O Plasma de vácuo da máquina de limpeza com azoto, árgon

• After-sales Service: Engineer Online or at Site
• Warranty: 12 Months
• Aplicação: Indústria, Escola, Lab
• personalizado: personalizado
• Certificação: CE, ISO
• Material: Aço
• N ° de Modelo.: VPC42
• Velocidade máxima: 0
• potência: 380 vac 20 a.
• azoto: 0,5mpa
• camadas: 5
• área de limpeza única: 350 * 350 mm
• camadas de 15 mm: 0khz 2kw frequência intermédia
• sensor de temperatura: ómega dos eua
• gás: ar comprimido cda, 0,5mpa
• camadas de 50 mm: 13,56hz 300 w frequência de rádio
• tamanho: 85 * 170 * 96 cm
• Pacote de Transporte: Polywood Case
• Marca Registrada: Torch
• Origem: Beijing
• Capacidade de Produção: 50sets/Month

Descrição de Produto

Vácuo Tratamento Plasma seco para micro electormic semiconductor

I. nome do equipamento, número do tipo, origem e data de entrega
1.1 o nome do equipamento: plasma de vácuo da máquina de limpeza
1.2 Modelo nº: VPC42
1.3 Origem (país, fabricante): Beijing Torch SMT incorporada Company
1.4 Data de Entrega: 4-8 semanas após o contrato entra em vigor
1.5 utilizado principalmente para o plasma para tratamento de superfície processo no gabinete de semicondutores campos como a bolacha de silício, substrato de vidro, substrato de cerâmica, IC placa transportadora, cobre lead frame, grande tamanho de um único lado substrato power board, módulo IGBT, sensor MEMS com suporte, dispositivo de micro-ondas, filtro, dispositivo de RF...
Ii  Técnicas principais parâmetros de desempenho:
2.1 Volume da câmara de vácuo: 42L
2.2 grau de depressão:
O vácuo máximo grau de VPC42 plasma de vácuo de pó é inferior a 2 Pa (mecânica da bomba seca 40L/min)
2.3 limpeza eficaz área:
Limpeza única área: 350 *350mm
15 camadas: 15mm intervalo: 40KHZ 2KW frequência intermediária (tratamento de superfície)
5 camadas: 50mm intervalo, 13.56HZ 300W de freqüência de rádio (volume de processamento, com refrigeração a água)
2.4 A altura da câmara de vácuo:
 A altura da câmara:  350mm (tamanho efetivo)
2.5 Temperatura de Limpeza:
Temperatura baixa seco (abaixo da temperatura da sala).
2.6 A freqüência de limpeza: 30-120s
2.7 Efeito de limpeza: o valor dyne pode chegar a 70. A queda de água de ângulo é 15 graus, e ele pode ser controlado de forma ideal dentro de 10 graus(Oficina com pureza do ar na classe 100 livre de poeira pode ser limpo dentro de 4 horas)
2.8 O gás pode ser utilizado:
De árgon, nitrogénio e oxigénio, azoto mistura de hidrogénio, hidrogénio e carbono tetrafluoride...
2.9 VPC42 plasma vácuo limpando a máquina é equipada com controle de software de sistema:
O software do sistema de controlo é fácil de operar, que permite o controlo de ligação de equipamento e de vários processos de limpeza as curvas podem ser definidas e as curvas podem ser definidos, modificar, armazenar e selecione para uso de acordo com diferentes processos; o software tem a sua própria análise automática, que pode analisar o processo curva. O software do sistema de controle irá gravar automaticamente o processo de limpeza de dados, a curva de temperatura, tempo e alarme dados relacionados em tempo real para garantir a rastreabilidade do produto do processo de limpeza.


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