• Placa de aquecimento de tabuleiro cerâmico de Nitrida de alumínio ALN para alta temperatura durante Indústria de semicondutores
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Placa de aquecimento de tabuleiro cerâmico de Nitrida de alumínio ALN para alta temperatura durante Indústria de semicondutores

Aplicação: Aeroespacial, Eletrônicos, Médico, Industrial Ceramic
Tipo: Ceramic Plates
força flexural: o que é que o sistema de navegação da sony está a funcionar
rugosidade da superfície: 0.3-0,6 um
cor: cinzento
densidade do volume: >=3.3G/Cm3

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Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial

Tour Virtual 360 °

Membro Diamante Desde 2024

Fornecedores com licênças comerciais verificadas

Fujian, China
Marca própria
O fornecedor possui 1 marcas próprias, verifique o Audit Report para mais informações
Inspetores de controle de qualidade/controle de qualidade
O fornecedor tem equipe de inspeção 3 QA e QC
Capacidades de P&D
O fornecedor tem 2 engenheiros de P&D, você pode conferir o Audit Report para mais informações
Certificação de Produto
Os produtos do fornecedor já possuem qualificações de certificação relevantes, incluindo:
CE
para ver todos os rótulos de força verificados (26)

Informação Básica.

N ° de Modelo.
INCA03
absorção de água
0
condutividade térmica
>=180W/M.K
expansividade térmica
4.8*10-6
serviço de processamento
Cutting, Punching, Moulding, Laser Cutting
Pacote de Transporte
Vacuum Packing
Especificação
Customized
Marca Registrada
Innovacera
Origem
Fujian, China
Capacidade de Produção
100 Piece/Pieces Per Month

Descrição de Produto

High Temperature Aln Aluminum Nitride Ceramic Tray Heating Plate for Semiconductor Industry


Função de aquecedor de nitreto de alumínio

A condutividade térmica é equivalente ao alumínio, o que pode alcançar uma resposta térmica rápida e uniforme
. Densidade de watts: Até 2000 W/pol ² (310 W/cm ²)
. Condutividade térmica nitrada de alumínio: 170 W/MK
. Taxa de aquecimento rápido: 0 - 400 ° C (32 a 752 ° F), menos de 2 segundos. Aplicações atmosféricas e de ambiente de gás inerte. Geometria 3D complexa. Espessura: 0.05 mm a 5.08 mm (0.200 polegadas a 1.27 polegadas). Tamanho: Até 10.25 polegadas 2 (66.13 cm²)

 
High Temperature Aln Aluminum Nitride Ceramic Tray Heating Plate for Semiconductor Industry
High Temperature Aln Aluminum Nitride Ceramic Tray Heating Plate for Semiconductor Industry

 

 
Aplicação
 
High Temperature Aln Aluminum Nitride Ceramic Tray Heating Plate for Semiconductor Industry
 
 
- componentes RF/microondas
- módulo de potência
- transformadores de potência
- Pacote de LED de alta potência
 
 
- Sub-montagens de diodos laser
- encaixe secundário de chip LED
- Pacotes Microelectrônicos
- Transistores
 
High Temperature Aln Aluminum Nitride Ceramic Tray Heating Plate for Semiconductor Industry
High Temperature Aln Aluminum Nitride Ceramic Tray Heating Plate for Semiconductor Industry

- substratos de alta condutividade térmica para LED e Power Electronics

- substratos para Power Electronics

 

High Temperature Aln Aluminum Nitride Ceramic Tray Heating Plate for Semiconductor Industry
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