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sobre alvo cerâmico de pulverização
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alvo cerâmico de pulverização90+ fábricas verificadas

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Alvo de cerâmica de poli silício para alvo de pulverização em fotovoltaicos solares

Alvo de cerâmica de poli silício para alvo de pulverização em fotovoltaicos solares

US$ 35,00-50,00
1 Kg(MOQ)
Alvo de Silício Monocristalino Mono-Si para Alvo de Sputtering em Fotovoltaicos Solares para Telefone Móvel

Alvo de Silício Monocristalino Mono-Si para Alvo de Sputtering em Fotovoltaicos Solares para Telefone Móvel

US$ 35,00-75,00
1 Kg(MOQ)
In2O3+Cu Alvo Cerâmico Óxido de Índio+Cuprum Alvo de Sputtering Cerâmico para LCD/Painel Touch

In2O3+Cu Alvo Cerâmico Óxido de Índio+Cuprum Alvo de Sputtering Cerâmico para LCD/Painel Touch

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
SrRuO3 Alvo de Cerâmica de Estrôncio Rutênio para Revestimento de Filme Fino Óptico

SrRuO3 Alvo de Cerâmica de Estrôncio Rutênio para Revestimento de Filme Fino Óptico

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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99.99% Alvo de Sputtering de Dióxido de Silício de Alta Pureza para Aplicações de Revestimento Óptico

99.99% Alvo de Sputtering de Dióxido de Silício de Alta Pureza para Aplicações de Revestimento Óptico

US$ 110,00-120,00
1 Peça(MOQ)
Alvo de Sputtering de Cerâmica de Alta Pureza Sio2 para Revestimentos Avançados

Alvo de Sputtering de Cerâmica de Alta Pureza Sio2 para Revestimentos Avançados

Negociável
1 Peça(MOQ)
99.99% Alta Densidade Y2o3 Alvo de Yttria Óxido de Yttrio Cerâmico para Sputtering

99.99% Alta Densidade Y2o3 Alvo de Yttria Óxido de Yttrio Cerâmico para Sputtering

US$ 55,00-85,00
1 Peça(MOQ)
Alvo de Sputtering Cerâmico Puro Sio2 Personalizado 99.99% para Revestimento Óptico de Alta Precisão

Alvo de Sputtering Cerâmico Puro Sio2 Personalizado 99.99% para Revestimento Óptico de Alta Precisão

US$ 110,00-120,00
1 Peça(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.99% Alvos Cerâmicos Tac Alvos de Sputtering de Carbeto de Tântalo

99.99% Alvos Cerâmicos Tac Alvos de Sputtering de Carbeto de Tântalo

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% VSI2 Alvos Cerâmicos Alvos de Sputtering de Disilício de Vanádio

99.99% VSI2 Alvos Cerâmicos Alvos de Sputtering de Disilício de Vanádio

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.9% Alvo de Cerâmica de Wc Tungstênio Carboneto Alvo de Tungstênio para Revestimentos de Dlc

99.9% Alvo de Cerâmica de Wc Tungstênio Carboneto Alvo de Tungstênio para Revestimentos de Dlc

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Alvo Cerâmico de Carbeto de Alumínio de Alta Qualidade Al4c3 Alvo

Alvo Cerâmico de Carbeto de Alumínio de Alta Qualidade Al4c3 Alvo

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 anos
·Empresa Comercial
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Alvo de Carbeto de Silício Sic 99.9% Revestimento por Sputtering Alvo Cerâmico

Alvo de Carbeto de Silício Sic 99.9% Revestimento por Sputtering Alvo Cerâmico

Negociável
1 Peça(MOQ)
Alvo cerâmico revestido de alta pureza de carbeto de silício para processamento de sputtering magnetron com personalização

Alvo cerâmico revestido de alta pureza de carbeto de silício para processamento de sputtering magnetron com personalização

Negociável
1 Peça(MOQ)
Alvo de Alta Pureza 99.9%- 99.99% Ruo2, Alvo de Dióxido de Rutênio para Sputtering 1-10inch

Alvo de Alta Pureza 99.9%- 99.99% Ruo2, Alvo de Dióxido de Rutênio para Sputtering 1-10inch

US$ 2 000,00-4 000,00
1 Peça(MOQ)
Alvo de Sputtering de Tântalo de Alta Pureza para Revestimento de Filme Fino

Alvo de Sputtering de Tântalo de Alta Pureza para Revestimento de Filme Fino

US$ 300,00-1 000,00
1 Peça(MOQ)
1/4

Xiamen Wintrustek Advanced Materials Co., Ltd.

