Fita de metal Rhenium de 0,04 mm, tira de Rhenium, película de refolha para a indústria nuclear

• Pureza: > 99,99%
• Característica: Alto ponto de fusão
• Uso: Nuclear Industry
• Pó: Não Pó
• Liga: Não-Liga
• Secundário: Não-Secundário
• N ° de Modelo.: Re-foil
• espessura: 0.04
• Pacote de Transporte: Vacuum Paking
• Especificação: 99.99%
• Marca Registrada: rheniumet
• Origem: China
• Código HS: 4301962010
• Capacidade de Produção: 10000piece/Year

Descrição de Produto

Descrição do produto

Aspecto:  Placa metálica prateada

Aplicação:  A placa de Rhenium é utilizada principalmente como materiais de eléctrodos em condições difíceis e de temperatura elevada, para a produção de componentes electrónicos e tubo de aquecimento de temperatura ultra elevada com evaporação de metal na indústria de semicondutores e electrónica. As peças de aquecimento a alta temperatura têm de trabalhar em condições especiais, em comparação com outros materiais, o aquecimento puro de rénio tem um melhor desempenho eléctrico, uma maior esperança de vida, estas propriedades significativas são mais resistentes à atmosfera de trabalho dura e são favorecidas pelos utilizadores. A película de rénio é utilizada principalmente para o revestimento e película de deposição de fase de vapor químico (CVD) e para o processo de deposição de vapor físico (PVD), incluindo evaporação de feixes de electrões quentes, evaporação orgânica a baixa temperatura, deposição de camadas atómicas (ALD) e produto de deposição de vapor químico orgânico metálico (MOCVD), etc. outros podem ser utilizados para o fabrico de peças especiais em equipamento aeroespacial

Especificação:  Pureza química de 99.99 % min (calculada pelo método de subtracção, excepto elemento de gás), densidade de 21 g/cc mín

Tamanho:  T (0.04-0.1) * W (0.5-80) mm, pode ser personalizado de acordo com o requisito.

 Análise química típica

Teor principal: Re ≥ 99.99 % (elementos de gás não incluídos)
Elementos de impureza ( ≯, %)
An	0.0005	TI	0.0001	Cu	0.0001	SB	0.0001
Mg	0.0001	V	0.0001	Zn	0.0001	TA	0.0001
Al	0.0005	CR	0.0005	Como	0.0001	W	0.0010
Si	0.0005	MN	0.0001	ZR	0.0001	PB	0.0001
P	0.0005	FE	0.0010	Seg	0.0010	Bi	0.0001
K	0.0005	Co	0.0001	CD	0.0001	Se	0.0001
CA	0.0005	Ni	0.0005	SN	0.0001	TL	0.0001
C	0.0020	N	0.0010	O	0.0100	H	0.0020

 

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