Informação Básica
Revestimento
Revestimento de Vácuo
Pacote de Transporte
caixa de madeira
Especificação
personalizado
Descrição de Produto
Descrição do produto
Este sistema de revestimento é uma estrutura circular da câmara de vácuo, com escape na parte traseira e uma estrutura da porta dianteira, e é feito de aço inoxidável austenítico de alta qualidade. Um (dois) 2-polegada (ou 3-polegada) alvos sputtering do magnetron são instalados na placa superior da câmara de deposição sputtering. A direção do feixe de saída é em direção ao rack de substrato e uma película fina é obtida no substrato. O equipamento tem uma estrutura simples e pode ser utilizado para pesquisar e desenvolver filmes funcionais de camada única e multicamada de nanoescala, tais como filmes duros, filmes de metal, filmes semicondutores, filmes dieléctricos, filmes compostos, películas ferromagnéticas, películas magnéticas e outros novos materiais de película fina. .
Principais parâmetros do sistema l grau máximo de vácuo: ≤ 6 × 10-5PA (obtido no espaço de 12 horas em condições de limpeza e de cozedura e desgaseificação);
l tempo de aspiração: No espaço de 30 minutos, ≤ 6 × 10 - 4 Pa;
l temperatura de aquecimento do substrato: ≤ 600ºC C;
l tamanho do substrato: ≤ Φ3inch bolacha;
l número de suportes de substrato: 1 conjunto;
l tamanho alvo: 50 mm de diâmetro (opcional 3 polegadas);
l número de alvos: 1 ou 2;
l dimensão da câmara de vácuo: DN250 * 340 (pode ser ajustado adequadamente de acordo com as condições reais);
l distância de deslocação do suporte de substrato: ≤ 50 mm (direcção axial);
l ângulo entre o eixo alvo e o eixo de rotação do substrato: Co-entortamento;
l sistema de gás: Entrada de ar de 2 vias, sendo 1 utilizado para o escape;
| Item | Especificações e Descrição |
| Câmara de vácuo | Câmara de vácuo de entortamento | DN220 * 320, o tamanho pode ser ajustado de acordo com os requisitos de design, a tampa superior pode ser aberta e a porta pode ser aberta |
Válvula de borboleta de vácuo ultra-elevada | DN100, controlo eléctrico, função de pressão constante automática opcional |
Bomba molecular | Bomba molecular 110L/S ou 150L/S |
Bomba mecânica | A bomba de palheta rotativa DVR16 também serve como bomba de pré-alimentação e bomba de avanço |
Válvula deflectora | Válvula deflectora electromagnética DN25, tubagem de pré-bomba ligada/desligada |
Válvula de paragem | válvula de paragem elétrica de interface de virola dupla de 6 mm |
Dispositivo de iluminação e cozedura | Opcional |
Vários tipos de flanges e janelas de observação | DN16, 35, 63, 100, 150 |
Tubagens de aço inoxidável, juntas de tubos | Várias especificações de tubos de precisão em aço inoxidável, foles, juntas de tubos |
| Medição de vácuo e admissão de ar | Manómetro de vácuo composto digital | manómetro de vácuo composto 5227 ou manómetro de gama completa importado opcional |
Manómetro sem revestimento metálico | Interface metálica ZJ52T, ZJ27 |
Controlador do fluxo de massa | D07-7B controlador de fluxo de massa, gama de 100 cm |
Tubos e conectores | Câmara de gás mista |
Válvula de paragem | válvula de paragem elétrica de interface de virola dupla de 6 mm |
Interfaces de admissão e outras interfaces de controlo | Controlo eléctrico da válvula reguladora da pressão, retorno disponível |
| Suporte de amostras | Suporte de substrato rotativo | Rotação de substratos, elevação de suportes de substrato |
Dispositivo de elevação | Ajuste manual de elevação |
Dispositivo de aquecimento de substrato de entortamento | ≤ 600ºC dispositivo de aquecimento opcional |
Fonte de alimentação do controlo da temperatura | Controlo da temperatura da Shimaden no Japão, controlo da temperatura PID |
| Sistema de entortamento | Alvo de sputtering de controlo magnético | Alvo de rotação integrado, opcional de 2 ou 3 polegadas, com deflector |
