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sobre alvos de sputtering de cerâmica óxido
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alvos de sputtering de cerâmica óxido40+ fábricas verificadas

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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In2O3+Cu Alvo Cerâmico Óxido de Índio+Cuprum Alvo de Sputtering Cerâmico para LCD/Painel Touch

In2O3+Cu Alvo Cerâmico Óxido de Índio+Cuprum Alvo de Sputtering Cerâmico para LCD/Painel Touch

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
Alvo de Cerâmica de Óxido de Lantânio e Rádio LaRaO para Revestimento de Filme Fino Óptico

Alvo de Cerâmica de Óxido de Lantânio e Rádio LaRaO para Revestimento de Filme Fino Óptico

US$ 140,00
1 Kg(MOQ)
SiO2 Alvo Cerâmico de Sputtering Óxido de Silício Alvo Cerâmico de Sputtering para Revestimento de Filme PVD

SiO2 Alvo Cerâmico de Sputtering Óxido de Silício Alvo Cerâmico de Sputtering para Revestimento de Filme PVD

US$ 25,00-100,00
1 Kg(MOQ)
In2O3 Alvo Cerâmico de Óxido de Índio para Sputtering para LCD/Painel Touch

In2O3 Alvo Cerâmico de Óxido de Índio para Sputtering para LCD/Painel Touch

US$ 650,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Alvo de Sputtering de Óxido de Cobalto 99.9% Disco de Alvos Cerâmicos Coo

Alvo de Sputtering de Óxido de Cobalto 99.9% Disco de Alvos Cerâmicos Coo

US$ 110,00-120,00
1 Peça(MOQ)
Alvo de Sputtering de Cerâmica ITO de Alta Pureza para Aplicações de Revestimento de Óxido Condutor Transparente

Alvo de Sputtering de Cerâmica ITO de Alta Pureza para Aplicações de Revestimento de Óxido Condutor Transparente

US$ 110,00-120,00
1 Peça(MOQ)
Alvo de Sputtering de Óxido de Vanádio Xinkang 99.9% Materiais Cerâmicos Vo2 Alvos

Alvo de Sputtering de Óxido de Vanádio Xinkang 99.9% Materiais Cerâmicos Vo2 Alvos

US$ 100,00-120,00
1 pieces(MOQ)
99.99% Al2O3 Alvo Cerâmico Alumina Óxido de Alumínio Alvo de Sputtering

99.99% Al2O3 Alvo Cerâmico Alumina Óxido de Alumínio Alvo de Sputtering

US$ 28,00-50,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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3n, 4n, 5n Personalizado Al2O3 Alvo Cerâmico Óxido de Alumínio Alvos de Sputtering

3n, 4n, 5n Personalizado Al2O3 Alvo Cerâmico Óxido de Alumínio Alvos de Sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Alvo de Cerâmica Zto Óxido de Zinco e Estanho para Revestimento de Filme Fino

Alvo de Cerâmica Zto Óxido de Zinco e Estanho para Revestimento de Filme Fino

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Alvo de Sputtering de Óxido de Chumbo Cerâmico Puro

99.99% Alvo de Sputtering de Óxido de Chumbo Cerâmico Puro

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Alvos de Cerâmica de Óxido de Zircônio de Alta Pureza 99.99% Alvos de Sputtering de Dióxido de Zircônio Zro2

Alvos de Cerâmica de Óxido de Zircônio de Alta Pureza 99.99% Alvos de Sputtering de Dióxido de Zircônio Zro2

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Ganzhou Zhanhai New Material Technology Co., Ltd.

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Alvo de Sputtering de Óxido de Ítrio Premium 4n-5n para Catalisadores

Alvo de Sputtering de Óxido de Ítrio Premium 4n-5n para Catalisadores

US$ 50,00-70,00
1 Kg(MOQ)
Pó de Óxido de Ítrio de Alta Pureza Y2o3 para Aplicações Cerâmicas

Pó de Óxido de Ítrio de Alta Pureza Y2o3 para Aplicações Cerâmicas

US$ 50,00-70,00
1 Kg(MOQ)
Pó de Terras Raras de Alta Pureza 99.995% Y2o3 Grânulo para Alvo de Sputtering Cerâmico

Pó de Terras Raras de Alta Pureza 99.995% Y2o3 Grânulo para Alvo de Sputtering Cerâmico

US$ 50,00-65,00
25 Kg(MOQ)
99.999% Óxido de Ítrio de Terra Rara Y2o3 CAS 1314-36-9, Material de Produto de Zircônia Premium

