e Estanho Hcvac, Revestidor por Sputtering Magnetron PVD

Máquina de Revestimento de Óxido de Índio e Estanho Hcvac, Revestidor por Sputtering Magnetron PVD

US$ 150 000,00-500 000,00
1 Conjunto(MOQ)
Sistema de Máquina de Sputtering Inline Hcvac para Lâmina de Vidro Revestida de Óxido de Índio e Estanho

Sistema de Máquina de Sputtering Inline Hcvac para Lâmina de Vidro Revestida de Óxido de Índio e Estanho

US$ 150 000,00-500 000,00
1 Conjunto(MOQ)
Máquina de Revestimento de Vidro com Filme de Óxido de Índio e Estanho por Sputtering Magnetron

Máquina de Revestimento de Vidro com Filme de Óxido de Índio e Estanho por Sputtering Magnetron

US$ 1 500 000,00-5 000 000,00
1 Conjunto(MOQ)
Linha de Produção de Revestimento de Óxido de Índio e Estanho em Vidro ITO por PVD a Vácuo

Linha de Produção de Revestimento de Óxido de Índio e Estanho em Vidro ITO por PVD a Vácuo

US$ 1 500 000,00-5 000 000,00
1 Conjunto(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 anos
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Revestimento de Filme de Óxido de Índio e Estanho por Sputtering Magnetron em Vidro Linha de Sputtering Magnetron

Revestimento de Filme de Óxido de Índio e Estanho por Sputtering Magnetron em Vidro Linha de Sputtering Magnetron

US$ 1 500 000,00-2 500 000,00
1 Peça(MOQ)
Linha de Revestimento por Sputtering Magnetron de Vidro de Óxido de Índio e Estanho

Linha de Revestimento por Sputtering Magnetron de Vidro de Óxido de Índio e Estanho

US$ 800 000,00-3 000 000,00
1 Peça(MOQ)
Máquina de Revestimento de Vidro com Filme de Óxido de Índio e Estanho por Sputtering Magnetron

Máquina de Revestimento de Vidro com Filme de Óxido de Índio e Estanho por Sputtering Magnetron

US$ 1 500 000,00
1 Conjunto(MOQ)
Sputtering de ITO (Óxido de Índio e Estanho) Sputtering Contínuo para Sistema de Revestimento Uniforme

Sputtering de ITO (Óxido de Índio e Estanho) Sputtering Contínuo para Sistema de Revestimento Uniforme

US$ 2 000 000,00
1 sets(MOQ)
1/4

Xianxian Zhonglu Tongda Testing Instrument and Equipment Factory

10 anos
·Empresa Comercial
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Solução de Análise de Elementos de Amostra Multi Matriz de Resposta Rápida por Espectrometria de Fluorescência de Raios X

Solução de Análise de Elementos de Amostra Multi Matriz de Resposta Rápida por Espectrometria de Fluorescência de Raios X

US$ 39 500,00-40 000,00
1 Peça(MOQ)
Instrumento de Análise de Composição de Materiais Multi Elemento de Alta Precisão Espectrômetro de Fluorescência de Raios X

Instrumento de Análise de Composição de Materiais Multi Elemento de Alta Precisão Espectrômetro de Fluorescência de Raios X

US$ 39 500,00-40 000,00
1 Peça(MOQ)
Sistema de Detecção de Elementos Metálicos de Liga de Controle de Qualidade Industrial por Fluorescência de Raios X

Sistema de Detecção de Elementos Metálicos de Liga de Controle de Qualidade Industrial por Fluorescência de Raios X

US$ 39 500,00-40 000,00
1 Peça(MOQ)
Tecnologia Avançada de Detectores Dispositivo de Medição de Elementos de Ampla Aplicação Espectrômetro de Fluorescência de Raios X

Tecnologia Avançada de Detectores Dispositivo de Medição de Elementos de Ampla Aplicação Espectrômetro de Fluorescência de Raios X

US$ 39 500,00-40 000,00
1 Peça(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

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Sistema de Sputtering a Vácuo para Vidro Revestido de Óxido de Índio e Estanho / Máquina de Revestimento a Vácuo Anti Impressão Digital

Sistema de Sputtering a Vácuo para Vidro Revestido de Óxido de Índio e Estanho / Máquina de Revestimento a Vácuo Anti Impressão Digital

US$ 45 000,00-150 000,00
1 Conjunto(MOQ)
Máquina de Revestimento de Óxido de Índio e Estanho - Revestidor por Sputtering Magnetron PVD

Máquina de Revestimento de Óxido de Índio e Estanho - Revestidor por Sputtering Magnetron PVD

US$ 45 000,00-150 000,00
1 Conjunto(MOQ)
1/4

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Empresa Comercial
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Crisol de Tungstênio de Ultra Alta Temperatura para Aplicações de Crescimento de Cristais

Crisol de Tungstênio de Ultra Alta Temperatura para Aplicações de Crescimento de Cristais

US$ 79,00-168,00
10 Kg(MOQ)
Crisóforo de Tungstênio de Alta Pureza (99.95%) Usado para Crescimento de Cristais de Safira

Crisóforo de Tungstênio de Alta Pureza (99.95%) Usado para Crescimento de Cristais de Safira

US$ 79,00-168,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Wuxi Taixie Metal Material Co., Ltd.