Fonte de alimentação de rotação | 500 W, CC ou RF opcional |
Rack de equipamento | Disposição integrada |
Sistema de água e gás | Incluindo máquina de água de refrigeração |
Sistema de controlo | Controlo automático manual de série, com ecrã táctil opcional |
Principais parâmetros do sistema:
l grau máximo de vácuo: ≤ 5 × 10-5PA (obtido no espaço de 12 horas em condições de limpeza e de cozedura e desgaseificação);
l tempo de aspiração: No espaço de 40 minutos, ≤ 5 × 10-4Pa;
l temperatura de aquecimento do substrato: ≤ 600ºC C (aquecimento da lâmpada de tungsténio iodo);
l tamanho do substrato: ≤ Φ3inch bolacha redonda;
l tamanho alvo: 2 polegadas ou 3 polegadas;
l número de alvos: 3;
l tamanho da câmara de vácuo: 400 × 400 × H380 ~ 450 (pode ser ajustado adequadamente de acordo com as condições reais);
l distância de deslocação do suporte de substrato: ≤ 50 mm (direcção axial);
l ângulo entre o eixo alvo e o eixo de rotação do substrato: Co-entortamento;
l sistema de gás: Entrada de ar de 4 vias, 1 das quais para escape;
Esta pequena máquina de revestimento tem uma estrutura compacta e um aspeto simples e elegante. É fácil de utilizar e manter e tem baixos custos operacionais. A unidade principal e o sistema de controlo electrónico deste dispositivo adoptam um design integrado. A unidade principal é composta por um suporte de equipamento, um sistema de bombagem e uma câmara de vácuo. O processo de revestimento é realizado na câmara de vácuo de entortamento; a parte de controlo eletrónico adota um armário de controlo padrão, que contém várias caixas de encaixe modulares. O sistema é potente e tem um desempenho estável.
Os parâmetros básicos da máquina de revestimento de pó magnetrão de vácuo ultra-elevado são os seguintes:
l vácuo máximo da câmara de revestimento: ≤ 6 × 10-5PA;
l tempo de bombagem: Superior a 6 × 10-4Pa no espaço de 30 minutos;
l tamanho da câmara de vácuo: 300 × 300 × H350mm, a câmara de vácuo é feita de aço inoxidável;
l tamanho e quantidade alvo: 2 φ50mm alvos magnéticos permanentes;
l a distância alvo-substrato é ajustável (40 ~ 100 mm, ajustada pela posição alvo);
l rotação do substrato: 0~60 rpm ajustável; equipado com aquecimento, pode ser aquecido até 500 graus;
l tamanho principal da máquina: Cerca de 1100 mm de comprimento × 750 mm de largura × 1650 mm de altura;
l tipo gás: MFC de 2 vias, ar de gás de trabalho e gás de reacção;
l medição da espessura da película: Equipada com um conjunto de medidor de espessura da película de cristal de quartzo e sonda original (opcional);
l sistema de controlo: O ecrã de toque e o controlo PLC são adoptados para controlar o arranque e paragem de bombas, válvulas e vários alarmes de saída;
Principais parâmetros do sistema:
l grau máximo de vácuo: ≤ 5 × 10-5PA (obtido no espaço de 12 horas em condições de limpeza e de cozedura e desgaseificação);
l tempo de aspiração: No espaço de 40 minutos, ≤ 5 × 10-4Pa;
l temperatura de aquecimento do substrato: ≤ 600ºC C (aquecimento da lâmpada de tungsténio iodo);
l tamanho do substrato: ≤ Φ3inch bolacha redonda;
l tamanho alvo: 2 polegadas ou 3 polegadas;
l número de alvos: 4;
l dimensão da câmara de vácuo: 500 × 500 × H450 (pode ser ajustado adequadamente de acordo com as condições reais);
l distância de deslocação do suporte de substrato: ≤ 50 mm (direcção axial);
l ângulo entre o eixo alvo e o eixo de rotação do substrato: Co-entortamento;
l sistema de gás: 4 entradas de ar, 1 das quais para escape;
Os parâmetros básicos da máquina de revestimento de pó magnetrão de vácuo ultra-elevado são os seguintes:
l vácuo máximo da câmara de revestimento: ≤ 6 × 10-5PA;
l tempo de bombagem: Superior a 8 × 10-4Pa no espaço de 30 minutos;
l tamanho da câmara de vácuo: 300 mm × 300 mm × H400 mm, a câmara de vácuo é feita de aço inoxidável e está equipada com uma janela de observação de vidro;