99.999% Óxido de Ítrio de Terra Rara Y2o3 CAS 1314-36-9, Material de Produto de Zircônia Premium

US$ 50,00-65,00
25 Kg(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 anos
·Fabricante / Fábrica
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Revestidor de Sputtering Magnetron de Duplo Alvo RF de Cerâmica, Die elétrica, Óptica, Óxido, Filme Duro, Filme de PTFE

Revestidor de Sputtering Magnetron de Duplo Alvo RF de Cerâmica, Die elétrica, Óptica, Óxido, Filme Duro, Filme de PTFE

US$ 26 500,00
1 Peça(MOQ)
Máquina de Revestimento PVD a Vácuo por Sputtering Magnetron de Duplo Alvo para Filmes Semicondutores

Máquina de Revestimento PVD a Vácuo por Sputtering Magnetron de Duplo Alvo para Filmes Semicondutores

US$ 26 500,00
1 Peça(MOQ)
Três Alvos Coater de Sputtering Magnetron (500W DC&500W RF)

Três Alvos Coater de Sputtering Magnetron (500W DC&500W RF)

US$ 39 500,00
1 Peça(MOQ)
Máquina de Revestimento por Sputtering Magnetron PVD em Vácuo Personalizável para Filmes de Liga

Máquina de Revestimento por Sputtering Magnetron PVD em Vácuo Personalizável para Filmes de Liga

US$ 36 500,00-39 500,00
1 Peça(MOQ)
1/4

Jiangyin Maideli Advanced Materials Co., Ltd.

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Ybco Yba2Cu3O7 Ítrio bário óxido de cobre da coroa de pulverizaça ̃ o

Ybco Yba2Cu3O7 Ítrio bário óxido de cobre da coroa de pulverizaça ̃ o

US$ 250,00-500,00
1 Peça(MOQ)

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Barra de Metal de Gadolínio com Alta Qualidade de Alvo de Metal de Terra Rara

Barra de Metal de Gadolínio com Alta Qualidade de Alvo de Metal de Terra Rara

US$ 55,00-85,00
1 Peça(MOQ)
Alvo de Sputtering de Óxido de Ytterbium de Alta Pureza para Aplicações Eletrônicas

Alvo de Sputtering de Óxido de Ytterbium de Alta Pureza para Aplicações Eletrônicas

US$ 190,00-199,00
1 Peça(MOQ)
Alvo de Sputtering de Yttrio de Alta Qualidade em Forma Redonda para Uso Industrial

Alvo de Sputtering de Yttrio de Alta Qualidade em Forma Redonda para Uso Industrial

US$ 115,00-130,00
1 Peça(MOQ)
99.9% Placa de Metal de Gadolínio Puro Gd Alvo de Sputter para Uso Magnético de Terra Rara

99.9% Placa de Metal de Gadolínio Puro Gd Alvo de Sputter para Uso Magnético de Terra Rara

US$ 55,00-85,00
1 Peça(MOQ)
1/4

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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Alvo de pulverizaça ̃ o óxido de estanho fosfeto de ITO 4n 99,99% para revestimento óptico

Alvo de pulverizaça ̃ o óxido de estanho fosfeto de ITO 4n 99,99% para revestimento óptico

Negociável
1 Peça(MOQ)
Yttrium Zirconium Oxide Ysz(Zro2/Y2o3 99.99% Sputtering Target Ceramic Target

Yttrium Zirconium Oxide Ysz(Zro2/Y2o3 99.99% Sputtering Target Ceramic Target

Negociável
1 Peça(MOQ)
Alvo de pulverizaça ̃ o óxido de gálio Ga2O3 pureza 99,99% 4N

Alvo de pulverizaça ̃ o óxido de gálio Ga2O3 pureza 99,99% 4N

Negociável
1 Peça(MOQ)
O óxido de ferro Feo 4n pulverização catódica Alvo para revestimento PVD

O óxido de ferro Feo 4n pulverização catódica Alvo para revestimento PVD

Negociável
1 Peça(MOQ)

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 anos
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Deposição por Sputtering de Magnetron de Duplo Alvo DC RF para Filmes Finos de Metal e Óxido

Deposição por Sputtering de Magnetron de Duplo Alvo DC RF para Filmes Finos de Metal e Óxido

US$ 21 000,00-26 000,00
1 Peça(MOQ)
Revestidor de Sputtering Magnetron de Três Alvos DC para Filme de PTFE

