Tipo: | Liga Alvo |
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Forma: | redondo/quadrado |
Certificação: | ISO |
pureza: | 99.99% |
composição química: | titânio de tungsténio |
Pacote de Transporte: | Vacuum Packed or Per Customer′s Request. |
Fornecedores com licênças comerciais verificadas
[Aplicação]
Alvo de tungsténio de elevada pureza, alvo de liga de tungsténio e silício de tungsténio composto de alta pureza são normalmente fabricados pela escorrigaçamento de magnetrões. Devido à sua elevada resistência à transferência de electrões, à estabilidade a altas temperaturas e à capacidade de formar silicietos estáveis, tungsténio de elevada pureza ou tungsténio ultrapuro (5 N ou 6 N) é frequentemente utilizado na indústria electrónica sob a forma de películas finas como portão, junção, transição e metais de barreira. Tungsténio de pureza ultra elevada e os seus siliicídios são também utilizados em vlsi como camada de resistência, camada de barreira de difusão, material de porta e material de ligação em transístores MOS. Os alvos de sputtering da liga de tungstênio e de titânio são usados frequentemente fazer a camada de metal da transição de células solares de película fina.
[Especificação]
Nome |
Fórmula molecular | Especificação |
Tamanho |
Densidade relativa | Tamanho do grão | Taxa de defeitos | |
Alvo de tungsténio |
W |
4N (99.99%) |
Polegada |
mm |
≥ 99% |
≯ 50µm |
0 |
5N (99.999%) |
D (2,3, 4,6, 8,10,12)
H (0.25,0.5,0.75) |
Diâmetro:
50~350
Espessura:
6~25
|
|||||
Alvo de titânio de tungsténio |
WTi10 WTi20 |
4N (99.99%) |
≥ 99% |
≯ 50µm |
0 |
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4N5 (99.995%) |
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