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Disco Cerâmico de Alborato de Lantânio Lab6 para Sputtering

Disco Cerâmico de Alborato de Lantânio Lab6 para Sputtering

US$ 50,00-200,00
1 Peça(MOQ)
Alvo de Sputtering de Hexaboreto de Lantânio Lab6 para Revestimento de Filme Fino PVD

Alvo de Sputtering de Hexaboreto de Lantânio Lab6 para Revestimento de Filme Fino PVD

US$ 50,00-200,00
1 Peça(MOQ)
Alvos Cerâmicos de Hexaboreto de Lantânio com Alta Emissividade Eletrônica Lab6

Alvos Cerâmicos de Hexaboreto de Lantânio com Alta Emissividade Eletrônica Lab6

US$ 50,00-200,00
1 Peça(MOQ)
Disco Cerâmico de Borreto de Lantânio para Alvo de Sputtering Lab6

Disco Cerâmico de Borreto de Lantânio para Alvo de Sputtering Lab6

US$ 50,00-200,00
1 Peça(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Marca TMAXCN 99.5% Alvo de Cerâmica Sic de Carbeto de Silício para Sputtering para Revestimento

Marca TMAXCN 99.5% Alvo de Cerâmica Sic de Carbeto de Silício para Sputtering para Revestimento

US$ 78,00-90,00
1 Peça(MOQ)
Material de Revestimento Cerâmico de Alvo de Sputtering de Estanho de Zinco de Alta Densidade TMAXCN Zn2sno4

Material de Revestimento Cerâmico de Alvo de Sputtering de Estanho de Zinco de Alta Densidade TMAXCN Zn2sno4

US$ 78,00-90,00
1 Peça(MOQ)
Revestidor condutor de magnetron por sputtering DC/RF de bancada para metais, óxidos, cerâmicas e semicondutores

Revestidor condutor de magnetron por sputtering DC/RF de bancada para metais, óxidos, cerâmicas e semicondutores

US$ 15 000,00
1 Peça(MOQ)
Marca TMAXCN Alta Pureza 99.5% Boro Carbeto B4c Alvo Cerâmico de Sputtering

Marca TMAXCN Alta Pureza 99.5% Boro Carbeto B4c Alvo Cerâmico de Sputtering

US$ 78,00-90,00
1 Peça(MOQ)
1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

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Metalização a Vácuo de Alvo de Liga de Alumínio e Titânio

Metalização a Vácuo de Alvo de Liga de Alumínio e Titânio

US$ 30,00-100,00
1 Peça(MOQ)
Linha de Revestimento por Sputtering Magnetron PVD para Decoração de Relógios com Alta Qualidade

Linha de Revestimento por Sputtering Magnetron PVD para Decoração de Relógios com Alta Qualidade

US$ 75 000,00-160 000,00
1 Peça(MOQ)
Planta de Revestimento a Vácuo por Sputtering Magnetron PVD de Operação Fácil

Planta de Revestimento a Vácuo por Sputtering Magnetron PVD de Operação Fácil

US$ 65 000,00-150 000,00
1 Peça(MOQ)
Sistema de Revestimento a Vácuo PVD em Ouro Preto e Ouro Rosa para Caixa de Relógio

Sistema de Revestimento a Vácuo PVD em Ouro Preto e Ouro Rosa para Caixa de Relógio

US$ 45 000,00-76 000,00
1 Peça(MOQ)
1/4

Shandong Pengcheng Advanced Ceramics Co., Ltd.