Revestidor de Sputtering Magnetron de Três Alvos DC para Filme de PTFE

US$ 28 500,00-40 100,00
1 Peça(MOQ)
Revestidor de Sputtering Magnetron Personalizado com 3 Alvos para a Preparação de Metal

Revestidor de Sputtering Magnetron Personalizado com 3 Alvos para a Preparação de Metal

US$ 28 500,00-40 100,00
1 Peça(MOQ)
Quatro Máquinas de Revestimento por Sputtering Magnetron de Alvo para Semicondutor

Quatro Máquinas de Revestimento por Sputtering Magnetron de Alvo para Semicondutor

US$ 8 730,00-8 900,00
1 Peça(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 anos
·Empresa Comercial
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Preço de Fábrica Vender Alta Qualidade Alvo de Sputtering ITO 4n In2o3 e Sno2

Preço de Fábrica Vender Alta Qualidade Alvo de Sputtering ITO 4n In2o3 e Sno2

Negociável
1 Piece(MOQ)
Preço de Fábrica Vender Alta Pureza Alvo ITO para Rpd 4n

Preço de Fábrica Vender Alta Pureza Alvo ITO para Rpd 4n

Negociável
1 Piece(MOQ)
Preço de Fábrica Vender Baixa Densidade 4n Alvo Redondo Pequeno ITO

Preço de Fábrica Vender Baixa Densidade 4n Alvo Redondo Pequeno ITO

Negociável
1 Piece(MOQ)
Preço de Fábrica Vender Alta Qualidade Alvo de Metal Igzo 4n In2o3 Ga2o3 ZnO Índio Zinco Gálio

Preço de Fábrica Vender Alta Qualidade Alvo de Metal Igzo 4n In2o3 Ga2o3 ZnO Índio Zinco Gálio

Negociável
1 Piece(MOQ)
1/4

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

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ITO alvo, ITO alvo rotativo, Tp Tn Stn TFT-LCD ITO Target

ITO alvo, ITO alvo rotativo, Tp Tn Stn TFT-LCD ITO Target

Negociável
1 Peça(MOQ)
Óxido de índio alvo, Na2O3 Target

Óxido de índio alvo, Na2O3 Target

Negociável
1 Peça(MOQ)
ITO planar, alvo de pulverizaça ̃ o filme de vidro ITO, Tp/tn/STN/TFT-LCD ITO Target

ITO planar, alvo de pulverizaça ̃ o filme de vidro ITO, Tp/tn/STN/TFT-LCD ITO Target

Negociável
1 Peça(MOQ)
ATO alvo, janela IV Film ATO, alvo de óxido de estanho antimónio

ATO alvo, janela IV Film ATO, alvo de óxido de estanho antimónio

Negociável
1 Peça(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

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Tiox rotativo alvo, principalmente para aplicativos de baixa e revestimento de vidro, Magnetron pulverização catódica alvo, alvo de óxido de titânio

Tiox rotativo alvo, principalmente para aplicativos de baixa e revestimento de vidro, Magnetron pulverização catódica alvo, alvo de óxido de titânio

Negociável
1 Peça(MOQ)
Colagem da placa alvo de ITO, óxido de estanho, coroa de entoamento, 99.99% 4n, cerâmica, alvo.

Colagem da placa alvo de ITO, óxido de estanho, coroa de entoamento, 99.99% 4n, cerâmica, alvo.

Negociável
1 Peça(MOQ)
Meta de 99.99% ITO 97:3 95:5 90:10 óxido de estanho alvo de entoação para película condutora

Meta de 99.99% ITO 97:3 95:5 90:10 óxido de estanho alvo de entoação para película condutora

Negociável
1 Peça(MOQ)
ITO pulverização catódica alvo com indium óxido de estanho densidade elevada pureza &

ITO pulverização catódica alvo com indium óxido de estanho densidade elevada pureza &

Negociável
2 Peças(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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MATERIAL alvo DE ÓXIDO DE ESTANHO (ITO), película condutora transparente de óxido de estanho semicondutor, alvo de gagueira de magnetron, especificações personalizadas

MATERIAL alvo DE ÓXIDO DE ESTANHO (ITO), película condutora transparente de óxido de estanho semicondutor, alvo de gagueira de magnetron, especificações personalizadas

Negociável
1 Peça(MOQ)
Óxido de Ytterbium material alvo Yb2o3, material experimental de pesquisa científica, revestimento de gagueira, revestimento de evaporação, semicondutor

Óxido de Ytterbium material alvo Yb2o3, material experimental de pesquisa científica, revestimento de gagueira, revestimento de evaporação, semicondutor

Negociável
1 Peça(MOQ)
Material alvo de óxido de zinco de elevada pureza em alumínio (AZO), óxido de zinco (ZnO) dopado com óxido de alumínio (Al2O3), alvo de óxido de gagueira magnetron, ligação de placas.

