• 3n, cromado de elevada pureza - alumínio com relevo Target Flat Plate/Chrome - alvos rotativos em alumínio
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3n, cromado de elevada pureza - alumínio com relevo Target Flat Plate/Chrome - alvos rotativos em alumínio

Aplicação: Industrial
fórmula: Chrome-Aluminum
classificação: Alloy Traget
padrão de qualidade: grau industrial
certificação: iso
forma: Rotary,Flat,Round

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Membro de Ouro Desde 2023

Fornecedores com licênças comerciais verificadas

Guangdong, China
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Informação Básica.

N ° de Modelo.
CYT-CrAl
Pacote de Transporte
Wooden Box
Especificação
Customized Size
Marca Registrada
CANYUAN
Origem
China
Capacidade de Produção
1000PCS

Descrição de Produto

3n, High Purity Chrome-Aluminum Sputtering Target Flat Plate /Chrome-Aluminum Rotating Targets

O alvo rotativo cromo-alumínio é produzido utilizando processos de pulverização ou prensagem isoestática quente, e pode produzir um comprimento máximo de 4000mm, com espessura e proporções personalizadas de acordo com os requisitos do cliente.

O alvo plano de crómio-alumínio é produzido utilizando tecnologia de prensagem isoestática quente, que tem as vantagens de um tamanho de grão fino e uniforme e uma longa vida útil. Pode produzir alvos com um comprimento máximo de 1600 mm e uma largura máxima de 400 mm, com dimensões e proporções baseadas nos requisitos do cliente.

Personalizado de acordo com os requisitos do cliente.

Parâmetros técnicos

Pureza: 99.8-99.95%; relação comum: 90:10at%, 75:25at%, 50:50at%, etc.

Áreas de aplicação: Revestimento de ferramentas de corte de liga rígida e moldes de tratamento térmico para melhorar a resistência ao desgaste e a temperatura de serviço da camada de revestimento.

 

Podemos fazer  alvos planos de rotulação de cromo-tungstênio e rotatório.
A especificação e a pureza podem ser personalizadas.
A tabela de descrição e análise da composição do
crómio-titânio 3N de elevada pureza , como se segue:
 Especificação de alvos  
Aplicação Materiais de entortamento de PVD
Material alumínio cromado
Pureza 3N
Tamanho personalizado
Espessura personalizado
Forma Alvo de sputtering rotativo, tipo de anel, tipo de folha, tipo de Plat e tipo de tubo
Densidade - g/cm3
Ponto de fusão - ºC
Produza método ANCA
3n, High Purity Chrome-Aluminum Sputtering Target Flat Plate /Chrome-Aluminum Rotating Targets

Nossa vantagem
3n, High Purity Chrome-Aluminum Sputtering Target Flat Plate /Chrome-Aluminum Rotating Targets
3n, High Purity Chrome-Aluminum Sputtering Target Flat Plate /Chrome-Aluminum Rotating Targets


Processo de operação
3n, High Purity Chrome-Aluminum Sputtering Target Flat Plate /Chrome-Aluminum Rotating Targets
3n, High Purity Chrome-Aluminum Sputtering Target Flat Plate /Chrome-Aluminum Rotating Targets

Imagem de embalagem
3n, High Purity Chrome-Aluminum Sputtering Target Flat Plate /Chrome-Aluminum Rotating Targets
3n, High Purity Chrome-Aluminum Sputtering Target Flat Plate /Chrome-Aluminum Rotating Targets
3n, High Purity Chrome-Aluminum Sputtering Target Flat Plate /Chrome-Aluminum Rotating Targets


Aplicação:
3n, High Purity Chrome-Aluminum Sputtering Target Flat Plate /Chrome-Aluminum Rotating Targets
3n, High Purity Chrome-Aluminum Sputtering Target Flat Plate /Chrome-Aluminum Rotating Targets
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Material Pureza
(N)
Componentes
(wt%)
Densidade Derretimento
 Ponto
Térmico
Condutividade
(WM-1K-1)
Coeficiente de
 expansão
(10-6k-1)
Produção
 Processo
Liga Al 5N - 2.7 660 235 23.1 Fundição
CR 3N5 - 7.22 1907 94 4.9 ANCA
Cu 4N - 8.9 1084 400 16.5 Fundição
Liga MO 3N5 - 10.28 2623 139 4.8 ANCA
Nota 4N - 8.6 2477 54 7.3 Fundição
TA 4N - 16.7 3017 57 6.3 Fundição
Si 4N - 2.33 1414 150 2.6 Sinterização e aspersão
TI 5N - 4.5 1670 22 8.6 Fundição
W 4N - 19.25 3422 174 4.5 ANCA
AZO 3N5 98:2 5.6 1975 22 1.5 Sinterização
ITO 4N 90:10 7.15 2000 15 2.0 Sinterização
GZO 3N5 CONFORME SOLICITADO 7.15 - - - Sinterização
IGZO 4N CONFORME SOLICITADO - - - - Sinterização
NbOx 4N - 4.6 1460 5 1.5 Sinterização e aspersão
TIOX 4N - 4.23 1800 4 7.14 Sinterização e aspersão
 

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Fabricante / Fábrica
Produtos Principais
Sputtering Target
Número de Empregados
6