12 anos·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Alvo de Sputtering de Nitreto de Boro, Barcos de Evaporação de Nitreto de Boro, Crisol Elétrico de Cerâmica de Nitreto de Boro

Alvo de Sputtering de Nitreto de Boro, Barcos de Evaporação de Nitreto de Boro, Crisol Elétrico de Cerâmica de Nitreto de Boro

US$ 150,00-160,00
100 Kg(MOQ)
Alvos de Sputtering de Diboreto de Titânio (TiB2) Placa Cerâmica

Alvos de Sputtering de Diboreto de Titânio (TiB2) Placa Cerâmica

US$ 30,00
50 Kg(MOQ)
Tib2 Alvo de Sputtering de Cerâmica Dibróxido de Titânio

Tib2 Alvo de Sputtering de Cerâmica Dibróxido de Titânio

US$ 30,00
50 Kg(MOQ)
1/4

Hebei Zhongyi Import and Export Co., Ltd.

3 anos
·Empresa Comercial
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Alvo de Sputtering de Disulfeto de Tungstênio de Alta Pureza Ws2 para Aplicações de Revestimento

Alvo de Sputtering de Disulfeto de Tungstênio de Alta Pureza Ws2 para Aplicações de Revestimento

US$ 9,00-12,00
10 Kg(MOQ)
Revestimento Cerâmico de Disulfeto de Tungstênio Puro Ws2 para Alvo de Sputtering de Alta Qualidade

Revestimento Cerâmico de Disulfeto de Tungstênio Puro Ws2 para Alvo de Sputtering de Alta Qualidade

US$ 9,00-12,00
10 Kg(MOQ)
1/4

BIOTIO SHANGHAI CORP CO., LTD.

5.0
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Pellets de Alumínio API-625 Alvo de Sputtering Alta Pureza 99.999% em Estoque

Pellets de Alumínio API-625 Alvo de Sputtering Alta Pureza 99.999% em Estoque

US$ 3 180,00-8 500,00
1 Tonelada(MOQ)
Pellets de Alumínio APP-512 Alvo de Sputtering Alta Pureza 99.999% em Estoque

Pellets de Alumínio APP-512 Alvo de Sputtering Alta Pureza 99.999% em Estoque

US$ 3 180,00-8 500,00
1 Tonelada(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Alvo de Rutênio por Sputtering Magnetron Alta Pureza

Alvo de Rutênio por Sputtering Magnetron Alta Pureza

US$ 32 000,00
1 Peça(MOQ)
4n Alvo de Sputtering de Tungstênio de Alta Precisão

4n Alvo de Sputtering de Tungstênio de Alta Precisão

US$ 3 500,00
1 Peça(MOQ)
Alvo de Rutênio de Alta Pureza para Sputtering

Alvo de Rutênio de Alta Pureza para Sputtering

US$ 75 000,00
1 Peça(MOQ)
Material de Alvo de Nitreto de Silício de Alta Pureza

Material de Alvo de Nitreto de Silício de Alta Pureza

US$ 15 000,00
1 Peça(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Alvo redondo de níquel de alta qualidade para alvo de sputtering

Alvo redondo de níquel de alta qualidade para alvo de sputtering

US$ 10,00
1 pcs(MOQ)
Alvo de Sputtering Redondo de Zircônio de Alto Ponto de Fusão Zr702

Alvo de Sputtering Redondo de Zircônio de Alto Ponto de Fusão Zr702

US$ 15,00
1 pcs(MOQ)
Superfície Polida de Alta Dureza e Alvo de Tubo de Níquel de Maior Pureza

Superfície Polida de Alta Dureza e Alvo de Tubo de Níquel de Maior Pureza

US$ 30,00
10 Peças(MOQ)
Boa condutividade térmica e elétrica, barra redonda de zircônio puro e reto

Boa condutividade térmica e elétrica, barra redonda de zircônio puro e reto

US$ 15,00
10 kg(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

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Preço de Alvos de Titânio de Alta Pureza para Sputtering para Revestimento PVD/Alvo de Titânio para Sputtering Alvo Redondo de Titânio à Venda

Preço de Alvos de Titânio de Alta Pureza para Sputtering para Revestimento PVD/Alvo de Titânio para Sputtering Alvo Redondo de Titânio à Venda

US$ 80,00-300,00
1 Peça(MOQ)
Revestidor de Filme Decorativo Cicel (CCZK-ION)

