• alvos de Cr alvo de roto de cromo rotativo 3n5
  • alvos de Cr alvo de roto de cromo rotativo 3n5
  • alvos de Cr alvo de roto de cromo rotativo 3n5
  • alvos de Cr alvo de roto de cromo rotativo 3n5
  • alvos de Cr alvo de roto de cromo rotativo 3n5
  • alvos de Cr alvo de roto de cromo rotativo 3n5
Favoritos

alvos de Cr alvo de roto de cromo rotativo 3n5

Application: Industrial
fórmula: crómio
classificação: Metal Traget
padrão de qualidade: grau industrial
certificação: iso
forma: Rotary,Flat,Round

Contatar Fornecedor

Membro de Ouro Desde 2023

Fornecedores com licênças comerciais verificadas

Guangdong, China
para ver todos os rótulos de força verificados (14)

Informação Básica.

N ° de Modelo.
CYT-Cr
Pacote de Transporte
Wooden Box
Especificação
Customized Size
Marca Registrada
CANYUAN
Origem
China
Capacidade de Produção
1000PCS

Descrição de Produto


 
3n5 Rotary Chromium Sputtering Target Cr TargetsO alvo do cromo é um material feito do cromo (Cr) que pode ser depositado na superfície do substrato para  mudar as propriedades da superfície do substrato.
Especificação de alvos cromados   
Aplicação Materiais de entortamento de PVD
Material Crómio
Pureza 3N5
Tamanho personalizado
Espessura personalizado
Forma Coroa de rotulação de crómio rotativo, tipo anel, tipo de folha, tipo Plat e tipo de tubo
Densidade 7,19 g/cm3
Ponto de fusão 1907ºC
Produza método ANCA

Nossa vantagem
3n5 Rotary Chromium Sputtering Target Cr Targets
3n5 Rotary Chromium Sputtering Target Cr Targets


Processo de operação
3n5 Rotary Chromium Sputtering Target Cr Targets
3n5 Rotary Chromium Sputtering Target Cr Targets

Imagem de embalagem
3n5 Rotary Chromium Sputtering Target Cr Targets
3n5 Rotary Chromium Sputtering Target Cr Targets
3n5 Rotary Chromium Sputtering Target Cr Targets


Aplicação:
3n5 Rotary Chromium Sputtering Target Cr Targets
3n5 Rotary Chromium Sputtering Target Cr Targets
3n5 Rotary Chromium Sputtering Target Cr Targets

Produto relacionado
Material Pureza
(N)
Componentes
(wt%)
Densidade Derretimento
 Ponto
Térmico
Condutividade
(WM-1K-1)
Coeficiente de
 expansão
(10-6k-1)
Produção
 Processo
Al 3N - 2.7 660 235 23.1 Fundição
CR 3N5 - 7.22 1907 94 4.9 ANCA, fundição
Cu 4N - 8.9 1084 400 16.5 Fundição
Ni 3N5 - 4.5 1453 90 13 Fundição
TI 3N - 4.5 1668 15.2 9.4 Fundição
ZR 3N - 6.49 1852 0.227 - Fundição
Si 4N - 2.33 1414 150 2.6 Sinterização e aspersão
AG 4N - 10.49 961.93 429 19 Fundição
C 4N - 2.23 3850 ± 50 151 - ANCA
Tial 3N5 CONFORME SOLICITADO - - - - Fundição
InSn 4N CONFORME SOLICITADO - - - - Fundição
CrSi 4N CONFORME SOLICITADO - - - - Pulverize
CRW 4N CONFORME SOLICITADO 16.7 3017 57 6.3 ANCA
NiCr 3N CONFORME SOLICITADO - - - - Fundição
IV 3N 97:3 - - - - Fundição
WC 3N - 15.77 2870 110 5.5 Sinterização e aspersão
NbOx 4N - 4.6 1460 5 1.5 Sinterização e aspersão

Envie sua pergunta diretamente para este fornecedor

*De:
*Para:
*Mensagem:

Digite entre 20 a 4000 caracteres.

Isso não é o que você está procurando? Solicitar postagem de fornecimento agora

Encontre Produtos Semelhantes por Categoria

Página Inicial do Fornecedor Produtos Alvo metálico alvos de Cr alvo de roto de cromo rotativo 3n5

Também Pode Gostar

Contatar Fornecedor

Membro de Ouro Desde 2023

Fornecedores com licênças comerciais verificadas

Fabricante / Fábrica
Produtos Principais
Sputtering Target
Número de Empregados
6