Meta de gagueira de metal de tungsténio de 99.999% de pureza elevada com alvo W. Para revestimento

• Type: Metal Target
• Shape: Round
• Certification: ISO
• pureza: 99.999% min
• composição química: w
• Pacote de Transporte: Vacuum Packed or Per Customer′s Request.
• N ° de Modelo.: UL-01
• Especificação: Customization
• Marca Registrada: Rheniumet
• Origem: Hunan, China
• Capacidade de Produção: 10000000 Kilogram/Kilograms Per Month

Descrição de Produto

Descrição do produto

Aplicação:

 

 

Alvos de tungsténio de elevada pureza, alvos em liga de tungsténio-titânio de elevada pureza e alvos compostos de tungsténio-silício são normalmente aplicados por esvoaçamento de magnetron para produzir vários materiais de película finos complexos e de elevado desempenho. Como o tungsténio de pureza elevada ou tungsténio ultra-puro (5 N ou 6 N) tem uma elevada resistência à migração de electrões, uma elevada estabilidade térmica e a capacidade de formar siliicídios estáveis, é frequentemente utilizado como uma película fina na indústria electrónica como porta, ligação, transição e metal de barreira.

O tungsténio de pureza ultra elevada e os seus siliicídios são também utilizados em circuitos integrados de escala ultra grande, como camadas de resistência, barreiras de difusão, etc., e como materiais de porta e materiais de ligação em transístores semicondutores de óxido de metal.
Os alvos de sputtering da liga de tungstênio-titânio são usados frequentemente fazer camadas de metal da transição de células solares de película fina.
 

Nome	Fórmula molecular	Especificação	Tamanho		Densidade relativa	Tamanho do grão	Taxa de defeitos
Alvo de tungsténio	W	4N (99.99%)	Polegada	mm	≥ 99%	≯ 50µm	0
		5N (99.999%)	D (6,8, 10,12) H (0.25,0.5,0.75)	Diâmetro 150~350 Espessura 6~25
Alvo de titânio de tungsténio	WTi10 WTi20	4N (99.99%)			≥ 99%	≯ 50µm	0
		4N5 (99.995%)

 

Componente químico

Grau de especificação Índice químico			W/(W ≥ TI) 99.99%			W/(W ≥ TI) 99.995%				W ≥ 99.999%
Vestígios de impurezas totais			≯ 100 ppm			≯ 50 ppm				≯ 10 ppm
Índice de impureza (ppm)			Máx		Valor típico	Máx		Valor típico		Máx		Valor típico
Elementos radioactivos	U		-		0.2	0.1		0.05		0.0008		0.0005
	TH		-		0.2	0.1		0.05		0.0008		0.0005
Elementos metálicos alcalinos	Li		1		0.05	0.02		0.01		0.01		0.003
	An		5		1	0.5		0.2		0.1		0.05
	K		5		1	0.1		0.05		0.05		0.03
MO, RE			10		5	10		5		1		0.5
FE, Cr			10		5	5		3		0.5		0.3
CA, si, Cu, Ni, Al, Zn, SN, Mn, Co, Hg, V			2		1	0.5		0.3		0.2		0.2
P,as,se			2		1	0.5		0.2		0.2		0.2
B, Pb, SB, be, Ba, Bi, CD, GE, NB, PT, mg, ZR, Au, in, GA, AG			1		0.5	0.5		0.1		0.1		0.1
Todos os outros elementos individuais			1		0.5	0.5		0.1		0.1		0.1
Análise de gás ( ≯, ppm)		O		C			N		H		S
		30		20			20		20		10

 

Dependendo do objectivo de utilização, existem diferentes requisitos para o teor de impurezas dos alvos de tungsténio de elevada pureza e dos alvos de tungsténio-titânio. Geralmente, a pureza química deve estar compreendida entre 99.99 % e 99.999 %. Também podemos personalizar outras especificações adequadas para a aplicação de acordo com os requisitos do utilizador.

 

 

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