Revestidor de Filme Decorativo Cicel (CCZK-ION)

US$ 45 000,00-150 000,00
1 Conjunto(MOQ)
Planta de Vácuo para Revestimento de Filmes Low-E em Painéis de Coletor Solar

Planta de Vácuo para Revestimento de Filmes Low-E em Painéis de Coletor Solar

US$ 45 000,00-150 000,00
1 Conjunto(MOQ)
Máquina de Revestimento PVD para Colher e Garfo de Plástico Descartável Planta de Metalização a Vácuo para Utensílios de Plástico Planta de Revestimento a Vácuo

Máquina de Revestimento PVD para Colher e Garfo de Plástico Descartável Planta de Metalização a Vácuo para Utensílios de Plástico Planta de Revestimento a Vácuo

US$ 45 000,00-150 000,00
1 Conjunto(MOQ)
1/4

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Nitreto de boro (BN) alvo de perfuração PVD em nitrito cerâmico, diboreto de titânio, boreto de titânio, tamanho personalizado, colagem da placa de apoio

Nitreto de boro (BN) alvo de perfuração PVD em nitrito cerâmico, diboreto de titânio, boreto de titânio, tamanho personalizado, colagem da placa de apoio

Negociável
1 Peça(MOQ)
Titanato de bário alvo Batio3, bário estrôncio titanato alvo Basrtio3, PVD Magnetron Sputtering Target, Laboratório consumível

Titanato de bário alvo Batio3, bário estrôncio titanato alvo Basrtio3, PVD Magnetron Sputtering Target, Laboratório consumível

Negociável
1 Peça(MOQ)
Material alvo de óxido de zinco de elevada pureza alumínio (AZO), óxido de zinco (ZnO) dopado com óxido de alumínio (Al2O3), alvo de óxido de gagueira Magnetron, ligação de placa traseira

Material alvo de óxido de zinco de elevada pureza alumínio (AZO), óxido de zinco (ZnO) dopado com óxido de alumínio (Al2O3), alvo de óxido de gagueira Magnetron, ligação de placa traseira

Negociável
1 Peça(MOQ)
MATERIAL alvo DE ÓXIDO DE ÍTO (óxido de estanho), película condutora transparente de óxido de estanho semicondutor, alvo de gagueira de magnetron

MATERIAL alvo DE ÓXIDO DE ÍTO (óxido de estanho), película condutora transparente de óxido de estanho semicondutor, alvo de gagueira de magnetron

Negociável
1 Peça(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 anos
·Fabricante / Fábrica
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Revestidor de Sputtering Magnetron de Duplo Alvo RF de Cerâmica, Die elétrica, Óptica, Óxido, Filme Duro, Filme de PTFE

Revestidor de Sputtering Magnetron de Duplo Alvo RF de Cerâmica, Die elétrica, Óptica, Óxido, Filme Duro, Filme de PTFE

US$ 26 500,00
1 Peça(MOQ)
Revestimento por Sputtering Magnetron de Alvo Único com Monitor de Espessura de Filme

Revestimento por Sputtering Magnetron de Alvo Único com Monitor de Espessura de Filme

US$ 18 000,00-19 200,00
1 set(MOQ)
Revestimento por Sputtering Magnetron de Um, Dois e Três Alvos com Monitor de Espessura de Filme

Revestimento por Sputtering Magnetron de Um, Dois e Três Alvos com Monitor de Espessura de Filme

US$ 60 000,00-61 200,00
1 set(MOQ)
Sputtering Magnetron de Alvo Único com Função de Enrolamento de Fibra Óptica

Sputtering Magnetron de Alvo Único com Função de Enrolamento de Fibra Óptica

US$ 28 000,00-29 500,00
1 set(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 anos
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Quatro Coatedores de Sputtering Magnetron da Target com Câmara de Carga para Filme Fino Cerâmico

Quatro Coatedores de Sputtering Magnetron da Target com Câmara de Carga para Filme Fino Cerâmico

US$ 28 500,00-40 100,00
1 Peça(MOQ)
Aparelho de Revestimento por Sputtering de Magnetron de Alvo Único em Aço Inoxidável de Mesa