17 anos
·Empresa Comercial
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Fio de Índio Disco de Índio Fio

Fio de Índio Disco de Índio Fio

US$ 375,00
100 Kg(MOQ)
Ingot de Índio Barra de Índio Banda de Índio Bloco de Índio 99.99 Fio de Índio

Ingot de Índio Barra de Índio Banda de Índio Bloco de Índio 99.99 Fio de Índio

US$ 300,00
50 Kg(MOQ)
1/4

Shanghai Epoch Material Co., Ltd.

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CAS 1312-43-2 Material Semicondutor Pó Nano Óxido de Índio In2o3 Nanopó / Nanopartículas

CAS 1312-43-2 Material Semicondutor Pó Nano Óxido de Índio In2o3 Nanopó / Nanopartículas

US$ 220,00-500,00
1 Kg(MOQ)
1/3

KYKY Technology Co., Ltd.

26 anos
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Revestidor de Sputter de Íons DC

Revestidor de Sputter de Íons DC

Negociável
1 Conjunto(MOQ)
1/3

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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MATERIAL alvo DE ÓXIDO DE ÍTO (óxido de estanho), película condutora transparente de óxido de estanho semicondutor, alvo de gagueira de magnetron

MATERIAL alvo DE ÓXIDO DE ÍTO (óxido de estanho), película condutora transparente de óxido de estanho semicondutor, alvo de gagueira de magnetron

Negociável
1 Peça(MOQ)

FUJIAN ACETRON NEW MATERIALS CO., LTD.

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ACETRON 4N 99.99% Alvo de Sputtering de Óxido de Índio e Estanho de Alta Pureza para Revestimento a Vácuo/PVD

ACETRON 4N 99.99% Alvo de Sputtering de Óxido de Índio e Estanho de Alta Pureza para Revestimento a Vácuo/PVD

US$ 99,00-99 999,00
1 Peça(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Óxido de Índio e Estanho de Alta Pureza ITO para Revestimento a Vácuo/PVD

ACETRON 4N 99.99% Óxido de Índio e Estanho de Alta Pureza ITO para Revestimento a Vácuo/PVD

US$ 700,00-900,00
1 Kg(MOQ)
ACETRON 4N Alvo Tubular de ITO de Alta Pureza para Revestimento a Vácuo/Revestimento PVD

ACETRON 4N Alvo Tubular de ITO de Alta Pureza para Revestimento a Vácuo/Revestimento PVD

Negociável
1 Peça(MOQ)
ALVO de Sputtering ITO ACETRON 4N 99.99% para Revestimento Condutor de LCD/LED/OLED

ALVO de Sputtering ITO ACETRON 4N 99.99% para Revestimento Condutor de LCD/LED/OLED

US$ 99,00-99 999,00
1 Peça(MOQ)

Zhongzheng Yejin Technology Co., Ltd.

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O óxido de estanho fosfeto de elevada pureza para a meta de pulverizaça ̃ 99,99% 4n alvo ITO em cerâmica

O óxido de estanho fosfeto de elevada pureza para a meta de pulverizaça ̃ 99,99% 4n alvo ITO em cerâmica

Negociável
1 Peça(MOQ)
Alvo de pulverizaça ̃ o de prata de elevada pureza, AG alvos de pulverizaça ̃ o

Alvo de pulverizaça ̃ o de prata de elevada pureza, AG alvos de pulverizaça ̃ o

US$ 180,00-200,00
1 Peça(MOQ)
99,999% de pureza elevada da coroa de pulverizaça ̃ o de Prata 4n AG alvo e alvo de rotação de Prata

99,999% de pureza elevada da coroa de pulverizaça ̃ o de Prata 4n AG alvo e alvo de rotação de Prata

US$ 180,00-200,00
1 Peça(MOQ)
O material de revestimento de elevada pureza 99,99% Ag Prata Target

O material de revestimento de elevada pureza 99,99% Ag Prata Target

US$ 180,00-200,00
1 Peça(MOQ)
1/2

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Material de revestimento Hot Sale granulado ITO fabricante de pureza de 99.99% China

Material de revestimento Hot Sale granulado ITO fabricante de pureza de 99.99% China

US$ 750,00-900,00
1 Kg(MOQ)
Tablet de óxido de estanho de 99.99% de pureza elevada, 4 n, para Revestimento de película condutor

Tablet de óxido de estanho de 99.99% de pureza elevada, 4 n, para Revestimento de película condutor

US$ 750,00-900,00
1 Kg(MOQ)
Tablet de óxido de estanho de 99.99% de pureza elevada, ITO Sinter

Tablet de óxido de estanho de 99.99% de pureza elevada, ITO Sinter

US$ 750,00-900,00
1 Kg(MOQ)
Material de revestimento Hot Sale fabricante de pureza 99.99% para tablet ITO China

Material de revestimento Hot Sale fabricante de pureza 99.99% para tablet ITO China

US$ 750,00-900,00
1 Kg(MOQ)
12
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