Material alvo de óxido de zinco de elevada pureza em alumínio (AZO), óxido de zinco (ZnO) dopado com óxido de alumínio (Al2O3), alvo de óxido de gagueira magnetron, ligação de placas.

Negociável
1 Peça(MOQ)

Rheniumet Ltd.

17 anos
·Empresa Comercial
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Igh Pureza 99.9%Min 1-10inch Ruo2 Óxido de Rutênio Targ

Igh Pureza 99.9%Min 1-10inch Ruo2 Óxido de Rutênio Targ

US$ 2 000,00-4 000,00
1 Peça(MOQ)
99.99% Pó de Bismuto, Óxido de Bismuto, Esferas de Bismuto Agulha

99.99% Pó de Bismuto, Óxido de Bismuto, Esferas de Bismuto Agulha

US$ 20,00-100,00
1 g(MOQ)
4n-6n Pó de Bismuto, Óxido de Bismuto, Esferas de Bismuto Agulha

4n-6n Pó de Bismuto, Óxido de Bismuto, Esferas de Bismuto Agulha

US$ 40,00-1 000,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

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Al2O3 Alvo de pulverizaça ̃ o de cerâmica

Al2O3 Alvo de pulverizaça ̃ o de cerâmica

Negociável
1 Peça(MOQ)
Bi2O3 Alvo de pulverizaça ̃ o de cerâmica

Bi2O3 Alvo de pulverizaça ̃ o de cerâmica

Negociável
1 Peça(MOQ)

Changsha Advanced Engineering Materials Limited

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Alvos de escutteramento de óxido de nióbio (Nb2O5)

Alvos de escutteramento de óxido de nióbio (Nb2O5)

Negociável
1 Peça(MOQ)

Jiangxi CNP New Chemical Materials Co., Ltd.

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Óxido de Estanho (SnO2) Material de Evaporação Pelota 1-10mm Pureza 99.99% Alvo de Sputtering

Óxido de Estanho (SnO2) Material de Evaporação Pelota 1-10mm Pureza 99.99% Alvo de Sputtering

US$ 200,00
1 Kg(MOQ)
1/4

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

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Alvo de Sputtering cerâmico

Alvo de Sputtering cerâmico

US$ 45,00
1 Peça(MOQ)

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

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ITO Tamanho personalizáveis 99,99% de óxido de estanho Fosfeto girando ITO alvo de pulverizaça ̃ o de cerâmica

ITO Tamanho personalizáveis 99,99% de óxido de estanho Fosfeto girando ITO alvo de pulverizaça ̃ o de cerâmica

Negociável
1 Peça(MOQ)

Tianjin Jilian Technology Co., Ltd.

3 anos·5.0
·Empresa Comercial
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Pó de alvo de sputtering de óxido de magnésio CAS1309-48-4

Pó de alvo de sputtering de óxido de magnésio CAS1309-48-4

US$ 550,00-1 500,00
10 Toneladas(MOQ)
1/4

EHW APPLIED MATERIALS CO., LTD.

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Qualidade elevada Nb2ox Alvo para máquina de pulverizaça ̃ o e revestimento de Vácuo

Qualidade elevada Nb2ox Alvo para máquina de pulverizaça ̃ o e revestimento de Vácuo

US$ 10,00-5 000,00
1 Peça(MOQ)
Alta Pureza e Qualidade ITO Disc Alvo para máquina de pulverizaça ̃ o e revestimento de Vácuo

Alta Pureza e Qualidade ITO Disc Alvo para máquina de pulverizaça ̃ o e revestimento de Vácuo

US$ 10,00-5 000,00
30 Peças(MOQ)
Alvo de ITO de alta qualidade para máquina de pulverizaça ̃ o e revestimento de vácuo (90/10)

Alvo de ITO de alta qualidade para máquina de pulverizaça ̃ o e revestimento de vácuo (90/10)

US$ 10,00-5 000,00
1 Peça(MOQ)
Alta Pureza e Qualidade ITO Alvo para máquina de pulverizaça ̃ o e revestimento de vácuo (95/5)

Alta Pureza e Qualidade ITO Alvo para máquina de pulverizaça ̃ o e revestimento de vácuo (95/5)

