Alvo de Metal de Rutênio de Alta Pureza 99.99% para Revestimento PVD

Detalhes do produto
Costumização: Disponível
Tipo: Alvo de metal
Forma: Volta
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Membro Diamante Desde 2016

Fornecedores com licênças comerciais verificadas

Fornecedor Auditado

Auditado por uma agência de inspeção terceirizada independente

Capital Registrada
500000 RMB
Área da Planta
<100 Metros Quadrados
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Visão Geral

Informação Básica.

N ° de Modelo.
Ru
amostra
disponível
entrega
prompt (linha de comandos
pacote
25 kg/tambor
tamanho
personalizado
Pacote de Transporte
25 kg/saco
Especificação
99% min
Marca Registrada
anão
Origem
China

Descrição de Produto

Coroa de entoamento de ruthenium CAS 7440-18-8
Nome do produto: Ruthenium Sputtering Target
Pureza: 99.95%;  2N7,4N, 4N5,5N
Cor: Cor metalizada
Superfície: Superfície polida
Forma: Alvo plano, alvo rotativo
Aplicação: Produção de radioisótopos
Parâmetros do produto
Os alvos de entortamento de ruténio (RU) são utilizados na deposição física de vapor (PVD) processos para criar películas finas e revestimentos
vários substratos. O ruténio, um metal do grupo da platina, é valorizado pela sua excelente dureza, resistência à corrosão e elevada fusão
aponte, tornando-o ideal para aplicações em electrónica, armazenamento de dados e catálise.
Propriedade Valor  
Tipo de material Ruténio
Símbolo RU
Peso atômico 101.07
Número atômico 44
Cor/aspecto Prateado Branco Metalizado
Condutividade térmica 120 W/m.K
Ponto de fusão ( ° C) 2,310
Coeficiente de expansão térmica 6.4 x 10 - 6/K
Densidade teórica (g/cc) 12.3
Relação Z. 0.182
Esparutter DC
Densidade de potência máxima (Watts/quadrado polegadas) 100 *
Tipo de Bond Índio, elastómero

Característica
1. Pureza: Os alvos de entortamento de ruténio estão normalmente disponíveis com níveis de pureza elevados, tais como 99.95 % (3N5) ou superiores, para garantir o
qualidade e consistência dos filmes depositados.
2. Formas e tamanhos: Estes alvos podem ser produzidos em várias formas, incluindo discos, placas ou garrafas, e personalizados para se adaptarem
sistemas de entortamento específicos.

High Purity 99.99% Ru Ruthenium Metal Sputtering Target for PVD CoatingHigh Purity 99.99% Ru Ruthenium Metal Sputtering Target for PVD Coating
Aplicação do produto
High Purity 99.99% Ru Ruthenium Metal Sputtering Target for PVD CoatingAplicação
1.Electrónica: Os revestimentos rutenium são utilizados em dispositivos semicondutores, nomeadamente na produção de camadas condutoras e de como
uma camada de barreira em interconexões de cobre.
2. Armazenamento de dados: Para melhorar, são aplicadas películas finas de ruténio na indústria de gravação magnética, em particular em unidades de disco rígido
capacidade e desempenho de armazenamento de dados.
3. Catálise: Os revestimentos rutenium são também utilizados em catálise química, particularmente na produção de catalisadores e células de combustível.
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A Lonwin oferece uma das mais extensas gamas de materiais alvo de entortamento da indústria, disponível em todas as geometrias, tamanhos,
e materiais. Os nossos objectivos de sputtering são essenciais para aplicações em várias indústrias, incluindo semicondutores, armazenamento de dados,
displays, e energia solar. Concebidos para revestimentos de alto desempenho, são amplamente utilizados em microelectrónica, filmes ópticos, e.
desenvolvimento avançado de materiais, cumprindo os rigorosos padrões de qualidade e pureza necessários na tecnologia e inovação modernas.
Alvos de entortamento
TI CR Cu Al FE Ni
Zn SN Aço inoxidável Si C TA
Nota ZR HF Pol V W
Seg Co Mg MN GE RU
Tial TiSi TiW TiAlSi CrAl CrSi
SIAL ZnSn ZnAl AlCu NiCr IV
NiFe NUTI Co TiNb TiZr InSn
CuZr TiOx Nb2Ox ZrO2 AZO TZO
ATO Al2O3 ZnO Fe2O3 MgO PbO
Gd2O3 IGZO GZO SiO2 SiO B4C
SIC WC TIC TI-Cr TI-Ni Ni-Al
Ni-Cr-si Ni-NB-TI Ni-TI Al-AG Al-ND Al-si
Al-si-Cu Cu-Co Cu-Gd Cu-in Cu-Ni ZR-Al
ZR-Fe Al4C3 Cr3C2 HFC LC2 Mo2C
NBC Ni3C TAC VC ZrC CoSi2
MoSi2 NbSi2 NiSi2 TaSi2 TiSi2 VSi2
WSi2 ZrSi2 ITO IZO YSZ ZrO2 e SiO2
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Armazenamento:
mantenha o recipiente bem fechado num local seco e bem ventilado.
Embalagem: 25 kg/saco ou 25 kg/tambor
 Peso Embalagem
< 25 KG Por saco de alumínio/pap/frasco
≥ 25 kg Pacote: 25 kg/tambor/saco ou como pedido
Embalagem e entrega

