• 3n5 alvo rotativo de entoamento de molibdénio de elevada pureza
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3n5 alvo rotativo de entoamento de molibdénio de elevada pureza

Aplicação: Industrial
fórmula: molibdénio
classificação: Metal Traget
padrão de qualidade: grau industrial
certificação: iso
forma: rotativo

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Guangdong, China
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Informação Básica.

N ° de Modelo.
CYT-Mo
Pacote de Transporte
Wooden Box
Especificação
Customized Size
Marca Registrada
CANYUAN
Origem
China
Capacidade de Produção
1000PCS

Descrição de Produto


 
3n5 High Purity Molybdenum Rotating Sputtering TargetO molibdénio é um metal branco-prateado duro e resistente, com um ponto de fusão elevado e uma condutividade térmica elevada. Não reage com o ar a temperaturas normais. Como elemento de transição, é extremamente fácil mudar o seu estado de oxidação e a cor dos iões de molibdénio também muda com a mudança do estado de oxidação. O molibdénio é um elemento essencial para o homem e para os animais, bem como para as plantas, desempenhando um papel importante no seu crescimento, desenvolvimento e genética. Devido às suas vantagens de alta resistência, alto ponto de fusão, resistência à corrosão, resistência ao desgaste, etc., o molibdénio é amplamente utilizado em aço, óleo, produtos químicos, tecnologia eléctrica e electrónica, medicina e agricultura.

Na indústria electrónica, a aplicação de alvos de esvoamento de molibdénio centra-se principalmente em ecrãs de painel plano, eléctrodos de células solares de película fina e materiais de cablagem, bem como materiais de camada de barreira semicondutor. O molibdénio tem um ponto de fusão elevado, uma condutividade eléctrica elevada, uma boa resistência à corrosão e outras características. Além disso, a sua resistividade específica e o stress cinematográfico são apenas metade da do crómio. Além disso, o molibdénio é um material ecológico que não requer preocupações sobre a poluição ambiental. Por isso, o molibdénio tornou-se um dos materiais preferidos para alvos de entortamento em ecrãs de painel plano. A adição de molibdénio aos elementos LCD pode melhorar significativamente o brilho, o contraste, a cor e a vida útil dos LCDs. Além disso, os alvos de molibdénio são um dos materiais principais da indústria de semicondutores. Mais especificamente, são matérias-primas essenciais em ecrãs de ecrã plano de cristais líquidos.


Podemos criar alvos planos de molibdénio e alvos rotativos.
A especificação e a pureza podem ser personalizadas.
A tabela de descrição e análise da composição do 
alvo de molibdénio de elevada pureza 3N5, conforme se segue:

  
 Especificação de alvos  
Aplicação Materiais de entortamento de PVD
Material Molibdénio
Pureza 3N5
Tamanho personalizado
Espessura personalizado
Forma Alvo de rotação, tipo anel, tipo de tubo
Densidade 10,2 g/cm3
Ponto de fusão 2610ºC
Produza método ANCA

3n5 High Purity Molybdenum Rotating Sputtering Target

Nossa vantagem
3n5 High Purity Molybdenum Rotating Sputtering Target
3n5 High Purity Molybdenum Rotating Sputtering Target


Processo de operação
3n5 High Purity Molybdenum Rotating Sputtering Target
3n5 High Purity Molybdenum Rotating Sputtering Target

Imagem de embalagem
3n5 High Purity Molybdenum Rotating Sputtering Target
3n5 High Purity Molybdenum Rotating Sputtering Target
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Aplicação:
3n5 High Purity Molybdenum Rotating Sputtering Target
3n5 High Purity Molybdenum Rotating Sputtering Target
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Material Pureza
(N)
Componentes
(wt%)
Densidade Derretimento
 Ponto
Térmico
Condutividade
(WM-1K-1)
Coeficiente de
 expansão
(10-6k-1)
Produção
 Processo
Al 3N - 2.7 660 235 23.1 Fundição
CR 3N5 - 7.22 1907 94 4.9 ANCA, fundição
Cu 4N - 8.9 1084 400 16.5 Fundição
Ni 3N5 - 4.5 1453 90 13 Fundição
TI 3N - 4.5 1668 15.2 9.4 Fundição
ZR 3N - 6.49 1852 0.227 - Fundição
Si 4N - 2.33 1414 150 2.6 Sinterização e aspersão
AG 4N - 10.49 961.93 429 19 Fundição
C 4N - 2.23 3850 ± 50 151 - ANCA
Tial 3N5 CONFORME SOLICITADO - - - - Fundição
InSn 4N CONFORME SOLICITADO - - - - Fundição
CrSi 4N CONFORME SOLICITADO - - - - Pulverize
CRW 4N CONFORME SOLICITADO 16.7 3017 57 6.3 ANCA
NiCr 3N CONFORME SOLICITADO - - - - Fundição
WC 3N CONFORME SOLICITADO 15.77 2870 110 5.5 Sinterização e aspersão
NbOx 4N CONFORME SOLICITADO 4.6 1460 5 1.5 Sinterização e aspersão

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Fabricante / Fábrica
Produtos Principais
Sputtering Target
Número de Empregados
6