Equipamento das nanotecnologias em pó

Desde o desenvolvimento da tecnologia de Plasma de arco DC, tem sido constantemente melhorada e aperfeiçoada, e os seus campos de aplicação têm sido continuamente ampliado, incluindo principalmente os seguintes aspectos:

(1) Nano pó metálico

Uma variedade de nano e ligas de metais em pó pode ser preparado pelo método de Plasma de arco DC.

(2) A película nano diamante

Usando o CH4, H2 e ar o gás como fonte de gás plasma, filmes de diamante também podem ser preparados.

(3) O óxido de metal e pó de cerâmica

Os pós de cerâmica como óxidos e nitretos também podem ser preparados utilizando diferentes fontes de plasma.

Actualmente, o método de evaporação de plasma foi elemental de industrializados, ligas de metais em pó nano, nitreto, carboneto de óxido de pó, etc

Gás de trabalho

Matérias-primas

Nanomateriais gerado

tamanho das partículas

Dispõe de

Ar

Ag, Al, Co, Cr, Cu, Fe, Mg, Mn, Mo, Ni, PD, Si, W

Ag, Al, Co, Cr, Cu, Fe, Mg, Mn, Mo, Ni, PD, Si, W

30 a 300

Nanospheres metal puro

Sc, Ta, Ti, V

Sc, Ta, Ti, V

50-300

As nanopartículas hidreto

Ó2

W,Mo,Nb

WO3,MoO3,Nb2O5 ou NbO2

50-300

Nanospheres óxido metálico

H2

CaO, MgO,Al2O3,TiO2,ZrO2,A SiC,tt+C,W+C,WO3+C,WC

CaO, MgO,Al2O3,TiO2,ZrO2,A SiC,tt+C,W+C,WO3+C,WC

50-300

As partículas Nanospherical com estrutura cristalina

N2

A Ti, estanho,Zr,Al, AlN,Si, Si3N4

TiN,ZrN,Al+AlN,SI

50-300

Nanospheres nitreto de metal

Mao-plasma pnp nano linha de produção de pó

1. Finalidade do equipamento:

Pureza elevada nano e composto de metal em pó foram preparadas de forma contínua e eficiente por evaporação de plasma de corrente contínua de vácuo com alta qualidade de alto rendimento e alta uniformidade. Ela tem as características de uma pureza elevada (acima de 99,7%), esfericidade alto e estreito de distribuição de tamanho das partículas, alta cristalinidade e de fácil dispersão.

2. Composição do equipamento:

É composta principalmente de obtenção de alto vácuo e o enchimento do sistema de gás, sistema de pó de Plasma de arco DC, em pó o sistema de alimentação do sistema de circulação de gases de coleta de pó, saco de liquidação do sistema de coleta de pó, pó passivação system, sistema de caixa de luvas de vácuo, sistema de controle elétrico, sistema de circulação da água de resfriamento, etc

3. Índice técnico

3.1 Capacidade de evaporação do forno único: 2kg

3.2 temperatura de evaporação de plasma: 2000-3500 ºC (personalizável)

3.3 Parâmetros técnicos principais da fonte de alimentação de plasma: Input 380V, fase 3, 50Hz, potência total de 30KW, 70KW, 100kW, tensão de trabalho: 50-300 V

3.5 saída diária: 5-50kg

4. Detalhes do equipamento

4.1. O sistema de pulverização de evaporação de plasma

4.2. Aquisição de vácuo e sistema de medição

4.3. Sistema de circulação de carregamento de gás

4.4. Sistema de refrigeração a água: controlador de tamanho das partículas, refrigerador, forno de evaporação, permutador de calor do sistema de refrigeração do refrigerador de água

4.5. Classificação do ciclone em pó / sistema de recolha;

4.6. Luva de vácuo quadrada caixa Operation (duas estações); tanque de armazenagem;

4.7. O sistema de controle elétrico;

4.8. Sistema de armazenamento de passivação: opcional

Alguns nanopowders metal têm uma grande área de superfície específica, alta atividade, sensíveis ao ambiente, e são muito propensos a oxidação e outras reações químicas que não são conducentes à embalagem, armazenagem, transporte e aplicação. O pó de nano passivação dispositivo pode perceber o revestimento de iões inerte de nanopartículas, que oferece conveniência para embalagem, armazenamento e aplicação de actividade elevada nano em pó.

O núcleo de equipamento é self-made, e aplicado gradualmente para a protecção da propriedade intelectual em 2003.