Aparelho de Revestimento por Sputtering de Magnetron de Alvo Único em Aço Inoxidável de Mesa

US$ 8 730,00-8 900,00
1 Peça(MOQ)
Deposição por Sputtering de Magnetron de Duplo Alvo DC RF para Filmes Finos de Metal e Óxido

Deposição por Sputtering de Magnetron de Duplo Alvo DC RF para Filmes Finos de Metal e Óxido

US$ 21 000,00-26 000,00
1 Peça(MOQ)
3 Revestidor de Sputtering Magnetron de Três Polegadas

3 Revestidor de Sputtering Magnetron de Três Polegadas

US$ 28 500,00-40 100,00
1 Peça(MOQ)
1/4

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Nitreto de boro (BN) alvo de perfuração PVD em nitrito cerâmico, diboreto de titânio, boreto de titânio, tamanho personalizado, colagem da placa de apoio

Nitreto de boro (BN) alvo de perfuração PVD em nitrito cerâmico, diboreto de titânio, boreto de titânio, tamanho personalizado, colagem da placa de apoio

Negociável
1 Peça(MOQ)
MATERIAL alvo DE ÓXIDO DE ESTANHO (ITO), película condutora transparente de óxido de estanho semicondutor, alvo de gagueira de magnetron, especificações personalizadas

MATERIAL alvo DE ÓXIDO DE ESTANHO (ITO), película condutora transparente de óxido de estanho semicondutor, alvo de gagueira de magnetron, especificações personalizadas

Negociável
1 Peça(MOQ)
Titanato de bário alvo Batio3, bário estrôncio titanato alvo Basrtio3, PVD Magnetron Sputtering Target, Laboratório Consumíveis, partículas, colagem de apoio

Titanato de bário alvo Batio3, bário estrôncio titanato alvo Basrtio3, PVD Magnetron Sputtering Target, Laboratório Consumíveis, partículas, colagem de apoio

Negociável
1 Peça(MOQ)
Material alvo Igzo (óxido de zinco de gálio índio) de elevada pureza para revestimento a vácuo de gretamento de pVD Magnetron, pesquisa e material experimental

Material alvo Igzo (óxido de zinco de gálio índio) de elevada pureza para revestimento a vácuo de gretamento de pVD Magnetron, pesquisa e material experimental

Negociável
1 Peça(MOQ)

Huita Opto-Electronic Materials Co., Ltd

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ITO (comprimidos) Alvo de pulverizaça ̃ o

ITO (comprimidos) Alvo de pulverizaça ̃ o

Negociável
5 Peças(MOQ)
Zircónio alvo de pulverizaça ̃ o

Zircónio alvo de pulverizaça ̃ o

Negociável
5 Peças(MOQ)
Coroa Tiox

Coroa Tiox

Negociável
5 Peças(MOQ)
ALVO ITO

ALVO ITO

Negociável
5 Peças(MOQ)

Jiangyin Maideli Advanced Materials Co., Ltd.

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Ybco Yba2Cu3O7 Ítrio bário óxido de cobre da coroa de pulverizaça ̃ o

Ybco Yba2Cu3O7 Ítrio bário óxido de cobre da coroa de pulverizaça ̃ o

US$ 250,00-500,00
1 Peça(MOQ)

China Rare Metal Material Co., Ltd.

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Metas de pulverizaça ̃ o de cerâmica

Metas de pulverizaça ̃ o de cerâmica

US$ 100,00
1 Peça(MOQ)

Deyang Aijialun Vacuum Technology Co., Ltd.