US$ 10,00-1 000,00
1 Peça(MOQ)

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

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4n TiO2 Alvos de Óxido de Titânio Alvos Rotativos Alvos Planos

4n TiO2 Alvos de Óxido de Titânio Alvos Rotativos Alvos Planos

US$ 200,00-10 000,00
1 Peça(MOQ)
4n Nbo2 Alvos de Óxido de Nióbio Alvos Rotativos Alvos Planos

4n Nbo2 Alvos de Óxido de Nióbio Alvos Rotativos Alvos Planos

US$ 200,00-10 000,00
1 Peça(MOQ)
4n Nbo2 Alvos Rotativos para Revestimento a Vácuo

4n Nbo2 Alvos Rotativos para Revestimento a Vácuo

US$ 200,00-10 000,00
1 Peça(MOQ)
Alvos Redondos de Óxido de Titânio com 99.99% Pureza

Alvos Redondos de Óxido de Titânio com 99.99% Pureza

US$ 200,00-10 000,00
1 Peça(MOQ)

FUJIAN ACETRON NEW MATERIALS CO., LTD.

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ACETRON 4N 99.99% Alvo de ITO de Alta Pureza para Revestimento PVD

ACETRON 4N 99.99% Alvo de ITO de Alta Pureza para Revestimento PVD

US$ 99,00-99 999,00
1 Peça(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Alvo Rotativo de IGZO de Alta Pureza para Revestimento a Vácuo/Revestimento PVD

ACETRON 4N 99.99% Alvo Rotativo de IGZO de Alta Pureza para Revestimento a Vácuo/Revestimento PVD

US$ 99,00-99 999,00
1 Peça(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Alvo de Óxido de Titânio de Alta Pureza Rotativo para Revestimento a Vácuo/PVD

ACETRON 4N 99.99% Alvo de Óxido de Titânio de Alta Pureza Rotativo para Revestimento a Vácuo/PVD

US$ 99,00-99 999,00
1 Peça(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Alvo Redondo de ITO de Alta Pureza para Revestimento Condutor

ACETRON 4N 99.99% Alvo Redondo de ITO de Alta Pureza para Revestimento Condutor

US$ 99,00-99 999,00
1 Peça(MOQ)

HENAN RUNJING INSTRUMENT EQUIPMENT CO.,LTD

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Máquina de Revestimento por Sputtering Magnetron RF Triplo PVD para Revestimento a Vácuo de Joias

Máquina de Revestimento por Sputtering Magnetron RF Triplo PVD para Revestimento a Vácuo de Joias

US$ 28 000,00-45 000,00
1 Peça(MOQ)
Equipamento de Revestimento por Sputtering Magnetron em Alto Vácuo para Filmes Condutores e Ópticos

Equipamento de Revestimento por Sputtering Magnetron em Alto Vácuo para Filmes Condutores e Ópticos

US$ 55 000,00-65 000,00
1 Peça(MOQ)
Sistema de Revestimento por Sputtering Magnetron de Triplo Alvo (Estágio de Amostra Montado na Parte Superior) para Experimentos de Revestimento em Laboratório

Sistema de Revestimento por Sputtering Magnetron de Triplo Alvo (Estágio de Amostra Montado na Parte Superior) para Experimentos de Revestimento em Laboratório

US$ 55 000,00-65 000,00
1 Peça(MOQ)
1/4

Xiamen U-Spring Technology Co., Ltd

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Alvo Rotativo U-Spring Tiox / Alvo de Sputtering para Sputtering Magnetron e Revestimento a Vácuo

Alvo Rotativo U-Spring Tiox / Alvo de Sputtering para Sputtering Magnetron e Revestimento a Vácuo

US$ 2 000,00
1 Pcs(MOQ)
Alvo Rotativo U-Spring Nb2ox / Alvo de Sputtering para Sputtering Magnetron e Revestimento a Vácuo

Alvo Rotativo U-Spring Nb2ox / Alvo de Sputtering para Sputtering Magnetron e Revestimento a Vácuo

US$ 2 000,00
1 Pcs(MOQ)
1/2

Guangdong Rongsin New Material Co., Ltd.