High Purity 99.99% Ru Ruthenium Metal Sputtering Target for PVD Coating

Perfil da empresa

High Purity 99.99% Ru Ruthenium Metal Sputtering Target for PVD Coating
O Lonwin Chemical Industry Group é um fabricante líder de pó de metal para impressão 3D na China. Foi
Concentrar-se na investigação e desenvolvimento (I&D) e na industrialização da pó de metal em microescala e nanoescala
materiais por vários anos. Como empresa de primeira classe que fornece uma gama diversificada de materiais metálicos diferentes para o
Indústria de fabrico avançada, os produtos abrangem pó de liga de entropia média, alta temperatura
pó de liga, pó de liga de fusão automática, pó de liga de memória, pó de liga magnética suave de precisão, pó de pulverização,
pó de liga de níquel, pó de liga de cobalto, pó de liga de cobre, pó de aço de alta resistência, pó de aço para ferramentas, estrutural
pó de aço, pó de aço inoxidável, pó de material amorfo, pó de material absorvente de blindagem, liga de titânio
Pó de liga de alumínio, bem como uma série de pós metálicos de alta qualidade para impressão 3D, como aço de nitrogénio elevado, e.
pós de aço duplex.  
A empresa estabeleceu relações de cooperação a longo prazo com os clientes no mais de 40 países e regiões
Incluindo a América do Norte, a Europa e o Médio Oriente, e detém uma posição de liderança na indústria. Actualmente, o
A empresa aprovou várias certificações, como ISO9001, ISO14001, ISO45001. Com uma visão global,
Os melhores novos materiais continuarão a inovar em tecnologia, fortalecendo avanços em I&D em baixo carbono e verde
e materiais recicláveis e processos de produção, fornecem aos clientes pós metálicos de alta qualidade e baixo custo,
E promovem activamente a industrialização da indústria da impressão 3D.
High Purity 99.99% Ru Ruthenium Metal Sputtering Target for PVD Coating
High Purity 99.99% Ru Ruthenium Metal Sputtering Target for PVD CoatingHigh Purity 99.99% Ru Ruthenium Metal Sputtering Target for PVD Coating

PERGUNTAS FREQUENTES

Q1: Você é uma fábrica ou uma companhia negociando?
R: Sim, somos uma fábrica.

Q2: Quais são as principais propriedades do pó de metal com que devo estar preocupado ao selecionar um tipo de pó para a minha aplicação?
R: As principais propriedades do pó metálico que definem o seu nível de desempenho para diferentes aplicações incluem pureza, tamanho das partículas, teor de impurezas e densidade solta.

Q3: Você testa todos seus bens antes da entrega?
R: Sim, temos 100% de teste antes da entrega.

P4: Como sobre a embalagem?
R: Normalmente, fornecemos a embalagem como tambor de Ferro de 50 kg ou rolo de papel, se você tiver requisitos especiais sobre eles, nós de acordo com você.

Q5: Pode produzir de acordo com a amostra que fornecemos?
R: Sim, podemos produzir por suas amostras ou parâmetros técnicos.

Q6: Como sobre a qualidade?
R: Podemos fornecer certificados revelantes se necessário. 100% QC em processo de produção e antes de as mercadorias serem embaladas.

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