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Aprovisionamento de fábrica de carboneto de elevada pureza para a meta de pulverizaça ̃ o

Type: Alloy Target
Shape: Plate
Certification: ISO
Pacote de Transporte: Vacuum Packaging
Especificação: Dia25.4mm, 50.8mm, 101.6mm etc
Marca Registrada: RongSin

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Fabricante / Fábrica, Empresa Comercial
Membro de Ouro Desde 2022

Fornecedores com licênças comerciais verificadas

Guangdong, China
Importadores e Exportadores
O fornecedor tem direitos de importação e exportação
para ver todos os rótulos de força verificados (13)

Informação Básica.

Origem
China
Capacidade de Produção
500tons/Month

Descrição de Produto

descrição do Produto Alvo de sputtering Um alvo de entortamento é um material que é usado para criar filmes finos em uma técnica conhecida como deposição de esutter, ou filme fino deposição. ... Como resultado, a maioria dos materiais alvo de esmulagem são elementos metálicos ou ligas, embora existam alguns alvos cerâmicos disponíveis que criam revestimentos finos endurecidos para várias ferramentas.  
Alvo de óxidos de rotação
Ag2O Al2O3 AZO
B2O3 BaxSr1-xTiO3 BaFe1219
Bao BaTiO3 Bi2O3
Bi2Se3 BiFeO3 Ca5 (PO4) 3 (OH)
Cao Cd2SnO4 CDO
CoFe2O4 COO Co3O4
Cr2O3 CR/SiO CuO
Cu2O CuAlO2 DyFeO3
Dy2O3 Er2O3 Eu2O3
 
Fe2O3 Fe3O4 GeO2 In2O3 In2O3/Ga2O3/ZnO
In2O3/ZnO LaMnO3 LaNiO3 LaxSlyMnO3 Li3PO4
LiCoO2 LiFePO4 LiMn2O4 LiNbO3 MgAl2O4
MnO MnO2 Mo2C MoO3 NiFe2O4
Nio PbTiO3 PbZr0.52Ti0.48O3 Sc2O3 SNO
SnO2 SrTiO3 TeO2 V2O5 VO2
WO3 Y3Fe5O12 ZnO O que é que o seu sistema de alimentação de dados não é um sistema de alimentação de dados YSZ (ZrO2/Y2O3)
ITO IZO AZO IAZO IGZO
GZO FTO Y2O3 Ato (Sb2O3/SnO2) LaAlO3
Alvo de sufocamento de sulfuretos  
Sb2S3 Baixo Bi2S3 CDs CAS
Cr2S3 Disco Ges In2S3 Ses
PBS MGS MNS MoS2 SiS2
TaS2 SnS2 WS2 ZNS Ag2S
As2S3 NBs Li2S Li3PS4  
Fluoretos alvo de Sputtering  
AlF3 BaF2 CaF2 CdF2 CEF3
CSF CrF3 DyF3 ErF3 GdF3
HfF4 LIF LaF3 MgF2 MnF2
SmF3 Na5Al3F14 NaF SrF2 TbF3
ThF4 SnF2 TiF3 YbF3 YF3
ZnF2 ZrF4 PbF2    
Telluride Sputtering Target (alvo de entorpamento de Tel  
Alte (Antiga) Sb2Te3 Bi2Te3 CdTe Ga2Te3
Gete In2Te3 PbTe MnTe MoTe2
NbTe2 Nite TaTe2 SNTE WTe2
ZnTe Li2Te      
Alvo de gagueira em metal puro  
Alumínio Antimónio Bário Bismuto Boro
Cádmio Cálcio Cério Crómio Cobalto
Cobre Disprósio Erbium Európio Gadolínio
Germânio Ouro Carbono Háfnio Hólmio
Índio Iridium Ferro Lantânio Chumbo
Lítio Lutetium Magnésio Manganês Molibdénio
Neodímio Níquel Nióbio Paládio Platina
Praseodyryyem Rénio Ródio Samário Scandio
Selénio Silicone Prata Tântalo Telúrio
Terbium Túlio Estanho Titânio Tungsténio
Vanádio Ytterbium Ítrio Zinco Zircónio
Alvos em liga leve  
ALB AlCr AlMg AlSi Alti
AlZr CoFe CoFeB CrGe Cuse
Cu2Se FeCrAl FeMn FePt Potência
GASB HfSi InSb NiCr NiCrAl
NiCrSi NUTI NiMn NiTi IV
NiZr Scal Taal Tawas SnZn
Tial TiAlV TiAlSi Tico Estanho
TiW ZnAl ZnCu GuInGaSe Auge
Pode AuCu AuSn AuNi AgCu
SnAgCu IrMn IrPt PtMn  
Alvo de rotação de nitretos
ALN BN Cr2N
HFN NBN Si3N4
Tan Estanho ZrN
Alvo de rotação de carboneto  
B4C Cr3C2 HFC
Fe3C Mo2C NBC
SIC TAC TIC
WC VC ZrC

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Capital Registrada
5000000 RMB
Área da Planta
501~1000 Metros Quadrados