• 3n alumínio de elevada pureza - cromada, superfície plana alvo/alumínio-crómio Alvos rotativos
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Favoritos

3n alumínio de elevada pureza - cromada, superfície plana alvo/alumínio-crómio Alvos rotativos

Application: Industrial
fórmula: Aluminum-Chromium
classificação: Alloy Traget
padrão de qualidade: grau industrial
certificação: iso
forma: Rotary,Flat,Round

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Membro de Ouro Desde 2023

Fornecedores com licênças comerciais verificadas

Guangdong, China
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Informação Básica.

N ° de Modelo.
CYT-CrAl
Pacote de Transporte
Wooden Box
Especificação
Customized Size
Marca Registrada
CANYUAN
Origem
China
Capacidade de Produção
1000PCS

Descrição de Produto

3n High Purity Aluminum-Chromium Sputtering Target Flat Plate / Aluminum-Chromium Rotating Targets
DESCRIÇÃO DO PRODUTO

O alvo rotativo de alumínio-crómio é produzido utilizando processos de pulverização ou prensagem isoestática quente e pode produzir um comprimento máximo de 4000 mm, com espessura e proporções personalizadas de acordo com os requisitos do cliente.

O alvo plano de alumínio-crómio é produzido utilizando tecnologia de prensagem isoestática quente e tem as vantagens de um tamanho de grão fino e uniforme e de uma longa vida útil. Pode produzir alvos com um comprimento máximo de 1600 mm e uma largura máxima de 400 mm, com dimensões e proporções que variam entre 100 mm x 100 mm e 1600 mm x 400 mm.

Personalizado de acordo com os requisitos do cliente.

Parâmetros técnicos

Pureza: 99.8-99.95%; relações comuns: 90-10Siat%, 75-25Siat%, 50-50Siat%, etc.

Áreas de aplicação: Revestimento de ferramentas de corte de liga rígida e moldes de tratamento térmico para melhorar a resistência ao desgaste e a temperatura de serviço da camada de revestimento.
Podemos fazer  alvos planos de cobre-alumínio e rotatórios.
A especificação e a pureza podem ser personalizadas.
A tabela de descrição e análise da composição do alumínio 
-cobre de elevada pureza 3N , conforme se segue:
 Especificação de alvos  
Aplicação Materiais de entortamento de PVD
Material alumínio-crómio
Pureza 3N ~ 5N
Tamanho personalizado
Espessura personalizado
Forma Alvo de sputtering rotativo, tipo de anel, tipo de folha, tipo de Plat e tipo de tubo
Densidade - g/cm3
Ponto de fusão - ºC
Produza método fusão e mistura

3n High Purity Aluminum-Chromium Sputtering Target Flat Plate / Aluminum-Chromium Rotating Targets
Nossa vantagem
3n High Purity Aluminum-Chromium Sputtering Target Flat Plate / Aluminum-Chromium Rotating Targets
3n High Purity Aluminum-Chromium Sputtering Target Flat Plate / Aluminum-Chromium Rotating Targets


Processo de operação
3n High Purity Aluminum-Chromium Sputtering Target Flat Plate / Aluminum-Chromium Rotating Targets
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Imagem de embalagem
3n High Purity Aluminum-Chromium Sputtering Target Flat Plate / Aluminum-Chromium Rotating Targets
3n High Purity Aluminum-Chromium Sputtering Target Flat Plate / Aluminum-Chromium Rotating Targets
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Aplicação:
3n High Purity Aluminum-Chromium Sputtering Target Flat Plate / Aluminum-Chromium Rotating Targets
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Material Pureza
(N)
Componentes
(wt%)
Densidade Derretimento
 Ponto
Térmico
Condutividade
(WM-1K-1)
Coeficiente de
 expansão
(10-6k-1)
Produção
 Processo
Liga Al 5N - 2.7 660 235 23.1 Fundição
CR 3N5 - 7.22 1907 94 4.9 ANCA
Cu 4N - 8.9 1084 400 16.5 Fundição
Liga MO 3N5 - 10.28 2623 139 4.8 ANCA
Nota 4N - 8.6 2477 54 7.3 Fundição
TA 4N - 16.7 3017 57 6.3 Fundição
Si 4N - 2.33 1414 150 2.6 Sinterização e aspersão
TI 5N - 4.5 1670 22 8.6 Fundição
W 4N - 19.25 3422 174 4.5 ANCA
AZO 3N5 98:2 5.6 1975 22 1.5 Sinterização
ITO 4N 90:10 7.15 2000 15 2.0 Sinterização
GZO 3N5 CONFORME SOLICITADO 7.15 - - - Sinterização
IGZO 4N CONFORME SOLICITADO - - - - Sinterização
NbOx 4N - 4.6 1460 5 1.5 Sinterização e aspersão
TIOX 4N - 4.23 1800 4 7.14 Sinterização e aspersão
 

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Fabricante / Fábrica
Produtos Principais
Sputtering Target
Número de Empregados
6