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ITO alvo de pulverizaça ̃ o

ITO alvo de pulverizaça ̃ o

US$ 20,00-1 000,00
1 Conjunto(MOQ)

Hunan Ultra Minor Metals Ltd

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Alvo de ósmio de elevada pureza para pulverização catódica alvo para a indústria de Filme Fino

Alvo de ósmio de elevada pureza para pulverização catódica alvo para a indústria de Filme Fino

Negociável
1 Peça(MOQ)

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Alvo de Gadolínio de Alta Pureza para Fabricação Avançada de Eletrônicos

Alvo de Gadolínio de Alta Pureza para Fabricação Avançada de Eletrônicos

US$ 55,00-85,00
1 Peça(MOQ)
Alvo de Metal de Yttrio de Alta Pureza para Armazenamento Avançado de Dados

Alvo de Metal de Yttrio de Alta Pureza para Armazenamento Avançado de Dados

US$ 115,00-130,00
1 Peça(MOQ)
Alvo de Sputtering de Lantânio de Alta Pureza Premium para Eletrônicos

Alvo de Sputtering de Lantânio de Alta Pureza Premium para Eletrônicos

US$ 150,00-350,00
1 Peça(MOQ)
Alvo de Sputtering de Yttrio de Alta Pureza para Tecnologia Avançada de Laser

Alvo de Sputtering de Yttrio de Alta Pureza para Tecnologia Avançada de Laser

US$ 115,00-130,00
1 Peça(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 anos·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Mo1 Preço do Alvo de Sputtering de Molibdênio

Mo1 Preço do Alvo de Sputtering de Molibdênio

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Alvo de Molibdênio de Alta Qualidade Placa de Molibdênio

Alvo de Molibdênio de Alta Qualidade Placa de Molibdênio

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Barco Tzm de Molybdênio Mais Confiável

Barco Tzm de Molybdênio Mais Confiável

US$ 31,00-54,00
1 kg(MOQ)
Barco de Molibdênio Profissional à Venda

Barco de Molibdênio Profissional à Venda

US$ 31,00-54,00
1 kg(MOQ)
1/2

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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Alvo de pulverizaça ̃ o óxido de estanho fosfeto de ITO 4n 99,99% para revestimento óptico

Alvo de pulverizaça ̃ o óxido de estanho fosfeto de ITO 4n 99,99% para revestimento óptico

Negociável
1 Peça(MOQ)
Rare Earth Cerium Dioxide CEO2 99.95% Ceramic Sputtering Target PVD Coating

Rare Earth Cerium Dioxide CEO2 99.95% Ceramic Sputtering Target PVD Coating

Negociável
1 Peça(MOQ)
Alvo de pulverizaça ̃ o de cerâmica em vários formatos para revestimento PVD alvo compostos

Alvo de pulverizaça ̃ o de cerâmica em vários formatos para revestimento PVD alvo compostos

Negociável
1 Peça(MOQ)
Dióxido de carbono Sio2 Grânulos de alvo de pulverizaça ̃ o de cerâmica para revestimento de evaporação

Dióxido de carbono Sio2 Grânulos de alvo de pulverizaça ̃ o de cerâmica para revestimento de evaporação

Negociável
1 Kg(MOQ)

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 anos
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Cátodo Rotativo, Alvo em Tubo Cilíndrico para Máquina de Revestimento

Cátodo Rotativo, Alvo em Tubo Cilíndrico para Máquina de Revestimento

US$ 6 700,00-6 800,00
2 sets(MOQ)
5-200kw Fonte de Sputtering Típica para Indústrias de Revestimento de Filmes Finos Cátodo de Sputter Magnetron Rotativo Alvo de Sputtering Rotativo

5-200kw Fonte de Sputtering Típica para Indústrias de Revestimento de Filmes Finos Cátodo de Sputter Magnetron Rotativo Alvo de Sputtering Rotativo

US$ 6 900,00-7 000,00
2 sets(MOQ)
Máquina de Revestimento por Sputtering Magnetron de Alta Precisão para Substratos de Metal, Vidro e Cerâmica

Máquina de Revestimento por Sputtering Magnetron de Alta Precisão para Substratos de Metal, Vidro e Cerâmica

US$ 80 000,00-180 000,00
1 Conjunto(MOQ)
Máquina de Sputtering Magnetron PVD para Tratamento de Superfície Cerâmica

Máquina de Sputtering Magnetron PVD para Tratamento de Superfície Cerâmica

US$ 80 000,00-180 000,00
1 Conjunto(MOQ)
1/4

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

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99.999% Placa de Alvo de Sputtering de Silício Monocristalino de Alta Pureza / Alvo Cerâmico de Silício

99.999% Placa de Alvo de Sputtering de Silício Monocristalino de Alta Pureza / Alvo Cerâmico de Silício