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Alvo de Sputtering de Alta Pureza e Pelota de Evaporação para Revestimento PVD

Alvo de Sputtering de Alta Pureza e Pelota de Evaporação para Revestimento PVD

US$ 1,00
1 Peça(MOQ)
Alvo de Magnetron Sial Tiox Nbox/Mo/Al/Si/SIP/Sib/Sicr Óxido Nitreto Carbeto Placa Folha Tubo Alvo de Sputtering Magnetron

Alvo de Magnetron Sial Tiox Nbox/Mo/Al/Si/SIP/Sib/Sicr Óxido Nitreto Carbeto Placa Folha Tubo Alvo de Sputtering Magnetron

US$ 1,00
1 Peça(MOQ)
1/4

Shaanxi Sgj International Co., Ltd.

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Sgj Metal Avançado Industrial 99.95% Barra/ Tubo/ Mangueira/ Bucha/ Cano de Tântalo-Ta para Soldagem a Vácuo em 99.7% Montagem de Cerâmica de Alumina

Sgj Metal Avançado Industrial 99.95% Barra/ Tubo/ Mangueira/ Bucha/ Cano de Tântalo-Ta para Soldagem a Vácuo em 99.7% Montagem de Cerâmica de Alumina

US$ 1,00
1 Peça(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Revestidor condutor de magnetron por sputtering DC/RF de bancada para metais, óxidos, cerâmicas e semicondutores

Revestidor condutor de magnetron por sputtering DC/RF de bancada para metais, óxidos, cerâmicas e semicondutores

US$ 15 000,00
1 Peça(MOQ)
Materiais de Revestimento PVD de Alta Pureza da Marca TMAXCN Óxido de Tungstênio Wo3 Alvo de Sputtering

Materiais de Revestimento PVD de Alta Pureza da Marca TMAXCN Óxido de Tungstênio Wo3 Alvo de Sputtering

US$ 78,00-90,00
1 Peça(MOQ)
Marca TMAXCN - VTC-3RF Opção de Sputtering Magnetron DC 3 Cabeçotes 1" Máquina de Revestimento por Sputtering com Plasma RF

Marca TMAXCN - VTC-3RF Opção de Sputtering Magnetron DC 3 Cabeçotes 1" Máquina de Revestimento por Sputtering com Plasma RF

US$ 12 000,00
1 Peça(MOQ)
Marca TMAXCN - VTC-600-3HD-LD Máquina de Revestimento por Sputtering de Alta Vácuo DC/RF 3 Cabeça 2 Revestidor por Sputtering de Plasma Magnetron

Marca TMAXCN - VTC-600-3HD-LD Máquina de Revestimento por Sputtering de Alta Vácuo DC/RF 3 Cabeça 2 Revestidor por Sputtering de Plasma Magnetron

US$ 18 000,00
1 Peça(MOQ)
1/4

Guangdong Huicheng Vacuum Technology Co., Ltd.

20 anos
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Linha de Produção de Revestimento de Óxido de Índio e Estanho em Vidro ITO por PVD a Vácuo

Linha de Produção de Revestimento de Óxido de Índio e Estanho em Vidro ITO por PVD a Vácuo

US$ 1 500 000,00-5 000 000,00
1 Conjunto(MOQ)
Máquina de Revestimento de Óxido de Índio e Estanho Hcvac, Revestidor por Sputtering Magnetron PVD

Máquina de Revestimento de Óxido de Índio e Estanho Hcvac, Revestidor por Sputtering Magnetron PVD

US$ 150 000,00-500 000,00
1 Conjunto(MOQ)
Máquina de Revestimento por Sputtering Magnetron Hcvac Mf, Sistema de Sputtering de Média Frequência

Máquina de Revestimento por Sputtering Magnetron Hcvac Mf, Sistema de Sputtering de Média Frequência

US$ 80 000,00
1 Conjunto(MOQ)
Máquina de Revestimento de Vidro com Filme de Óxido de Índio e Estanho por Sputtering Magnetron

Máquina de Revestimento de Vidro com Filme de Óxido de Índio e Estanho por Sputtering Magnetron

US$ 1 500 000,00-5 000 000,00
1 Conjunto(MOQ)
1/4

Xiamen Innovacera Advanced Materials Co., Ltd.

14 anos
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Componentes Cerâmicos de Nitreto de Boro para Aplicações em Fornos de Alta Temperatura

Componentes Cerâmicos de Nitreto de Boro para Aplicações em Fornos de Alta Temperatura

US$ 10,00-50,00
1 Peça(MOQ)
99bn Tubo Cerâmico de Alta Pureza Branco Protege Tubo de Nitreto de Boro Isolado

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Aplicações de Forno de Alta Temperatura Tubo Redondo de Cerâmica

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Folha Cerâmica de Nitreto de Boro de Alta Pureza Personalizada 99% da Innovacera

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