l tamanho e quantidade alvo: 2 φ50mm alvos magnéticos permanentes (integrados);
fonte de alimentação de rotação: 2 fontes de alimentação de entortação CC digitais de 500 W;
l controlo da pressão, equipado com um manómetro de película e uma válvula de borboleta eléctrica para obter um controlo constante da pressão;
l distância de deslocação horizontal de 0 ~ 80 mm, equipada com placa de isolamento para evitar a queda de escória durante o movimento;
l sistema de pressão a quente: Temperatura de aquecimento do substrato inferior: 0 ~ 600ºC continuamente ajustável. A placa superior é controlada pneumaticamente para pressionar;
l tamanho da unidade principal: Comprimento 1060 mm × largura 600 mm × altura 1600 mm; (o tamanho será ajustado adequadamente de acordo com as necessidades)
l tipo gás: Controlador de fluxo de massa de 2 vias, admissão de ar de 2 vias;
Perfil da empresa
A nossa empresa pode fornecer aos clientes soluções de design de sistemas de revestimento a vácuo diversificadas, que podem obter de forma flexível uma deposição em conjunto, deposição de película multicamada, películas isolantes e preparação de películas compostas, satisfazendo os requisitos de preparação de películas em vários campos. A máquina multifuncional de revestimento de evaporação desenvolvida é amplamente utilizada na investigação e desenvolvimento de produtos OLED e OPV. Com base na configuração padrão, nossa empresa pode personalizar máquinas de revestimento para finalidades específicas, instrumentos de revestimento portáteis, instrumentos de teste e produtos de vácuo não-padrão de acordo com as necessidades do cliente.
Certificações
Embalagem e envio
Satisfação do cliente, nossa responsabilidade!
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Orientação remota : Fornecer suporte técnico , como telefone e correio remoto; serviço no local: Manutenção do site de vídeo, suporte técnico e outros serviços;
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Serviço de estagnação: Fornecer serviços de estagnação de longo prazo necessários para o projeto.
Endereço:
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Tipo de Negócio:
Fabricante / Fábrica, Empresa Comercial
Escala de Negócios:
Elétrico & Eletrônico, Equipamentos Industriais & Componentes, Maquinaria de Manufatura & Processamento
Certificação de Sistema de Gestão:
ISO 9001, ISO 9000, ISO 14001
introdução da companhia:
A ACME é uma empresa de engenharia, fabrico e consultoria para produtos de energia, um fabricante e fornecedor de energia de frequência estabilizada CA, fonte de alimentação de frequência variável, aviação-militar dedicada A FONTES de alimentação estáticas, fonte de alimentação CC, fonte de alimentação de inversor, fonte de alimentação de comutação (SMPS), fonte de alimentação ininterrupta (UPS) de 25 Hz ~ 1 kHz, Fonte de alimentação de emergência (EPS), carga electrónica alimentada por energia, fonte de alimentação reactiva e outra fonte de alimentação abrangente.
Através da acumulação técnica e reserva de talentos, a empresa tem treinado uma equipe de talentos de gestão de alta qualidade e talentos de P&D. O forte investimento em I&D faz com que os produtos sejam constantemente atualizados para atender às diferentes necessidades dos usuários.
Ser internacional excelente é o objetivo da luta persistente da empresa. OS produtos de poder DE ACME têm sido amplamente utilizados na informação, eletrodomésticos, aviação, aeroespacial, ferroviário, energia elétrica, telecomunicações, petróleo, produtos químicos, carvão, financiamento, valores mobiliários, rádio e televisão, inspecção de qualidade, segurança pública, militares, construção naval, medicina e saúde, agências governamentais, educação e outros sistemas e indústrias, e têm uma boa reputação.
A satisfação do cliente é o nosso objetivo final!