LCD Moti WTI com impressão 3D em pó HDH de elevada pureza Titânio em pó, SEMICONDUTORES, titânio, pureza do pó de titânio 2n8 ~ 4n

• Tipo: Pó de Titânio
• Aplicação: MIM, 3D Printing, Semiconductor, LCD
• Técnica: Hdh
• Grau: 2n8~4n
• Forma: Powder
• cor: prata
• N ° de Modelo.: Titanium powder
• moq: 1 kg
• Pacote de Transporte: Vacuum Packaging
• Especificação: Powder
• Marca Registrada: CRNMC
• Origem: Ningbo
• Código HS: 8108901090

Descrição de Produto

Descrição do produto

A hidrodesidrogenação (HDH) é um processo de preparação do pó de titânio, utilizando as propriedades reversíveis de titânio e hidrogénio, que produz fragilidade após a absorção de hidrogénio, e é mecanicamente esmagado para fazer pó de hidreto de titânio e, em seguida, desidrogenado a alta temperatura em condições de vácuo para produzir pó de titânio. O pó de titânio produzido por este processo tem uma vasta gama de partículas, baixo custo e baixos requisitos para as matérias-primas, e tornou-se o principal método de produção de pó de titânio em casa e no estrangeiro, Mas o teor de o e N de pó de titânio preparado por este método é elevado. Nos últimos anos, a investigação sobre a preparação de pó de titânio de baixo custo e baixo teor de oxigénio tornou-se cada vez mais activa no seu país e no estrangeiro.

O pó de titânio é um pó de metal feito de titânio, que é um pó irregular cinza-prata, que é comumente usado em aeroespacial, pulverização, metalurgia, fogos de artifício e outras indústrias.

Utilizamos folha/tira de titânio de elevada pureza, etc. como matéria-prima e produzimos pó de titânio de pureza elevada irregular através do processo de deshidrogenação.

2N8:

TI (%)		≥ 99.8
Teor do elemento de impureza não superior a (ppm)	FE	≤ 300
	Ni	≤ 100
	Al	≤ 100
	Si	≤ 100
	CL	≤ 600
	Mg	≤ 100
	MN	≤ 100
	CR	≤ 100
	Cu	≤ 50
	C	≤ 150
	N	≤ 300
	O	≤ 1800
	H	≤ 250

4N:

Elementos de detecção		Pó de titânio de 4N
Elementos de impureza não gasosos	TI	equilíbrio
	FE	≤ 100
	Al	≤ 40
	CR	≤ 20
	Mg	≤ 20
	MN	≤ 20
	Si	≤ 20
	CL	≤ 50
	Ni	≤ 10
	An	≤ 50
	Cu	≤ 10
Total de impurezas		≤ 100
Elementos de impureza do gás	C	≤ 150
	H	≤ 150
	O	≤ 2000

 

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Certificações

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