US$ 200,00-10 000,00
1 Peça(MOQ)
4n Alvo Azo ZnO: Al2O3 Alvos de Sputtering Rotativo

4n Alvo Azo ZnO: Al2O3 Alvos de Sputtering Rotativo

US$ 200,00-10 000,00
1 Peça(MOQ)
Alvos de Sputtering de Grafite de Carbono de Alta Pureza em Tamanho Personalizado 99.99% Alvo de Cobre de Ligação

Alvos de Sputtering de Grafite de Carbono de Alta Pureza em Tamanho Personalizado 99.99% Alvo de Cobre de Ligação

US$ 200,00-10 000,00
1 Peça(MOQ)
4n Nbo2 Alvos de Óxido de Nióbio Alvos Rotativos Alvos Planos

4n Nbo2 Alvos de Óxido de Nióbio Alvos Rotativos Alvos Planos

US$ 200,00-10 000,00
1 Peça(MOQ)

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 anos
·Empresa Comercial
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Preço de Fábrica Vender Alta Qualidade Alvo de Sputtering ITO 4n In2o3 e Sno2

Preço de Fábrica Vender Alta Qualidade Alvo de Sputtering ITO 4n In2o3 e Sno2

Negociável
1 Piece(MOQ)
Preço de Fábrica Vender Baixa Densidade 4n Alvo Redondo Pequeno ITO

Preço de Fábrica Vender Baixa Densidade 4n Alvo Redondo Pequeno ITO

Negociável
1 Piece(MOQ)
Preço de Fábrica Vender Alta Pureza Alvo ITO para Rpd 4n

Preço de Fábrica Vender Alta Pureza Alvo ITO para Rpd 4n

Negociável
1 Piece(MOQ)
Alvo de Metal ITO de Alta Pureza 4n Óxido de Índio e Óxido de Estanho In2o3 e Sno2

Alvo de Metal ITO de Alta Pureza 4n Óxido de Índio e Óxido de Estanho In2o3 e Sno2

Negociável
1 Piece(MOQ)
1/4

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

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Bi2TE3 Alvo de pulverizaça ̃ o

Bi2TE3 Alvo de pulverizaça ̃ o

Negociável
1 Peça(MOQ)
Al2O3 Alvo de pulverizaça ̃ o de cerâmica

Al2O3 Alvo de pulverizaça ̃ o de cerâmica

Negociável
1 Peça(MOQ)
Metas cilíndrico azóicos

Metas cilíndrico azóicos

Negociável
1 Peça(MOQ)
Bi2O3 Alvo de pulverizaça ̃ o de cerâmica

Bi2O3 Alvo de pulverizaça ̃ o de cerâmica

Negociável
1 Peça(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

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Planar rotativo ITO alvo, Magnetron pulverização catódica alvo, Na2O3: Sno2 alvo, 90: 10 ITO, 95: 5 ITO, 97: 3 ITO

Planar rotativo ITO alvo, Magnetron pulverização catódica alvo, Na2O3: Sno2 alvo, 90: 10 ITO, 95: 5 ITO, 97: 3 ITO

Negociável
10 Kg(MOQ)
Tiox rotativo alvo, principalmente para aplicativos de baixa e revestimento de vidro, Magnetron pulverização catódica alvo, alvo de óxido de titânio

Tiox rotativo alvo, principalmente para aplicativos de baixa e revestimento de vidro, Magnetron pulverização catódica alvo, alvo de óxido de titânio

Negociável
1 Peça(MOQ)
Heterojunction ITO alvo, alvo de pulverizaça ̃ o ito de elevada pureza para Heterojunction, 97: 3 Hjt ITO Target

Heterojunction ITO alvo, alvo de pulverizaça ̃ o ito de elevada pureza para Heterojunction, 97: 3 Hjt ITO Target

Negociável
1 Peça(MOQ)
Carregador giratório da coroa Nbox 99,95% da coroa de pulverizaça ̃ o de alta qualidade

Carregador giratório da coroa Nbox 99,95% da coroa de pulverizaça ̃ o de alta qualidade

Negociável
2 Peças(MOQ)
14
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