• 2 / 4 polegada de nitreto de gálio Aln bolacha Modelo sobre substratos de Sic, Safira
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Favoritos

2 / 4 polegada de nitreto de gálio Aln bolacha Modelo sobre substratos de Sic, Safira

materiais: nitreto de gálio
espessura: 3-4um ou 20um
tamanho: 2 ou 4 polegadas
tecnologia de fabricação: semicondutor optoelectrónico
material: semicondutor composto
digite: semicondutor do tipo n.

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Membro de Ouro Desde 2018

Fornecedores com licênças comerciais verificadas

Avaliação: 5.0/5
Empresa Comercial

Informação Básica.

pacote
smd
aplicação
televisão
marca
finewin
Pacote de Transporte
Caixa
Especificação
2INCH
Marca Registrada
FineWin
Origem
Jiaozuo City Henan Province
Capacidade de Produção
1000 PCS/Month

Descrição de Produto

2 / 4 polegada de nitreto de gálio AlN bolacha Modelo sobre substratos de Sic, Safira


1. Qual é templates
Usamos o termo "template" para descrever os nossos produtos como eles são diferentes substratos. Especificamente, um modelo é um substrato de engenharia de materiais compósitos ou, no caso de uma ou mais camadas são adicionadas ao susbstrate original.

2. O pedido
 
LED azul e branco para o quarto luminárias, exibe e uso geral

Os dispositivos de comutação de potência do GAN

3. Produto disponível

2" a 4" modelos do GaN FSS e PSS
Espessura modelos GaN (t=3~20μm)
Modelo de GaN altamente dopados com camada de tipo n (n=< 1E19/cm3)
Ntipo (undoped), Ntipo (Si aditivadas), e Ptype(Mg) dopado modelos estão disponíveis
Modelos de GAN em ambos substres safira e substratos de silício

4. Dispõe de
Drx-FWHM 002 102
3-4μm  GaN/Sapphire 200-300 250-450
2 / 4 Inch Gallium Nitride Aln Template Wafer on Sapphire, Sic Substrates

  A densidade da luxação: 3.5E+08 cm-2



5. Especificação
Especificação de 2 polegadas
O ponto A GaN-FS-C-U-C50 A GaN-FS-C-N-C50 A GaN-FS-C-SI-C50
Dimensões Ф 50, 8 mm ± 1 mm
Espessura 350 ± 25 µm
Área de superfície utilizável > 90%
Orientação Plano C (0001) no sentido de ângulo largo Eixo M 0, 35°± 0, 15°
Plano de Orientação (1-100) ± 0, 5°, 16, 0 ± 1, 0 mm
Plano de Orientação secundária (11-20) ± 3°, 8, 0 ± 1, 0 mm
Variação de espessura total ≤ 15 µm
Arco ≤ 20 µm
Tipo de condução Tipo N
(Undoped)
Tipo N
(Ge-aditivadas)
Semi-Insulating
(Fe-aditivadas)
A resistividade(300K) < 0, 5 Ω·cm < 0, 05 Ω·cm > 106 Ω·cm
A densidade de deslocamento 1~9x105 cm-2 5x105 cm-2
~3x106 cm-2
1~9x105 cm-2
1~3x106 cm-2 1~3x106 cm-2
Polir Superfície dianteira: Ra < 0, 2 nm. Epi-pronto polidos
Superfície Posterior: Terra fina
Package Embalado em um ambiente de salas brancas de classe 100, em recipientes de wafers, sob atmosfera de azoto.

Especificação de 4 polegadas
O ponto A GaN-T-C-U-C100 A GaN-T-C-N-C100
Dimensões Ф 100 mm ± 0, 1 mm
Espessura 4 µm, 20 µm
Orientação Plano C(0001) ± 0, 5°
Tipo de condução Tipo N
(Undoped)
Tipo N
(Si-aditivadas)
A resistividade 300K < 0, 5 Ω·cm < 0, 05 Ω·cm
Concentração do transportador < 5x1017 cm-3 > 1x1018 cm-3
Mobilidade ~ 300 cm2/V·s ~ 200 cm2/V·s
A densidade de deslocamento Inferior a 5x108 cm-2
Estrutura do substrato O GaN sobre Sapphire(Standard: SSP  Opção: DSP)
Área de superfície utilizável > 90%
Package Embalado em um ambiente de salas brancas de classe 100, em cassetes de 25 pcs ou simples recipientes de wafers, sob atmosfera de azoto.

6. Fotos do produto
2 / 4 Inch Gallium Nitride Aln Template Wafer on Sapphire, Sic Substrates


2 / 4 Inch Gallium Nitride Aln Template Wafer on Sapphire, Sic Substrates
2 / 4 Inch Gallium Nitride Aln Template Wafer on Sapphire, Sic Substrates
 

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