• Fabricante China Industrial Semiconductor Fine Termal refratário película fina alta 96% 99.6% Al2O3 alumínio óxido alumina alumínio Folha de substrato cerâmico
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Fabricante China Industrial Semiconductor Fine Termal refratário película fina alta 96% 99.6% Al2O3 alumínio óxido alumina alumínio Folha de substrato cerâmico

Application: Refractory, Refractory, Structure Ceramic, Industrial Ceramic
Type: Ceramic Parts
método de formação: cassete fundida
comodidades: alta resistência mecânica, pequena perda dielétrica
cor opcional: branco, marfim, rosa, preto
densidade: mais de 3,70 g/cm3

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Membro Diamante Desde 2020

Fornecedores com licênças comerciais verificadas

Avaliação: 5.0/5
Fabricante / Fábrica, Empresa Comercial, Cooperação do Grupo
  • Visão Geral
  • Descrição do produto
  • A especificação
  • Também produzimos
Visão Geral

Informação Básica.

N ° de Modelo.
JJBP-0111-0002
espessura padrão
0.25 mm disponíveis
tolerância de espessura
± 0.03/0,05 mm (consoante a espessura)
tolerância de comprimento e largura
± 2 mm
serviço personalizado
oem, odm, prototipagem, pedido de teste suportado
material
cerâmica de alumina
Pacote de Transporte
Individual Package
Especificação
Max. up to 500mm x 500mm
Marca Registrada
JingHui
Origem
China
Código HS
8547100000

Descrição de Produto

China Manufacturer Industrial Semiconductor Fine Thermal Refractory Thin film High 96% 99.6% Al2O3 Aluminum Oxide Alumina Ceramic Substrate Sheet
Refratário térmico industrial fino Alto 96% Al2O3 alumínio óxido alumina Placa de cerâmica
 

Descrição do produto

O substrato cerâmico é um material de substrato de embalagem eletrónico mais utilizado. Em comparação com substratos de plástico e metal, o substrato cerâmico apresenta as seguintes vantagens:


1) baixo coeficiente dielétrico e bom desempenho de frequência
A baixa perda dielétrica constante e dielétrica de materiais cerâmicos pode reduzir o tempo de atraso do sinal e aumentar a velocidade de transmissão.

2) bom isolamento
Geralmente falando, a maior resistência ao substrato, a melhor confiabilidade do pacote. Os materiais cerâmicos são geralmente compostos de ligação covalente com melhores propriedades de isolamento.



3) coeficiente pequeno de expansão térmica (CTE)
Os compostos de ligação covalente geralmente têm um ponto de fusão elevado e quanto maior o ponto de fusão, menor o coeficiente de expansão térmica, portanto o CTE dos materiais cerâmicos é geralmente pequeno.

4) condutividade térmica elevada
Os materiais cerâmicos de substrato são amplamente utilizados em alta confiabilidade, alta frequência, resistência a altas temperaturas e embalagens de produtos resistentes à ar na aviação, aeroespacial e engenharia militar. A embalagem de materiais cerâmicos de substrato é geralmente um pacote de substrato cerâmico multicamada, amplamente utilizado em pacotes cerâmicos de circuitos integrados híbridos (HIC) e de módulos de vários chips (MCM).

Para obter as propriedades do material, consulte a tabela abaixo.

 
Substrato cerâmico de alumina
Item Unidade 96% Al2O3 99.6% Al2O3
Propriedades mecânicas
Cor / / Branco Marfim
Densidade Método de drenagem g/cm3 3.70 3.95
Refletividade da luz 400 nm/1 mm % 94 83
Força flexural Flexão de três pontos MPa > 350 > 500
Dureza da fratura Método de recuo MPa· m1/2 3.0 3.0
Dureza Vickers Carga 4.9N GPA 14 16
Módulo dos jovens Método de alongamento GPA 340 300
Absorção de água    % 0 0
Camber / Comprimento ‰ T ≤ 0.3: 5, outros: ≤ 3 ‰ ≤ 3 ‰
Propriedades térmicas
Máx. Temperatura de serviço (sem carga) / ºC 1200 1400
CTE (coeficiente de
Expansão térmica)
20-800ºC 1 × 10-6/ºC 7.8 7.9
Condutividade térmica 25ºC W/m·K > 24 > 29
Resistência a choques térmicos 800ºC 10 vezes Sem Crack Sem Crack
Calor específico 25ºC J/kg· k 750 780
 Propriedades elétricas
Constante dieléctrica 25ºC, 1 MHz / 9.4 9.8
Ângulo de perda dieléctrica 25ºC, 1 MHz × 10-4 3 2
Resistividade do volume 25ºC Ω· cm 1014 1014
Resistência dieléctrica DC KV/mm 15 15
 
 

A especificação

Capacidade de fabrico

1. Especificação do produto

Podem ser produzidos produtos de várias especificações. A tabela  abaixo mostra as nossas espessuras e tamanhos padrão.

Substrato cerâmico de alumina
99.6% Al2O3
Espessura  (mm) Tamanho máximo (mm) Forma Técnica de moldagem
Como Fired Não foi lapped Polido Retangular Praça Redondo
0.1-0.2   50.8 50.8   Cassete fundida
0.25   114.3 114.3     Cassete fundida
0.38 120 114.3 114.3     Cassete fundida
0.5 120 114.3 114.3     Cassete fundida
0.635 120 114.3 114.3     Cassete fundida
Outras espessuras especiais dentro da faixa de espessura de 0.1-0,635 mm podem ser obtidas por polimento.
96% Al2O3
Espessura  (mm) Tamanho máximo (mm) Forma Técnica de moldagem
Como Fired Não foi lapped Polido Retangular Praça Redondo
0.25 120 114.3 114.3     Cassete fundida
0.3 120 114.3 114.3     Cassete fundida
0.38 140 × 190         Cassete fundida
0.5 140 × 190         Cassete fundida
0.635 140 × 190         Cassete fundida
0.76 130 × 140         Cassete fundida
0.8 130 × 140         Cassete fundida
0.89 130 × 140         Cassete fundida
1 280 × 240         Cassete fundida
1.5 165 × 210         Cassete fundida
2 500 × 500         Cassete fundida
Outras espessuras especiais dentro da faixa de espessura de 0.1-2,0 mm podem ser obtidas por polimento.

2. Tolerâncias do produto
 
Substrato cerâmico de alumina
Item Espessura do substrato (mm) Tolerância padrão (mm) Melhor tolerância (mm) Tolerância de corte a laser (mm)
Tolerância de comprimento e largura / ± 2   ± 0.15
Tolerância de espessura T < 0.3 ± 0.03 ± 0.01  
0.30-1.0 ± 0.05 ± 0.01  
T > 1.0 ± 10% ± 0.01  

3. Rugosidade da superfície
 
Substrato cerâmico de alumina
Material Rugosidade da superfície (μm)
Como Fired Não foi lapped Polido
96% Al2O3 RA 0.2-0.75 RA 0.3-0.7 RA 0.05
99.6% Al2O3 RA 0.05-0.15 RA 0.1-0.5 RA 0.05

4. Processamento a laser

(1) tamanho do orifício

 
Substrato cerâmico de alumina
Diâmetro do orifício  (mm) Tolerância padrão (mm)
φ 0.5 0.08
φ> 0.5 0.2

(2) Scribing a laser
 
Substrato cerâmico de alumina
Espessura do substrato (mm) A percentagem de
Profundidade da linha de laser Scribe
Para espessura (%)
0.2-0.3 40% ± 5%
0.3 < T 0.5 50% ± 3%
0.5 < T ≤ 1.0 43% ± 3%
1.2 55% ± 3%
1.5 55% ± 3%
2.0 55% ou mais 10%
O ponto de riscamento pode ter tamanhos diferentes. Geralmente, existem pontos pequenos de 0.03 - 0,04 mm (espessura do substrato ≤ 0,5 mm) e pontos grandes de 0.08 - 0,1 mm (espessura do substrato > 0,5 mm), e a precisão é ± 0,01 mm.

Processo de produção

China Manufacturer Industrial Semiconductor Fine Thermal Refractory Thin film High 96% 99.6% Al2O3 Aluminum Oxide Alumina Ceramic Substrate Sheet

Inspeção do produto
China Manufacturer Industrial Semiconductor Fine Thermal Refractory Thin film High 96% 99.6% Al2O3 Aluminum Oxide Alumina Ceramic Substrate Sheet
 

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Capital Registrada
1000000 RMB
Área da Planta
>2000 Metros Quadrados